【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置
「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオン源、イオンビーム技術の お問合せやご質問、デモンストレーションについては お気軽にご相談ください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
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基本情報
【仕様】 ●エッチング用イオンソース DC 11cm イオンソース SOLUS POWER SUPPLY ●真空チャンバー 到達圧力 6.0×10-5Pa台 動作圧力 3.0×10-2Pa台 ●シングルステージ 水冷機構 3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 不定形基板からMax 6inchiまで選択可能 ●排気系 主排気 TMPまたはCryo-pump 粗引き ドライポンプまたはロータリーポンプ その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
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企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。