コンパクト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性
インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」は、処理室と取出室を別にし、イオンソースもH/Lを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的な動作が可能になりました。 SFE‐B03に搭載したIGF-201型 100mmビームのイオンソースを2基搭載しています。 イオンソース1台あたり最大24個、計48個同時処理が可能です。 SFE-B03で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機構を本装置にも採用しております。 今までインラインでは困難であった小型ワーク(2.0×1.6、1.6×1.2)の周波数調整も、安定して量産できます。 ユニット毎に各機器の分解が可能で、メンテナンス性を考慮した設計となっています。 【装置性能】 ○タクトタイム :0.3sec/pc以下 ※18MHz以上のワーク、1列24個以上の場合 ○調整精度 :±1.5ppm以下 ○処理数 :最大24列(p4.0)×32列 ○生産量 :12000pcs /時間 以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ○ワークサイズ : SMD 2016以下の小型サイズにも適応可能 ○装置構成 : 3室(仕込室、処理室、取出室) インライン式 ※オプションで LDローダー(Oオーバー.Dドライブ付属)、 ULDとドッキングが可能 ○搬送系 : SFE-B03型と同じくX軸搬送をH/Lに各々採用 ○排気系 : 処理室 12インチCP 仕込室/取出室 RP+MBP ○イオンソース : 100mmビーム矩形型 ×2式 ⇒最大48個同時処理 ○計測器 : ネットワークアナライザー 4台 ○PC : Windows PC ×2台、DOS PC×2台 ○周調工程 : 2段階(H,LL) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報
お問い合わせ下さい。
納期
※お問い合わせ下さい。
用途/実績例
水晶デバイス周波数調整 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置(真空装置)を製造販売しております。