蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属
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基本情報
【特徴】 ○高曲率レンズに対しても付き廻りよく成膜することが可能 ○膜厚制御は成膜サイクル管理のみ ○オレフィン系樹脂など、低温成膜を必要とする基板にも対応可能 ○バッチ内，バッチ間膜厚分布に優れている ○省電力、省スペース化に対応 ○自動化への拡張が可能
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途・応用例】 ○ボールレンズ，ガルウィングレンズへの反射防止膜形成 ○高曲率レンズ，樹脂レンズへの光学薄膜形成 ○複雑な形状をした基板への均一な成膜
企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。
