小型・低価格な実験用レーザーリフトオフ装置。フレキシブルディスプレイの試作、材料開発に！
『LSL-10』は、固体UVパルスレーザでラインビームを形成しワーク上の 基板をステージで動かし、全面にLLOプロセスを行うための実験装置です。 LLOはガラスやサファイアなどレーザ光を透過する基板を用いて レーザ照射により瞬間的に界面の剥離が可能です。 当装置は、小型・低価格でキャスターによる移動が可能。 クラス4の安全対策を実現しています。 【特長】 ■小型・低価格（キャスターにより移動可能） ■AC100V電源のみで使用できる ■クラス4の安全対策（光路/摺動部遮蔽・インターロック） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■波長：355nm ■ラインビームサイズ：10mm×1mm ■照射エネルギー密度：25～250mJ/cm2（バリアブルアッテネータ） ■ワークサイズ(mm)：最大150×150、オプション G2（370×470） ■処理能力：約5分（100×100基板） ■ステージストローク：200mm×200mm ■装置サイズ（mm）：L1200×W900×H1500 ■ユーティリティ：AC100V±10％ 15A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【活用状況】 ■フレキシブルディスプレイ後工程 ■LED製造 ■極薄シリコンウエハ工程 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
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