応答速度および繰り返し性に優れたガス流量コントロール用アプリケーション
『GF100シリーズ』は、優れた応答速度および繰り返し性で、高清浄度 および超高清浄度のプロセスガス供給を実現したメタルシールマスフロー コントローラ/メータです。 高い繰り返し性と安定性能を確保し、業界標準を超える信頼性をご提供。 業界最高レベルのガス清浄度を実現するとともに、プロセスの柔軟性と 効率性を向上し、収率と生産性を最大限に拡大することができます。 【特長】 ■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下 ■セトリングタイム：700 ms - 1秒以下 ■フルスケール流量レート 最大300 slpm ■メタルシール流路：4µ または 10µ インチ Raの表面仕上げオプション ■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサにより、温度が上昇しても、 測定の再現性を向上 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
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基本情報
【メリット】 ■半導体業界の標準に合わせた連続テストを実行した高性能部品 ■パージ時におけるドライダウン時間を短縮 ■新しいプロセスガスおよび/またはレンジを60秒以下で設定可能 ■ブランドを含むメタルシールMFCの不意の置き換えやアップグレードにも対応 ■便利なユーザー表示と独立した診断/サービスポート など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■半導体エッチングツール ■薄膜化学蒸着（CVD）システム（CVD、MOCVD、PECVD、ALD） ■物理蒸着（PVD）システム ■エピタキシャルプロセスシステム ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
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企業情報
当社は、重工業、石油・ガス精製、化学や石油化学の研究、薬品薬剤や生物医薬品の生産、また、太陽電池、LED、薄膜、光ファイバー、半導体の製造装置など、さまざまな分野でご利用いただく製品をご提供しております。 プロセスの制御、正確な測定を行える環境設定に貢献することで、お客様側のプロセスの精度が高まり、常にお客様が競争力を発揮できるよう寄り添い切磋琢磨しながら、ビジネスの発展と成長を遂げてまいりました。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。