1辺25mmトライアングルの有効エリア!単一基板に数百条件分の組成分布を形成します
『CMS-6420』は、PLD法では実現しにくかった成膜面積の拡大を図るべく 開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどの ライン後工程に投入できることから、成膜のみならず解析までを ハイスループット化できます。 【特長】 ■プロセスラインに適合可能な4インチウエハ対応 ■有効エリア:1辺25mmトライアングル ■2元&3元コンビ成膜に対応 ■LabVIEWレシピ入力&自動成膜 ■最大6元構成(マトリクス用2インチカソード6基) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【基本仕様(一部)】 ■2”マグネトロン・スパッタカソード6基 ■4”ウエハカセット対応ロードロックシステム ■25mm/辺の3元コンビ試料の作成 ■3元コンビ対応の精密移動マスク機構および基板回転機構 ■Co-Sputtering成膜に対応 ■自動圧力制御 ■プロセスパラメーターロギング機能 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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当社は、国立研究開発法人・物質・材料研究機構(NIMS)発の認定ベンチャー として設立され、コンビナトリアル薄膜成膜技術を用いた 新機能性材料開発を行っています。 1つの試料基板上に全ての組成の組み合わせを持つコンビナトリアル・ ライブラリーを作成することによって、機能性材料の開発期間を 著しく短縮し、開発をHigh Troughput化します。