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最終更新日:2021年03月29日

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SiC・GaN基板をCARE法で加工します!

『CARE-TEC(R)』は、究極の平坦面とダメージフリー化により、 デバイス性能を飛躍的に向上できる技術です。 加工液は環境に配慮した純水のみを使用しております。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■原子レベルの平坦性が得られる ■加工ダメージ(内部の潜傷)を除去可能 ■リーク電流を低減できる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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【CARE法の特長】 ■加工能率が高く、コストを低減 ■砥粒を使わず、傷や変質層が残らない→歩留まり100% ■原子レベルの超平坦性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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当社は、SiC・GaN基板加工、その他基板加工、半導体CMPパッド加工、 パッド加工装置製造、パッド検査装置製造などを行っております。 また、SiC・GaN基板の研磨をCARE法で行っております。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

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