FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。
このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途:MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H): 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) :1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ: 直径150 mm 最大基板キャリア:直径220 mm 対応プロセスガス: アルゴン、酸素、 その他 詳細はお問い合わせください。
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【主要アプリケーション】 ■反射防止膜 ■バンドパスフィルター ■エッジフィルター ■ノッチフィルター ■誘電体ミラー ■ダイクロミックミラー ■ビームスプリッター ■偏光フィルター ■ウエアラブルディスプレイ
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半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置のことなら当社へ 当社は、2016年3月に真空プロセスに関連する世界の先進技術を有する 海外メーカー数社の代理店業務ならびにこれら装置に係わる保守業務を 提供する目的で設立致しました。 当社の取扱製品・装置は、スパッタリング、高密度プラズマソースおよびパルス電源、 イオンビームエッチング・ミリング、イオンビームスパッタリング、 中性クラスターイオンビームプロセス装置、有機材料昇華精製並びに成膜装置、 液体用各種フィルター、洗浄用ブラシなど多岐にわたっています。