真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80amu）かつ高感度で分圧測定を実現。
プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1～80amuであり、2.0Pa以下（差動排気系不要）の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。 プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。 プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。 【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力領域を高感度で測定 ■メンテナンスサイクルが長く、低ランニングコスト ■さまざまなアラーム機能により、生産中に異常を検出 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 資料内の動作圧力に関する記載が「1.3Pa以下」となっておりますが、正しくは「2.0Pa以下」となります。
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基本情報
【仕様（抜粋）】 ■測定質量範囲：m/z 1～80 ■動作圧力：2.0Pa 以下 ■最小検知濃度：5ppm（H2 を除く）H2：100ppm ■SEM感度：7.5 × 10^-5 A/Pa 以上 ■ファラディ感度 ：7.5 × 10^-9 A/Pa 以上 ■接続フランジ：φ 70ICF ■質量：分析管1.1kg コントローラー2.2kg ■通信規格：RS-232C または RS-485 ■制御ソフトウェア：QUADVISION3 Win7、8.1、10 対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■成膜中の品質管理 ■残留ガス分析 ■リークチェック ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
キヤノンアネルバは、1967年の設立以来、真空薄膜形成装置や 真空コンポーネントの開発生産会社として、高度な技術力が 求められる超高真空分野で研鑽を続けてまいりました。 また、グローバルに事業展開する企業として、キヤノングループが 掲げる「共生」の企業理念のもと、国際社会の発展に貢献することを 目指してまいります。 今後も、確かな技術力に基づいた 高付加価値製品作りに邁進し、 エレクトロニクスの発展の一役を担ってまいります。