時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、パーティクル低減、装置稼働時間が大幅アップし、生産性向上！
イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、ドライエッチング装置部品の保護膜として、また、定期的メンテナンスにおける再生としてご利用いただけます。
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基本情報
成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。
価格情報
バッチあたり100万円のコストがかかります。直径1200mmに入る部品数によって単価が変わってきます。
納期
用途／実績例
・エッチング装置の誘電体窓への成膜 ・ビューポート、エンドポイントディテクターへの成膜 ・エッチング装置チャンバーの側面への成膜 ・フォーカスリングへの成膜
カタログ（2）
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企業情報
つばさ真空理研株式会社は、長年の半導体業界における経験を活かし、 半導体製造装置部品の保護膜関連の顧問会社として2019年に創業しました。 2021年、これまで蓄積したノウハウを具現化し導入を加速化するべく、 日本で使用される製造装置については耐食性保護膜も供給する 「受託コーティングベンチャー企業」として生まれ変わりました。 高融点金属酸化膜を級密な膜として捉えると、半導体以外にも多くの 応用が広がってきます。 当社は、ニッチ産業の頂点を目指すことで多くの産業に貢献し、 しいては未来の持続的な発展に尽くしてまいります。