大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置
『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お使いいただけます。 【特長】 ■スペクトル ・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ・ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し、 大面積で一括照射、高照度(Max70J/cm2)での照射が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■深さコントロール(パルス制御) ・ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、 ランプ電流、パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ・複数パルスの照射も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■焼成 ■剥離 ■表面改質 ■酸化膜形成 ■結晶化 ■接着 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
加熱、硬化、洗浄、改質、表面処理、接着、露光、照明、治療、計測、測定・・・「光」のことなら、ウシオにお任せください。光源からユニット、光の装置まで、独自の光技術で、お客さまの目的や用途に応じた最適な「光」をご提案いたします（共同実験、共同研究、デモ機・実験機のお貸し出しも承ります）。
