R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約3倍の長寿命化
当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイオンガンシステムを搭載した様々な材料の均一性及び 膜厚分布を重視した成膜が可能です。 【特長】 ■標準的なエントリーモデルから、膜質等の精密制御の可能な ハイエンドクラスまで、要求性能に合わせたモデルのご提案が可能 ■R＆D、アカデミアでの研究用途に、グローブボックスの接続やその他の 特殊仕様にも対応が可能 ■膜厚均一性は200mmウェーハで＜0.6％(3σ)達成 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■Marathon gridsは、一般的なグリッドと比較して3倍の長寿命化達成 (他社製品への搭載可) ■独自技術によりRFシャントおよびアノード消失を防止したイオンガンを搭載 ■プラズマCVD、ドライエッチャー等の当社装置とのクラスター化も可能 ■複数ターゲットの搭載、デュアル・イオンガン・システムによるイオンアシスト機能等、 多彩な機能を選択可 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■FeNi,FeCoなどの強磁性体やPZT,AlScN,LiTaO3,LiNbO3などの強誘電体を始めとした 難しいエッチングプロセス ■Ta,Ti,W等の金属膜をはじめ、Ta2O5,Nb2O5等の酸化膜や、様々な材料の薄膜をバルクに 近い密度と高純度、優れた均一性での成膜 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、50年以上の経験に基づきプラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
