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【NEW】積層造形向け HRA92相当 高硬度の超硬合金粉末

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WC-TiC-Co系 超硬合金粉末

最終更新日:2025年09月08日

株式会社フジミインコーポレーテッド
株式会社フジミインコーポレーテッド
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3Dプリンタで HRA92 相当の高硬度を実現! 積層造形用に新規開発したWC-TiC-Co系粉末を用いた造形体のご紹介

これまで当社の3Dプリンタ用の高硬度粉末は、造形体の硬度が87HRA程度が限界であり、 一部の超硬合金を用いた部品への適用では硬度が足りない課題がありました。 今回新たに開発した硬質粉末は、主相をWC-TiC-Coとし、 微細な組織を実現することで、造形体硬度を92HRAまで大幅に向上することが出来ました。 これにより、高硬度が求められる超硬合金粉末の3Dプリンティングが可能となり、 従来の課題を解決に貢献します。 【期待される用途】 ・高精度プレス金型(長寿命化・精度安定化) ・特殊切削工具(高耐摩耗性・高信頼性) ・試作・プロトタイプ製造(短納期化) さらに当社では金属3Dプリンタ設備を保有しているため、 単なる粉末販売にとどまらず、超硬造形テスト・物性評価・試作支援まで一貫してご提供可能です。 「超硬合金 3Dプリンティング」「金属3Dプリンタ用硬質粉末」「超硬粉末材料」 をお探しのお客様に、材料+造形+評価を組み合わせたトータルソリューションをご提供します。 次世代の超硬合金3Dプリンティングの導入や試作のご相談は、ぜひお気軽にお問い合わせください。

    セラミックス3Dプリンタ
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【NEW】積層造形向け HRA92相当 高硬度の超硬合金粉末

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WCTiCCO_3D超硬粉末_イプロス用サムネイル.png 3D超硬粉末_イプロス用サムネイル(サブ3).png 3D超硬粉末_イプロス用サムネイル(サブ1).png 3D超硬粉末_イプロス用サムネイル(サブ2).png
  • 当社HP「積層造形向けの超硬合金粉末」
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/fujimiinc/product/

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【期待される用途】 ・高精度プレス金型(長寿命化・精度安定化) ・特殊切削工具(高耐摩耗性・高信頼性) ・試作・プロトタイプ製造(短納期化)

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【3Dプリンタ用超硬粉末】HRA92相当の高硬度を実現! 積層造形用に新規開発したWC-TiC-Co系粉末を用いた造形体のご紹介

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3Dプリンタ用に開発した超硬合金粉末のご紹介

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技術資料)第1回 超硬合金の特徴と積層造形(LPBF法)への期待 / 超硬合金× LPBFの取り組み (全5回)

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技術資料) 第2回 超硬合金の積層造形(LPBF法)の課題と原因、粉末製造方法 / 超硬合金× LPBFの取り組み(全5回)

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技術資料)第3回 超硬合金の積層造形(LPBF法 )造形後の熱処理条件が及ぼす影響 / 超硬合金× LPBFの取り組み(全5回)

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技術資料)第4回 超硬合金の積層造形(LPBF法 )の炭素量が及ぼす脆性相低減の効果 / 超硬合金× LPBFの取り組み(全5回

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技術資料) 第5回 超硬合金の積層造形(LPBF法 )の深絞りプレス金型への適用事例 / 超硬合金× LPBFの取り組み(全5回

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【1/28~30 開催】nanotech 2026出展のお知らせ

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当社は 2026年1月28日(水)~30日(金)までの 3 日間、 東京ビッグサイト(西3ホール・小間番号3W-H14)にて開催されます 「nano tech 2026 国際ナノテクノロジー 総合展・技術会議」に出展致します。 ブースでは当社が開発している様々な機能性パウダーを展示致します。 ぜひ当社ブースにお越しくださいませ。 ◆nano tech 2026国際ナノテクノロジー 総合展・技術会議◆ 会期 :2026年1月28日(水)~30日(金) 開場時間 : 10:00~17:00   会場 、当社小間位置: 東京ビックサイト 西3ホール・小間番号3W-H14 Nanotech2026公式HP : https://www.nanotechexpo.jp/ nano tech 2026の入場には来場登録が必要です。 来場者バッジを事前にご入手の上、ご来場くださいませ。 https://unifiedsearch.jcdbizmatch.jp/nanotech2026/jp/invitation/5ayDY47cpRY

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フジミインコーポレーテッドは、1950年の創業以来、 分級技術などを活かした精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして独自の歩みを続けてきました。 蓄積されたノウハウと研究開発力から生まれた製品の数々は、光学レンズ用研磨材から出発し、 シリコンウェハーに代表される半導体基板の鏡面研磨、半導体チップの多層配線に必要なCMP(化学的機械的平坦化)、 コンピュータ用ハードディスクの研磨など高精度が求められる先端産業に欠かせぬものとなっています。 最近では、LED・ディスプレイ・パワーエレクトロニクス用部品の表面加工分野や パウダー技術を活かした応用分野への研磨・研削材の開発にも積極的に取り組んでおります。 また、鉄鋼、航空機および半導体等さまざまな業界の溶射用途向けに溶射材をご使用頂いております。

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