加温する液体成分に影響を及ぼさない製品となっています。
本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。 【特徴】 ○純水加熱容器は石英ガラスを使用 ○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用 ○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用 ○加熱効率が９６％以上 ○PID制御による±1℃の安定した温度制御 ○起動から使用温度まで120秒以内の昇温 ○幅広い使用流量・温度に対応 ○流量変化に対応した温度調整が可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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基本情報
【仕様】 ○加温能力：12?/分、ΔT＝55.0℃（12Nの場合） ○最高設定温度：85℃ ○温度調整制度：±1℃ ○加温タンク数：2個（12Nの場合） ○ヒーター本数：12本（12Nの場合） ○電源（制御用）：AC200V 5A
価格情報
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納期
用途／実績例
【用途】 ■ダイサー（装置組込） ■ウエット処理装置 【実績例】 単独にて使用
ラインアップ（1）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| HDM－３ |
カタログ（1）
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企業情報
「きっと、未来にいるものを。」をテーマとして、半導体製造装置周辺機器の 設計、製作を主体にお客様のニーズに対応した製品開発を行っています。 私たちの保有する技術がさまざまな分野で製品化され、お客様に役立てればと 思っております。研究開発や試作などお客様のアイデアをもとに製品化することに 社員全員が情熱を持って取り組む会社です。 心より皆様方のお問い合わせをお待ちしております。
