CVD装置の製品一覧

  • 分類:CVD装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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室温から-13°Cの強冷風!ご使用環境によりコンボタイプかセパレートタイプを選択可能!

  • 冷却装置

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2024/4/10(水)~2024/4/12(金)名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内

三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド(名古屋)に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時:2024/4/10~2024/4/12    開場:AM10:00~ 場所:名古屋ポートメッセ(第1展示会場) ※弊社ブース:19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。

  • CVD装置

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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置

  • CVD装置
  • アニール炉
  • 加熱装置

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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

TiC処理やTiCN処理が可能!PVD処理より過酷な条件での使用ができます

  • CVD装置

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独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現!

  • CVD装置

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独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現!

  • CVD装置

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省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18m離して設置することができます。

  • CVD装置

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弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 少量多品種に対応できます。

  • CVD装置
  • その他塗装機械
  • その他加工機械

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耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も強くバランスの良い素材です。

  • ファインセラミックス
  • CVD装置
  • 加熱装置

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パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等のために特別設計された各種チャンバーで構成されております。

  • 蒸着装置
  • CVD装置

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真空配管設備の不安を解消!プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の事例を進呈中

  • その他半導体製造装置
  • バルブ
  • CVD装置

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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

  • CVD装置

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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

  • CVD装置

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最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

  • CVD装置

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャンバーは3種類から

  • CVD装置

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