加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
91～135 件を表示 ／ 全 1916 件
【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
カプセル表面温度を常温から150℃程度まで加熱可能！
- 加熱装置
- 乾燥機器
- その他粉体機器
ジャケットタイプのカプセルに熱媒体を循環させて加熱が可能！
- 加熱装置
新素材の実験、研究用に最適！ムラなく均一な加熱・乾燥処理が可能
- 乾燥機器
- 加熱装置
回転揺動方式という独自機構を取り入れた乾燥機！
- 乾燥機器
- 加熱装置
- その他粉体機器
アルカリアースシリケート繊維（AES繊維/生体溶解性繊維）を主材とした1100℃～1300℃程度までの耐熱性を有するシートです。
- セラミックス
- 加熱装置
- 熱交換器
「人とくるまのテクノロジー展2025」NAGOYAに出展します
巴川コーポレーションは「人とくるまのテクノロジー展 2025」に出展いたします。 また同時期にオンラインによる展示会も開催されます。 是非ともTOMOEGAWAブースにお立ち寄りください。 皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。 【出展製品】 ■サステナビリティに貢献するセルロース繊維配合樹脂「グリーンチップⓇ CMFⓇ」 ■薄く、加工が容易「セラミック繊維シート／不燃・断熱・類焼対策シート」 ■薄膜で優れた接着性能 5μmから提供可能「絶縁熱接着フィルムSJ41」 ■インサート材との密着性/シール性能が向上「インサート成形用シーリングテープHT56」
アルミナ繊維（PCW/結晶化アルミナ短繊維）を主材としてシート化した製品です。
- 加熱装置
- 熱交換器
- ファインセラミックス
「人とくるまのテクノロジー展2025」NAGOYAに出展します
巴川コーポレーションは「人とくるまのテクノロジー展 2025」に出展いたします。 また同時期にオンラインによる展示会も開催されます。 是非ともTOMOEGAWAブースにお立ち寄りください。 皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。 【出展製品】 ■サステナビリティに貢献するセルロース繊維配合樹脂「グリーンチップⓇ CMFⓇ」 ■薄く、加工が容易「セラミック繊維シート／不燃・断熱・類焼対策シート」 ■薄膜で優れた接着性能 5μmから提供可能「絶縁熱接着フィルムSJ41」 ■インサート材との密着性/シール性能が向上「インサート成形用シーリングテープHT56」
約1000℃までの耐熱性とクッション性・柔軟性を備えたペーパーです。多様な厚み・硬さニーズに対応します。
- セラミックス
- 加熱装置
- 熱交換器
「人とくるまのテクノロジー展2025」NAGOYAに出展します
巴川コーポレーションは「人とくるまのテクノロジー展 2025」に出展いたします。 また同時期にオンラインによる展示会も開催されます。 是非ともTOMOEGAWAブースにお立ち寄りください。 皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。 【出展製品】 ■サステナビリティに貢献するセルロース繊維配合樹脂「グリーンチップⓇ CMFⓇ」 ■薄く、加工が容易「セラミック繊維シート／不燃・断熱・類焼対策シート」 ■薄膜で優れた接着性能 5μmから提供可能「絶縁熱接着フィルムSJ41」 ■インサート材との密着性/シール性能が向上「インサート成形用シーリングテープHT56」
大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で対応が可能！ICNIRP、電波法などの各種規制に対応『S-WAVE301H』
- 加熱装置
2.2kgと軽量、一体型卓上タイプ。ブラシレスモーターにより長時間の連続運転も可能です。
- その他ケーブル関連製品
- ハーネス
- 加熱装置
現場の声から誕生！ 火気作業時の消火器・水バケツ・立ち合い人が不要になり手間もコスト削減。
- 加熱装置
IRシリーズの高温観察炉を利用しデモ≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等
- 試験機器・装置
- その他検査機器・装置
- 加熱装置
《高温依頼測定》最高1700℃～＆雰囲気操作環境下の実験を体験！米倉製作所を代表するIRシリーズのデモ機を利用した高温観察≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫を、ぜひお試しください
～ 金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等 ～ 試験機メーカーの米倉製作所を代表する、集光加熱炉「IRシリーズ」のデモ機を利用した、高温観察を体験できる測定です。 IRシリーズの炉は密閉構造のため、雰囲気操作を行った環境下で*IR-18SPの場合、最高1700℃を出すことができます*。 実際に行った実験の動画や試験プログラムを確認し試験対象の変化をリアルタイムで捉えます。 *使用する装置はデモ機ですので、ご要望によっては対応いたしかねる場合がございますので、詳細はお問い合わせください。 *試験片の熱容量によって変動する可能性があります。 ▼IRシリーズ特徴▼ 急速加熱性能と温度制御の優位性、観察ポートからの情報が加熱実験時間の大幅短縮、最適な加熱条件のスクリーニングなどを容易にし、材料開発業務効率の向上に貢献できます。
パウダー状の乾燥結晶を得る研究用フィルタードライヤーです。加圧濾過器・棚式乾燥機のような製品固化・ロスをなくし工程を減らします。
- その他粉体機器
- 加熱装置
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
- はんだ付け装置
- 加熱装置
マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介！
- 高周波・マイクロ波部品
- 加熱装置
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
建材、車載、空調機器用に！900℃の電気式空気加熱装置による 『ろう付け工法』！火炎レス装置で脱CO2ろう付けを達成！
- 加熱装置
