テフロンヒーターの製品一覧
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サファイア基板のウェットエッチング用に開発された石英バス 最高300℃まで使用できる業界初の高温対応製品
- 加熱装置
- 温湿度制御
- その他プロセス制御
ウェットエッチングによるPSS (Patterned Sapphire Substrate)が、LED業界を変える！！
ウェットエッチングによるパターン化サファイア基板（PSS）について 現在、LED製造業者は、製造プロセスの選択肢として、二通りの全く異なるのプロセスを手にしている。ドライエッチング法を利用すれば、高輝度・高効率LEDを製造することができるが、製造には長時間を要し、スループットには限界がある。ウェットエッチング法は製造時間が短く、スケーラビリティに非常に優れているが、効率や効果に優れたLEDを製造することはできない。しかしウェットエッチング法の場合、光抽出効率を改善するためにウェハーを研磨し、改良する作業を行った場合であっても、ドライエッチング法に比べて大幅なコスト削減が可能である。また非常に効率良くスケールアップすることが可能であることから、スループットを増やし、ウェハーのサイズを拡大するたびに、コスト削減率が何倍にも劇的に増えることになる。
◆株式会社吉田SKT◆ NEW 「半導体製造プロセスとは？半導体製造を支える表面処理まで紹介」を公開しました。
半導体の生産プロセスから、半導体製造を支えるフッ素樹脂コーティングについてご紹介します。 半導体製造プロセスとは、 設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。 半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、 現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。 半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、 多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。 フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、 半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の 一翼を担っています。 製品ページでは半導体製造で欠かせない表面処理までご紹介します。 ぜひご確認ください。
半導体製造装置では、化学的不活性な特性・帯電防止性・耐熱性・耐薬品性に優れる表面処理が数多く採用されています。
- 表面処理受託サービス
◆株式会社吉田SKT◆ NEW 「 半導体製造装置で採用される表面処理「用途別」※資料有り」を公開しました。
半導体製造装置では、 化学的不活性な特性 帯電防止性 耐熱性 耐薬品性 に優れる表面処理が数多く採用されています。 ■半導体製造ラインなどの用途 ■ウェハー・ガラス用ハンドなどの用途 ■精密ノズル、MEMS部品、光学レンズなどの用途 ■薬液供給タンクなどの用途 ■クリーンルーム内壁、実験設備、各種治工具などの用途 ■高温設備部材（ロール、ヒーターカバー）などの用途 に対応する表面処理製品カタログ・事例資料進呈！
【無償サンプルテスト受付中】食品噛み込時でも、1mm～10mm幅までの溶着が一度に可能！電源起動で即溶着。
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真空装置部品やクリーンルーム内で使用可能！付着したフィルムや塗料を剥がしやすくなり、生産性・メンテナンス性向上
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