タングステン・モリブデン製 スパッタリングターゲット
世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。
- 企業：プランゼージャパン株式会社
- 価格：応相談
ターゲット - 企業19社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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企業ランキング
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- 蝶理株式会社 大阪府/化学 無機ファイン部
- KINGTECH 台湾/機械要素・部品
- エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
- 4 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
- 4 オプトシリウス株式会社 東京都/その他
製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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- スパッタリング ターゲット KINGTECH
- 韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ) 蝶理株式会社 無機ファイン部
- 韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO) 蝶理株式会社 無機ファイン部
- 4 レーザー検出ターゲット エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 4 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
製品一覧
16～25 件を表示 ／ 全 25 件
表示件数
粒子画像速度測定法 (PIV) - アクティブターゲット
ステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVの平面・立体ターゲットで発生するヒューマンエラーを削減、短時間で校正が可能
Active Target は従来のステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVにおける平面もしくは立体ターゲットにおいて生じるヒューマンエラーを削減し、より短時間で校正を完了することができます。 ターゲットにはLEDが装備されており、ソフトウェアからの制御によりこれを自動点滅させることによって奥行き方向の校正を短時間で行うことができます。トラバース装置を利用することで、広範囲に校正を行うことができる他、ターゲットを複数接続することによって、大領域での校正にも対応することができます。
- 企業：ダンテック・ダイナミクス株式会社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット
自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。
・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。
- 企業：井嶋金銀工業株式会社
- 価格：応相談
円筒ターゲット
スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並びに蒸着材料をリーズナブルな価格でご提供致します。
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立上げ時間を短縮可能 ３．製法：コールドスプレイ 代表的材料：Ａｇ 等 利点：割れるリスクが比較的少ない、使用済みターゲットの上にそのまま溶射できる。 欠点：プラズマスプレイ法より高価。初期立上げに時間がかかる。 註：上記２と同じ ４．製法：キャストターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：特殊合金等 利点：高純度品が可能。 欠点：切れ目からのアークのリスクがある。低速回転にて、割れたりインジウムが溶ける。高価。投入限界パワーが低い。 ５．製法：焼結ターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：ＩＴＯ、ＡＺＯ等 利点：高純度品が可能。材料を選ばない。 欠点：上記４と同じ
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
Zenith polymer 標準拡散反射ターゲット
99 ％反射の標準反射板。250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性。
SphereOptics社製Zenith Polymer 標準拡散反射ターゲットは、独自素材のZenith Polymer反射材から製造されています。 熱、湿気、および高出力光源からの照射に耐久性がある他、250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つなど、標準反射板として最適です。 これらのターゲットは10 mmの厚さを持ち、簡単に固定するためにフレームに取り付けることができます。 ■特長 ・99 ％の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・バッチによる反射率の公差 ±3 ％ ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・PTBおよびNISTトレーサブルなPerkinElmer Lambda 950を使用した認定校正 ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -50 ～ 250 ℃ ・動作湿度範囲 ： 5 ～ 95 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズ
250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つ大型標準反射板
SphereOptics社製工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズは、ZenithPolymer拡散反射シートをアルミニウムブレッドボードに特殊接着剤で取り付けて作製された、大型の標準拡散反射板です。 250 ～ 2450 nmの幅広いスペクトル範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つので、標準反射板として最適です。 ■特長 ・2 ～ 95 ％の14種類の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -5 ～ 65 ℃ ・動作湿度範囲 ： 10 ～ 90 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)
液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソースとしてご検討ください。
＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊光学デバイス用。 ＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、 および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系 のターゲット材がございます。 ＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 ＊高純度・高密度品をご提供できます。 ＊蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。
＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
レアメタル系スパッタリングターゲット
半導体や電子部品に蒸着させる高純度高品質のスパッタリングターゲットをお客様ご指定の合金材料と形状で短納期でお届けします。
主な材質は、タンタル、ジルコニウム、チタン、ニオブ系の純金属と各種の合金類です。形状は円筒形、円板系のいづれにも対応します。お客様のご指定の材質や寸法を詳しく検討し、対応の可否をご連絡いたします。
- 企業：合同会社樋口経済企画研究所
- 価格：応相談
シリコン側面スパッタリングターゲット
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
スパッタリング 瓦状のシリコンを何枚かつなぎ合わせて側面スパッタとして使用します。
- 企業：株式会社 産研舎 本社
- 価格：応相談
