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炉(ガス) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年10月01日~2025年10月28日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

256~270 件を表示 / 全 626 件

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酸素分圧&雰囲気制御試験炉「SiOAF-200C」

温度制御、雰囲気制御、酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能な酸素分圧&雰囲気制御試験炉!

酸素分圧&雰囲気制御試験炉「SiOAF-200C」は、タッチパネル、ネットワーク及びPCから温度制御、雰囲気制御、酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能であり、酸素分圧コントローラー(SiOC相当/オプション)の付加により極低濃度(10E5~10E-25Pa)の酸素分圧雰囲気までフィードバック制御できるネットワーク対応の管状型試験炉です。 【特長】 ■タッチパネル、ネットワーク及びPCから温度制御、雰囲気制御、  酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能 ■極低濃度の酸素分圧雰囲気までフィードバック制御 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい

  • 試験機器・装置

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レトルト回転炉

チェン部品等小物の熱処理に最適

中日本炉工業社が取扱うレトルト回転炉のご紹介です。

  • その他加工機械

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精密小型電気炉 FT-001シリーズ

1,200℃まで15分の急速昇温!100Vクラス最小最軽量の卓上サイズの精密小型電気炉

小型は安物ばかりで使い物にならない…本格的に性能を求める人に朗報です! ・精密に焼成が出来る電気炉 ・しっかり1,200℃ ・たくさんのプログラム ・高い温度精度 わずか15分で1,200℃急速昇温可能。省スペース・省エネで更に超低価格な高温電気炉の決定版!

  • 電気炉
  • 加熱装置
  • セラミックス

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1200℃マッフル炉 『OSK 93TI104』

4面加熱可能な、スイング式ドア付きの汎用マッフル炉です。

常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 実験室での一般的な加熱用途及び灰化プロセスに適します。 4面加熱式により速い温度上昇速度と優れた温度均一性を実現。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 本体が軽量な為、設置場所の移動とメンテナンスが容易です。 半導体制御整流回路(SSR)とPID制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 オプションの流量計でガス環境で利用可能

  • 電気炉

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堅型真空&加圧熱処理炉『CAVAC』

ダイレクト排気で処理物質内雰囲気がクリーンに!均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能!

脱脂・脱ガス・焼結・冷却の省エネルギーでの連続処理を可能にした堅型真空&加圧熱処理炉! 超硬合金の焼結(脱脂)、MIM製品の焼結、ガス真空加圧焼入れ、磁性材料の焼結、高融点材料の熱処理などに使用されています。用途に合わせて3つのラインナップをご用意しております。 【特徴】 ○均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能 ○製品の装入作業性に優れる ○効率的排気・安定したクリーンな処理雰囲気 ○加熱・冷却負荷を低減し、省エネルギーを実現 ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

  • 工業炉
  • 電気炉
  • その他表面処理装置

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松山技研株式会社 会社案内

製品に熱意と熱量を。熱処理と表面処理の総合技術でお客様のニーズにお応えし、社会へ貢献

金属は人類が持ち得た高い機能材料。 しかしそれだけに、製品の目的用途によって、求められるスペックは 大きく異なります。 松山技研株式会社は、その一つひとつに最適化させた処理方法を確立させ、 ご提案し、プロセスの厳密な管理を通じて、好適な熱処理・表面処理を 提供しています。 つねに次代を見据えて推進する研究開発。 エキスパート集団ならではの総合技術力で、ユーザーの皆様を サポートいたします。 【事業内容】 ■熱処理事業 ■表面処理事業 ■真空炉事業 ■コーティング事業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他金属材料

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急速冷却可能な真空ガス焼戻し・焼鈍し炉『1室型真空焼戻し炉』

冷却速度が速い・プロセスサイクルの短縮・急速冷却可能な真空焼戻し炉!【SVTF シリーズ】

『SVTF シリーズ』は、 上部に撹拌ファンを設け左右及び底面にヒーターを配置することで温度分布の向上を図った設計の焼戻し炉です。 冷却時に前後の加熱室扉を開放し冷却するため、 冷却速度が速く、プロセスサイクルの短縮を実現。 後部に設置したターボファンと大容量熱交換器により、急速冷却が可能です。 【特長】 ■冷却速度が速い ■プロセスサイクルの短縮 ■急速冷却が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 冷却装置

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【導入事例】砥石の処理に採用「プッシャー式焼結炉」

砥石の処理に、当社のプッシャー式焼結炉(ホットプレス)を導入いただいた事例をご紹介!

脱脂、雰囲気ガスの純度調整などのカスタマイズも可能です。サンファーネスは 処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も 含めて好適な焼成炉・焼結炉をご提案いたします。 【導入事例】 ■温度:300~800℃ ■有効寸法:φ200×H90 ■雰囲気:窒素 ■用途:焼結(加圧式) ■処理物:砥石 ■処理量:加熱 80min/個、冷却 50min/個 ■電気容量:32kW ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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流動層式熱処理炉

急速加熱や、温度分布に適した熱処理炉です。

レトルト内のアルミナ粒子に下からガスを噴射し、 激しく攪拌することを流動層を活用し、容易に急速加熱、 温度分布の最適化を行います。

  • 加熱装置

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高真空電気炉

800℃雰囲気で高真空1×10-³Paが可能

本装置は、高真空及びガス雰囲気によりサンプルをプログラム運転により熱処理する装置で800℃で1×10⁻³Paの高真空での熱処理が可能です。

  • 電気炉

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バッチ式ワニス乾燥炉【実例紹介】

モーターローターのワニス浸炭後の乾燥炉

モーターローターをワニスに浸炭させた後の、電気ヒーター式乾燥用バッチ炉です。 熱風循環用にはインナーファンを使用し、コンパクトな設計となっております。

  • ワニスバッチ炉y2cgss.png
  • その他 乾燥機器
  • 乾燥機器
  • 工業炉

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連続炉『電気加熱式ローラハースキルン(特殊雰囲気・大気)』

各種雰囲気ガスに対応可能!ローラを炉床に有する迅速焼成連続炉

『電気加熱式ローラハースキルン(特殊雰囲気・大気)』は、ローラを炉床に有する迅速焼成連続炉です。 ローラは焼成温度により、ステンレススチール製、セラミック(ハイアルミナ)製、SiC製などが用いられ、インバータ制御の駆動装置によって回転します。 被焼成物は回転するローラ上を予熱帯、焼成帯、冷却帯と進んで焼成されます。 製品の形状や寸法によっては耐火物のセッタに載せます。 2次電池用正極材料・負極材料、各種セラミックス成形体、各種粉体原料、電子部品、その他の用途に適しています。 【特長】 ○独自開発の駆動機構を採用することで被焼成物の整列性が向上 ○被焼成物の上下に設置したヒータにより製品を均一に加熱 ○大気、窒素、水素、その他各種雰囲気ガスに対応可能 ○炉内幅最大2.0mまで制作可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 工業炉

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精密性と操作性に優れた横型真空パージ光輝焼鈍炉RAV型

高品質を要求される電子部品・精密機械部品等の光輝加熱や、リール材・パイプ材の熱処理に最適です

RAV型は、前面横扉を開閉してワークの出し入れを行いますので、作業がしやすく、加熱炉・冷却装置・真空機器が 一体となったコンパクトな設備です。 真空ポンプにより減圧した後、清浄な雰囲気ガスを送入して加熱しますので、炉内の空気置換をより完全に、 より短時間で行うと共に、パージガス量を大幅に節約! 水素・窒素・アルゴンなどのガス雰囲気を使用するとともに、熱風循環により講師恵能の温度分布を保証します。 プログラム昇温と加熱終了後の強制冷却機構がありますので、効率良く無人自動運転ができます。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • 加熱装置

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【脱脂室・焼結室・冷却室を独立、搬送】雰囲気ホットプレス焼結炉

脱脂室・焼結室・冷却室を独立、自動搬送させることにより、各工程の処理条件変更の待ち時間を大幅に短縮します。

脱脂室・焼結室・冷却室を独立、自動搬送させることにより、各工程の処理条件変更の待ち時間を大幅に短縮します。先行ワーク処理中に次のワークの処理条件を準備することができるので、処理条件の異なるワークの連続条件変更を短時間で可能とし、多品種小ロットの生産に効果を発揮します。 各室に装備された油圧プレス機構は脱脂・焼結・冷却の各工程での熱膨張を最小限に抑え、また各室の雰囲気はN2 or H2ガスをパージし、装置全体の高いシール性能と合わせてワークの酸化を防止します。

  • 電気炉

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枚葉式IR炉

雰囲気処理が可能!シビアなクリーン環境にも対応可能なIR炉です

枚葉式のIR炉です 【特長】 ◆ハイレベルなクリーン度 自己発塵の無いクリーンな構造により、高いクリーン性能を持っております。またシビアなクリーン環境を求められるアレイ基板の処理にも対応可能です。 ◆高い加熱効率 加熱効率に優れた、遠赤外線(IR)加熱方式を採用しており、あらゆる膜厚に対し高効率な処理が可能です。配向膜やパッシベーション膜など厚い膜の処理に最適です。 ◆優れた温度均一性 温度均一性にすぐれたIRパネルヒータを採用。第10世代などの大型基板に対しても、均一な加熱を行うことができます。 ◆雰囲気処理が可能 炉内に窒素ガスを導入し低酸素濃度での加熱処理が可能です。

  • 電気炉

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