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炉(ガス) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年06月10日~2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気: ・真空(1x10-2Pa)、不活性ガス(Ar, N2) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

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小型カーボン炉|低酸素×3000℃級を実現する設計構造

真空置換・高気密構造・グラファイト加熱で、低酸素と3000℃級処理を両立

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる加熱炉です。 高温処理では、炉内に残った酸素や微小リークが、酸化・再酸化・材料劣化の原因となる場合があります。 本設備では、真空ポンプによる置換、高気密シール設計、グラファイトヒーターによる高効率加熱により、酸素の影響を抑えた超高温処理が可能です。 炭素材料の黒鉛化、SiC・B4Cなどのセラミックス焼成、高融点材料の熱処理など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する用途に適しています。 【特長】 ■ 真空置換により炉内残留酸素を低減 ■ 高気密シール設計で微小リークを抑制 ■ グラファイトヒーターで短時間に超高温域へ昇温 ■ 3000℃クラスまで安定到達可能 ■ 長時間運転でも低酸素雰囲気を維持しやすい構造 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型カーボン炉|酸化を抑えて3000℃級処理を実現

2,000〜3,000℃級の高温処理で、酸化・特性ブレを抑える小型カーボン炉

「温度は出るのに、狙った反応場が作れない」 炭素材料、セラミックス、高融点材料の高温処理では、単に温度を上げるだけでは十分ではありません。 炉内酸素、昇温速度、熱履歴、炉内雰囲気のわずかな違いにより、酸化・再酸化、特性ブレ、反応ムラが発生する場合があります。 本資料では、極低酸素雰囲気と2,000〜3,000℃級の高温処理を両立する「小型カーボン炉」の実力を、現場目線で解説します。 【このような課題に】 ■ 昇温はできるが、サンプル状態や特性が安定しない ■ 大型炉では立ち上げに時間がかかり、条件出しが難しい ■ 高温処理中の酸化・再酸化を抑えたい ■ 酸素管理と熱履歴をそろえて、結晶性・導電性・微構造を再現したい 小型カーボン炉では、短時間試行、条件変更、酸素管理、熱履歴管理を行いやすく、研究開発・試作段階での条件検討に適しています。 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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カーボン炉|低酸素・高温環境での炭化反応テストに対応

SiC・TiC・ZrCなどの炭化反応を、低酸素・高温環境で事前評価

設備導入前の炭化・高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、反応性などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃**を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安:SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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