更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
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専用タンクへのギ酸の移し変えが不要！お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます
『MPXシリーズ』は、MPXシリーズは加熱冷却一体型の独立チャンバー モジュールを複数基設置可能なギ酸還元真空リフロー炉で、大量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた 当社独自の加熱冷却機構を搭載しています。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
IRシリーズの高温観察炉を利用しデモ≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等
▼ここがポイント▼ 1.加熱工程での不具合の原因調査・解明のヒントが得られる 2.高温下での素材の反応・挙動等のメカニズム解析に役立てられる 3.急速加熱、急冷など多様な温度コントロール下の変化が確認できる ▮IRシリーズとは？ 近赤外線集光のランプから発せられた赤外線が炉内壁の金メッキにより反射され効率良く炉中央の加熱範囲に集光することで温めることが出来る炉です。(詳細はIRイメージ炉特集ページへ) ▮試験対象例 金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス 等 ▮実施試験例 加熱/雰囲気操作/酸化実験 等 ▮活用方法例 高温下熱処理/焼成中の挙動の動画確認(顕微鏡レベル) 研究開発、不具合、歩留まり解消に ※加熱のみの試験も承ります※試験片の熱容量によって実験温度は変動します ※サンプルサイズ、試験条件により変動する可能性あります 公式YouTubeチャンネルからは、その他の実験例も掲載中！
反応性ガス・排ガス処理まで含め、化学反応プロセスの条件検討をサポート
化学反応プロセスの開発では、温度、雰囲気ガス、反応時に発生する排ガス成分によって、反応効率や安全性が大きく変わります。 特に、NH3・COなどの発生ガスを伴う反応や、Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気での反応条件検討では、炉本体だけでなく、ガス供給・排気・除害設備を含めた設計が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、処理物や反応ガスに合わせて、炉内材質、ガス供給ライン、排気系、除害設備、安全対策をカスタム設計できます。 化学反応、熱分解、還元反応、酸化反応、アンモニア雰囲気処理など、研究開発から試作、量産前評価まで対応可能です。 ■ 化学反応プロセスの反応条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気で処理したい ■ 反応ガスに合わせた炉内材質やシール構造を検討したい ■ 既製炉ではガス種、排気仕様、安全対策が合わない ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、ガス供給・排気系統、反応性ガスを扱う際の設計ポイントを掲載しています。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデル。ユニテンプジャパン製
『RSO-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。『ユニテンプジャパン製』
『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空・Air・NH3などの雰囲気制御で、環境浄化材料の焼成と排ガス評価をサポート
環境浄化材料や触媒材料の開発では、焼成時の雰囲気、温度、排ガス成分が材料性能に影響する場合があります。 特に、有機成分を含む材料の焼成、触媒の活性化、NH3・COなどの発生ガスを伴う処理では、炉内雰囲気の制御と排ガス処理設備の検討が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、真空・Air・N2・Ar・NH3など複数の雰囲気に対応し、材料の焼成条件や排ガス発生条件に応じてカスタム設計が可能です。 環境浄化材料、触媒材料、吸着材、セラミックス材料などの焼成・熱処理において、炉本体からガス供給、排気、除害設備まで一貫して検討できます。 ■ 環境浄化材料や触媒材料の焼成条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ 真空・Air・N2・Ar・NH3など複数雰囲気で処理したい ■ 既製炉ではガス種、炉内寸法、排ガス処理条件が合わない ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、温度仕様、ガス供給・排気設備、排ガス処理を含めた検討ポイントを掲載しています。
Cl2・HClのリーク、腐食、除害リスクを抑える小型塩素炉の安全設計
Cl2、HClなどの腐食性・有毒ガスを高温で扱う場合、「安全に運用できるのか」という点が最も大きな懸念になります。 小型塩素炉では、単に塩素ガスを流せるだけでなく、炉外漏洩、接ガス部の腐食、未反応ガスの排出、異常時の遮断、スクラバー連動まで含めた安全設計が重要です。 当社の小型塩素炉は、真空・減圧運転を基本とし、炉内圧を大気圧より低く保つことで、Cl2/HClの炉外漏洩リスクを低減します。 また、接ガス部の腐食対策、ガス検知、非常遮断、パージ手順、除害設備との連動を含めて、運用時のリスクを管理しやすい構成を検討できます。 【本資料でわかること】 ■ Cl2/HCl処理で想定すべき安全リスク ■ 真空・減圧運転によるリーク対策の考え方 ■ 接ガス部の腐食対策と材料選定のポイント ■ パージ、流量、滞留時間など運用設計の重要性 ■ ガス検知、非常遮断、スクラバー連動の考え方 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください
負圧運転・耐食設計・スクラバー連動で、Cl2/HCl処理を小型炉で安全に検討
Cl2、HClなどの腐食性ガスを用いた処理では、ガス漏洩、配管・炉材の腐食、未反応ガスの排気、除害処理など、安全面の設計が重要になります。 当社では、研究開発用の「小型塩素炉」を取り扱っております。 本設備は、塩素・塩化水素を安全かつ制御性高く扱える小型炉であり、腐食性ガスを用いた材料試験、金属不純物除去、選択塩素化、治具洗浄などの条件検討に使用できます。 耐食材料を使用した炉体・配管構成、スクラバー連動、腐食ガスモニタ、非常遮断、インターロックなどを組み合わせることで、研究用途でもCl2/HCl処理を安全に実施しやすい構成を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClなど腐食性ガス処理に対応 ■ 常時負圧運転により炉外へのガス漏洩リスクを低減 ■ 耐食材料を使用した炉体・配管構成 ■ スクラバー、腐食ガスモニタ、非常遮断との連動が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応
当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
真空置換→N2/Ar/H2/NH3/加湿まで、雰囲気を切替えて反応条件を再現
当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
腐食性ガスを用いる焼成条件と安全仕様を整理
Cl₂・HClなどの特殊雰囲気で、焼成・塩化反応・腐食評価を検討していませんか？ Cl₂・HClなどの腐食性ガス・反応性ガスを用いる焼成では、温度やガス濃度だけでなく、炉内材、治具材、シール材、配管、バルブ、排気配管、除害装置、安全インターロックまで含めて仕様を検討する必要があります。 特に、塩化反応や揮発分離では、生成塩化物の揮発性、凝縮位置、回収方法、排気配管の保温、除害能力が重要になります。 また、腐食性ガスを扱うため、リーク対策、ガス検知、排気経路、安全停止条件も設備仕様に大きく影響します。 本資料では、Cl₂・HCl特殊雰囲気焼成における処理目的、ガス条件、炉種選定、治具・配管・排気・除害・安全対策の確認ポイントを整理しています。 ■Cl₂・HCl雰囲気での焼成・反応評価に ■塩化反応・揮発分離・不純物除去の検討に ■治具・部品の付着物除去、腐食・耐久性評価に ■排気保温・凝縮物対策・除害装置の仕様検討に ■設備導入前の焼成テスト・条件探索に
充填する雰囲気ガスは、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります！
鋼は大気中で熱処理を行うと酸化や脱炭が起こるため、表面仕上げなどの 加工が必要になる場合があります。 そのため、後加工の手間を省いたり、酸化や脱炭を抑制したりするなどの 用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する『雰囲気炉』が 多く用いられています。 充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、 水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 【特長】 ■熱処理中にガスの切替が可能 ■バッチ型や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがある ■粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化
当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
設備仕様を決める前に、少量サンプルで反応性を確認
電気炉・雰囲気炉の設備仕様を決める前に、焼成テストで確認すべき条件を整理できていますか？ 設備導入前の焼成テストでは、少量サンプルを用いて「目的の反応が起きるか」「安全に処理できるか」「量産条件へ展開できるか」を確認することが重要です。 本資料では、焼成・脱脂・還元・酸化・窒化・脱ガス・不純物除去などを対象に、温度・雰囲気・処理時間・流量・圧力を変えながら、反応性・安全性・再現性を確認するための計画項目を整理しています。 ■設備導入前の条件探索に ■焼成テスト計画の抜け漏れ防止に ■炉内容積・ガス系統・排ガス処理・治具仕様の検討に ■量産炉へのスケールアップ判断に
Cl2・HClを含む高温腐食環境で、材料選定・寿命評価・腐食解析に対応
高温環境で使用される金属、合金、セラミックス、コーティング材では、Cl2、HCl、酸化性ガス、水蒸気などの腐食性雰囲気により、表面反応、酸化、塩化、剥離、脆化が発生する場合があります。 当社の小型塩素炉は、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる高温腐食評価用の試験炉です。 高温腐食性雰囲気の再現、耐食材料の比較、表面処理・コーティング材の評価、腐食メカニズム解析など、材料開発から設備部材選定まで幅広く活用できます。 また、常時負圧運転により腐食性ガスの炉外漏洩リスクを低減し、排気・除害設備と組み合わせた安全な試験環境を構築できます。 【特長】 ■ Cl2・HClなど腐食性ガス雰囲気での高温腐食評価に対応 ■ 金属、合金、セラミックス、コーティング材の耐食性を比較可能 ■ 温度、ガス種、濃度、処理時間を変えた腐食試験に対応 ■ 常時負圧運転により、腐食性ガスの漏洩リスクを低減 ■ 排気・除害・安全機器を含めた試験環境を検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
用途に応じて焼入炉・焼戻炉としても使用できる多目的炉です
メタノールから浸炭ガスを炉内で生成して熱処理をするほか、雰囲気ガスを変更して焼入炉・焼戻炉としても使用が可能です。 【仕様】 ● 温度：450～950℃ ● 雰囲気：窒素 / メタノール分解ガス ● 用途：浸炭 ● 処理物：鉄 ● 処理量：3000Kg/ch ● 電気容量：240kW 【製品例】雰囲気炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ ドライブトレーン部品 ■ ブレーキ部品 ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ 【その他の導入事例】 ■ 粉体を窒化処理させたい →『レトルト回転式窒化炉』 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ＊詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空度・処理目的に応じて適した電気炉を選定
真空雰囲気焼成では、目的によって必要な到達圧力や炉構成が変わります。 脱ガス・乾燥であれば数Pa～数百Pa程度、酸化抑制であれば真空排気とN₂・Ar置換、高純度処理では10⁻³～10⁻⁴Pa級の高真空が必要になる場合があります。 そのため、単に「真空で焼成したい」という条件だけではなく、処理目的、温度帯、残留O₂、発生ガス量、炉内材質、ヒーター材質、排気系、安全対策まで含めて検討することが重要です。 本資料では、真空雰囲気焼成の目的別に必要な圧力目安、炉種選定、設備仕様に影響する確認ポイントを整理しています。 ■脱ガス・乾燥・酸化抑制の検討に ■高真空・高純度雰囲気での焼成検討に ■メタル炉・マルチ炉・カーボン炉・管状炉の使い分けに ■設備導入前の仕様整理・焼成テスト検討に
管径・加熱ゾーン・雰囲気・計装まで、用途に合わせて設計する特注管状炉
当社では、お客様の用途に合わせて仕様を設計する「カスタム管状炉」を取り扱っております。 標準品の管状炉では、管サイズ、加熱ゾーン長さ、昇温速度、処理温度、雰囲気ガス、計装構成などが合わず、目的の試験条件を再現できない場合があります。 当社の管状炉は、約1200℃の安定運転を基本に、加熱ゾーン、管サイズ、ガスライン、計測器、サンプリングポートなどを用途に応じて個別設計できます。 N2/Arなどの不活性ガス、H2など各種ガスにも対応可能です。ご希望の炉内寸法、温度条件、雰囲気条件に合わせて仕様をご提案します。 【特長】 ■ 管サイズ・加熱ゾーン長さを用途に応じて設計 ■ 昇温速度、温度分布、処理量に合わせた炉構成を検討 ■ N2/Ar/H2など各種ガス雰囲気に対応 ■ 物温熱電対、MFC、圧力計、O2計など計装を選定可能 ■ サンプリングポートや排気ラインもカスタム対応 ※標準品では仕様が合わない場合も、お気軽にご相談ください。
材料の性質や熱処理の目的によって炉内雰囲気ガスの切替が可能です
一般的な焼入れに比べて低い温度で処理が行われるため、鋼材の歪みが発生しにくく、寸法精度を保つことが可能です。 【仕様】 ● 温度：400～650℃ ● 雰囲気：窒素 / アンモニアガス / 三フッ化窒素 ● 用途：窒化 ● 処理物：ステンレス ● 処理量：1000Kg/ch ● 電気容量：140kW 【製品例】雰囲気炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ 表示管ガラス ■ 通電検査機器用精密管 ■ フライパン ■ CPUヒートパイプ 【その他の導入事例】 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 ■ 材料を浸炭させたい →『バッチ型雰囲気ガス浸炭炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ＊詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電気炉導入前に確認すべき条件を10項目で整理
電気炉の導入前に、仕様検討の抜け漏れはありませんか？ 電気炉は最高温度だけでなく、処理目的、雰囲気ガス、圧力条件、サンプル条件、容器・治具、排ガス処理、安全対策、設置条件まで含めて仕様を整理する必要があります。 本資料では、電気炉・雰囲気炉の導入前に確認すべき10項目をチェックリスト形式で整理しています。 ■設備導入前の仕様整理に ■焼成テスト前の条件確認に ■特殊雰囲気・真空・還元・窒化処理の初期検討に ■見積依頼前の社内確認資料として活用可能 「どの条件をメーカーに伝えればよいか分からない」という段階でもご相談ください。
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【雰囲気一覧】 窒素 / 水素 / 酸素 / アルゴン / メタノール分解ガス / アンモニアガス 一酸化炭素 / 二酸化炭素 /AXガス / DXガス / RXガス / 三フッ化窒素 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問合せください。
こんな課題でお困りではありませんか？「COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う」
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 熱処理中にガスの切替が可能。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
最高温度だけで選んでいませんか？炉種選定の比較資料
雰囲気炉・電気炉の選定でお困りではありませんか？ 電気炉は最高温度だけで選定すると、使用雰囲気、真空度、ガス流通、サンプル量、安全対策、排ガス処理などでミスマッチが生じる場合があります。 本資料では、マルチ雰囲気炉、管状炉、メタル炉、カーボン炉、小型塩素炉について、温度域・対応雰囲気・得意な用途・注意点を一覧で比較しています。 ■炉種ごとの違いを短時間で把握 ■設備導入前の仕様検討に活用 ■焼成テスト・条件探索の事前整理に有効 ■特殊雰囲気での焼成可否の確認にも対応
高真空・高純度雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス・酸化防止・安定化をサポート
分析評価では、サンプル表面の酸化、吸着水分、残留ガス、有機成分、不純物汚染が測定結果に影響する場合があります。 特に、高精度分析や表面分析、材料評価を行う前には、分析用サンプルを高真空・高純度雰囲気下で熱処理し、状態を安定化させることが重要です。 弊社のメタル炉は、炉内を金属部材で構成しているため、断熱材由来の粉じんや不純物の影響を抑えやすく、他炉種と比べて清浄な高純度雰囲気での焼成・熱処理に適しています。 また、一般的な断熱材炉に比べて高真空まで減圧しやすく、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス、酸化防止、還元処理、アニール、熱処理条件の検討に対応可能です。 ■ 分析前にサンプルを高真空で脱ガスしたい ■ 表面酸化や吸着水分の影響を抑えたい ■ 高純度雰囲気で分析用試料を熱処理したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気でサンプル前処理を行いたい ■ 既製炉では真空度、清浄度、炉内寸法が合わない
通常60～70％の熱交換率でありますがドレンが出ない最大効率を出すことができます！
ガス直火式バーナーの補助バーナーとして「HEX-30」を用いた事例を ご紹介いたします。 ガス直火式だと発生してしまう20％の水分による影響を排除する ことが可能。間接式であるため、乾燥対象物を選びません。 また、循環式にできるため、熱を必要以上に逃がしません。 乾燥効率やランニングコストの削減を考えている方などに 好適です。 【このようなお客様に】 ■ガス直火式や蒸気エロフィンなどによる乾燥をしている顧客の内、黄変や水滴、 乾燥不良の課題を持っている工場設備メーカーなどの、設計業務担当者 ■乾燥効率やランニングコストの削減を考えている ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応
金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
酸化を抑えるためのガス種・置換条件・炉構成を整理
N₂・Ar雰囲気で酸化を抑えた焼成・熱処理を検討していませんか？ 酸化を抑えるためには、単に不活性ガスを流すだけでは不十分です。 炉内への酸素・水分の持ち込み、置換手順、ガス流量、露点、残留O₂、サンプル形状、治具材質、冷却中の再酸化まで含めて条件を決める必要があります。 また、N₂は比較的低コストで一般的な酸化抑制に使いやすい一方、材料によっては窒化・反応の可能性があります。 Ar/Heは反応性が低く、高純度処理や高温処理に向きますが、ガスコストや置換量、漏れ込み管理の検討が重要です。 本資料では、N₂・Ar/He雰囲気焼成におけるガス種の使い分け、炉選定、露点・残留O₂・置換手順などの確認項目を整理しています。 ■N₂・Ar雰囲気での酸化抑制に ■不活性雰囲気での焼成・熱処理に ■N₂とAr/Heの使い分け確認に ■露点・残留O₂・置換手順の条件整理に ■設備導入前の焼成テスト・炉種選定に
