更新日： 集計期間:2025年11月12日～2025年12月09日
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【最大70%の出力削減】均熱かつ静止加熱を実現！クリーンな環境なので粉塵・異物混入がしにくく小型センサにも有効 ※導入事例 進呈
九州日昌が取り扱うスタック炉はリードフレームや電子部品マウント後の基板、搬送キャリアに搭載された小型センサに有効な加熱方式です。（ECUや600×600サイズのフィルム等も実績あり） インライン化にすることにより、生産性効率UP、24時間安定稼働加熱が 可能です。 また、半導体業界、電子部品業界のみならず、自動車業界、食品業界などの多種多様な業界に対応可能。 加熱室容積が狭いため、省エネルギーに貢献します。 【特長】 ■多彩なバリエーションにより、前後装置とのインライン化に対応 ■長時間安定した再現性のある温度制度を実現 ■静止加熱により粉塵や揺れを抑制し、製品品質を向上 ■2Dから3Dにより、工場内の設置床面積を大幅に削減 ■加熱室容積大幅削減により、省エネルギー化に貢献 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1650°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
