Last Updated： Aggregation Period:2025年07月16日～2025年08月12日
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金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのはんだ付けプロセスに最適！
「PH-224-S型」は最高温度400℃対応の真空はんだ付けバッチ炉です。小型バッチ炉タイプで、はんだ付けプロセス少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 観察窓により、ワークの状態が視認できます。温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 空冷にて、最高温度400℃対応です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ヒータの異常加熱を防止！過昇温度防止機能を搭載した焙焼炉
『焙焼炉』は、ステンレス製チャンバーの内部に抵抗加熱ヒータ及び断熱材を 設置し、試料を大気中にて加熱し、焙焼を行う装置です。 プログラムタイプの温度調節器を採用し、19個のプログラム（1プログラム/ 19ステップ）を保持、設定が可能。 石英管にヒータを入れることにより、パーティクルコンタミを発生させません。 【特長】 ■過昇温度防止機能で、ヒータの異常加熱を防止 ■無停電電源（制御系のみ）により、瞬時に停電を対策 ■ペーパーレス記録針（8打点）を設け、炉内の温度データを取り込み可能 ■プログラムタイプの温度調節器を採用 ■19個のプログラム（1プログラム/19ステップ）を保持、設定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体用クリーンルーム対応リフロー炉
ウェハーレベルのソルダバンプ形成とベアチップのフェースダウン実装を可能にした最新のマイクロソルダリング用リフロー炉です。
燃やすことを追求した 水冷式焼却炉 プレミアムモデル！
【特徴】 ■高速ジェット燃焼 燃焼用エアーのバランスを最適にすることで、１ランク上の燃焼を実現しました。 ■ハイレベルな消煙・集じん能力 新型サイクロン集じん室により消煙・集じん能力が大幅に向上しました。 ■長時間安定燃焼 水冷式により、安定燃焼と長時間連続運転を可能にしました。 ■大きなゴミをらくらく投入 全面開放扉と大容量燃焼室で大きなゴミをらくらく投入できます。 ■耐久性アップ 炉内の板厚を厚くすることでサビ等による腐食への耐久性をアップしました。 ■静音タイプ 新タイプの消音器で送風機から発生する音を低減しました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多くの実績からお客様の処理プロセスに応じた設備提案が可能です！
『脱脂焼結炉』は、高効率ワックストラップを採用した設備です。 操作性・メンテナンス性に優れたサイドドア形式。 真空～加圧（0.9MPa）領域において優れた温度均一性を発揮します。 また、加圧・ガスファン冷却の採用により冷却時間を短縮し、 インナーマッフルの採用により脱脂・焼結時のアウトガスから 炉材を保護します。 【特長】 ■好適な炉内・ヒータ設計による高い温度分布性能 ■加圧雰囲気下での高速ガスファン冷却・熱処理が可能 ■処理プロセスに応じ、排気制御ライン・雰囲気制御方式の選択が可能 (圧力コントロール方式、H2 他ガス種選択) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
上下加熱、最高400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉（加熱炉）
昇温速度と温度均一性の更なる向上を目的に、SVO-1の上位機種として 新たにラインナップに追加した卓上型リフロー炉 SVO-1 Plusです。 炉内の上下にヒーターを配置し、各ヒーター出力も個別に設定できます。 対象ワークに適した加熱温度設定やヒーター出力の最適化により、 サイクルタイムの短縮およびワーク温度の均一性の向上を図ることができます。 リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、 基板の乾燥や、熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 【特長】 ■基板の上下加熱に対応 ■ 各ヒーター出力の設定が可能 ■ 最大400℃までの加熱に対応 ■ 最大8ゾーンまでの温度プロファイル設定 ■ 一定温度で最長10時間までの継続運転 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
高温下でのセラミックスの焼結、ガラスの溶融状態等の炉内観察用炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『高温挙動観察炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：W100mm×D100mm×H150mm ■最高温度：1400℃ ■プログラム酸素濃度制御 のぞき窓、天井1カ所、側面2カ所 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
気相法による小型実験製造装置（カーボンナノファイバー製造装置）
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『特殊炉【小型カーボンナノファイバー製造装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■気相法による小型実験製造装置 ■均一なガスの分散と精度な温度制御により、 均質なナノファイバーを作る事ができる ■カーボンナノファイバー及び、カーボンナノチューブまでの 実験生産に使用することができる ■詳細は、お問い合わせ下さい。
型式：TITANH6！IoT制御システムや閉鎖型冷却システムなど搭載
当社の『HV9』をご紹介いたします。 リモート、クラウドを経由した遠隔監視、遠隔制御システムの「Vacuprof」や、 クラウドサーバー対応予測保全システム「PdMetrics」を搭載。 CCコンポジット炭素繊維強化複合材料により放射効率を向上し、 4層グラファイトフェルトによる高断熱構造。効率的な昇温、冷却が可能です。 【特長】 ■閉鎖型冷却システム ・冷却水を閉鎖循環とし、炉体の腐食の予防とポンプ制御による省エネルギーの実現 ■冷却ファンインバータ制御 ・冷却ファンを真空下からインバータ制御し、省エネルギーを達成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガスパージ・プログラム温度調節が可能！温度ムラを極力抑えた角形焼成炉
「CHP-400-2G型」は、窒素ガスなどのパージを行いながら昇温出来る角形焼成炉です。 焼成炉の構造は、簡易気密構造で、ガスパージ中における外気の進入を抑えます。 焼成炉は4面パネルヒーター加熱方式で、常用1000℃の使用が可能です。さらにプログラム温度調節計により、高精度なプログラム運転が可能です。 また、オプションにて酸素ガスによるパージも可能です。 【特徴】 ○4ゾーン式角形加熱方式 ○焼成炉内部にガスパージ可能 ○プログラム温度調節計による温度制御 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
優れた製品加工技術、洗練された設計、高度の信頼性が特徴のマッフル炉
このマッフル炉は研究室での平常の使用に最適の機種です。優れた製品加工技術、近代的デザイン、そして高度の信頼性がこのシリーズの特徴をなしています。これらのマッフル炉は前開き扉、または上下スライド扉のどちらも値段の追加なしにご注文いただけます。
省エネ構造！高精度バネの加工をサポートする省スペース小型テンパー炉
『CS-50D/100D』は、設置場所をとらない省スペース設計で加工機との 直結に適したコンベア式テンパー炉です。 加工機との直結により異物混入・変形等を防ぎ高品質バネの生産をサポート。 新設計の炉体構造により、従来比20%以上の省電力を実現しました。 また、当社のオレンジストッカー「OS-Dシリーズ」との直結運転により、 長時間無人運転が可能です。 【特長】 ■加工工程のライン化で高品質バネの生産をサポート ■設置場所をとらない省スペース設計 ■省エネ構造 ■高品質テンパーを実現 ■攪拌ファンによる強制対流方式を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型 高温電気炉『FT-107FMW』
最高温度1,700℃・160Ｗ×200Ｄ×150Ｈの広々炉内で本体サイズは、350Ｗ×500Ｄ×650Ｈの省スペース・超低価格・即納OK！な卓上型高温電気炉です。。前面より試料を出し入れする扉方式で手軽に３０分で１５００℃まで急速昇温可能な高性能高温小型電気炉です。パソコン通信制御対応プログラムコントローラーとガス導入ユニット(ニードル式フローメーター)標準装備で手軽に使用可能です。また、オプションで１，８００℃仕様も可能です。
るつぼ式溶解保持炉 スパイラル炉
炎がスパイラル状に回転することで、有効熱がルツボ全体に伝熱！ 炉内圧を制御して最適燃焼を図る溶解保持炉 【特徴】 ○昇温がスピードアップ フレームガイドに沿って炎が廻る為、ルツボ全体を炎で包み ルツボ全体に熱を伝えることで昇温スピードがアップ ○不良率の低減 溶解温度のムラが無くなり、製品品質の向上に貢献 ○長寿命 ルツボの表面負荷が均一なため、ルツボの一部のみに 負荷がかかるのを防ぎ、ルツボの寿命を延ばす事が可能 ○高い省エネ効果 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい
