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アライナ×株式会社ナノテック - 企業1社の製品一覧

製品一覧

1~7 件を表示 / 全 7 件

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コンポーネント型マスクアライナー ES20

ESシリーズのローコスト片面アライナー

お客様の仕様やご予算にあわせて最適なマスクアライナーをビルドアップ。各種ユニットやオプションの中から必要なものだけを選択することで無駄なコストを抑えた使い易い装置が構成できます。ご要望を伺い、最適な仕様をご提案致します。 またほとんどのユニットが後から追加・交換できますので将来のグレードアップや初期導入コスト削減も可能です。2タイプのUV光源装置から選択できます。(露光サイズ各種)φ1~4インチ試料対応(角形試料等カスタム形状にも対応)し、□2~5インチマスク対応です。また、CCDカメラ、実体、接眼タイプ等各種観察顕微鏡から選択できます。コンパクトでローコストです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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実験・研究用マスクアライナー ES410

ローコストでフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナー

実験・研究用マスクアライナー ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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高性能マスクアライナー LAシリーズ

コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー

高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動+ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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両面同時露光マスクアライナー BS320

ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応!

両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光!セミオート動作で中ロット生産に対応

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載(オプション) 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置

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マスクアライナー

セミカスタムで最適なシステム構成にできます

汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。

  • コーター
  • その他半導体製造装置

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実験・研究用マスクアライナー『ES410』

ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備!マスクアライナー

『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などに ご使用いただけます。 【特長】 ■ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性 ■各種ユニットやオプションを選択可能 ■目的にフィットした装置にセットアップ可能 ■ほとんどのユニットが後から追加・変更可能 ■将来のグレードアップにも対応 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他医療用品・化粧品製造機械
  • その他 実験用器具・備品

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