更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ AlSc Ni系 Ti系 Al系 【特徴】 ・純度が99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
■純度>99.99％ ■理論密度（6.67g/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
マイクロチップのゲート回路などにおける、金属配線用の拡散防止剤や接着剤として使用可能なタングステンチタン材料
■純度：99.9％ ■密度（19.3 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
■純度：99.9％~99.999％ ■理論密度（16.6 g/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム！
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン！
■純度>99.9％ ■密度（4.49 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
■タンタル(Ta)ターゲットは主に物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)プロセスに用いられる ■高耐熱性、優れた耐蝕性 ■高密度(16.6g/cm3) ・高エネルギースパッタリングに適用し、薄膜堆積効率を高める ■良好な導電性 ・抵抗率が低く、半導体及び電子デバイスの応用に適している ■生体適合性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献！積層セラミックコンデンサの誘電率を高める添加材として
■純度>99.9％ ■密度（4.47 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
集積回路（IC）の製造、半導体・マイクロエレクトロニクス産業に貢献！高品質な薄膜を成膜可能なニッケル・バナジウム材料
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。
自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。
・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状： プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
■高純度 ・通常純度が99.99％（4N）以上に達し、半導体、光学膜などの材料純度に対する要求が高い応用を満たすことができる ■良好な導電性 ・錫(Sn)は優れた導電性を有し、ITO薄膜の製造などの透明導電膜に適している ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。
＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
