更新日： 集計期間:2026年02月18日～2026年03月17日
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物質の酸化や還元反応が優先可能！従来方法では不可能であった物質の分解や合成ができます
ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、 強度等の特長を保持したまま様々な用途に使用できます。 電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が優先 できるため、従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能。 また、当社では、ダイヤモンド膜成膜時のプロセス条件や前処理を 最適化することで、オゾン水の生成に好適な導電性ダイヤモンド電極を 提供しています。 【特長】 ■物質の酸化や還元反応が優先できる ■従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術から生まれたイオンプレーティング
イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 用途に応じて部品・素材に新たな機能を施すことが可能です。 【イオンプレーティングの特長】 ■真空蒸着より密着力が強い ■低温でのコーティングが可能（極一部の膜種除く） ■幅広い膜種に対応可能 ■成膜条件の多様性が得られる ■酸化膜・窒化膜・炭化膜など反応膜への応用が可能 ■真空蒸着より影への膜の付きまわりが良い ■合金膜が可能
薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。
一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★（もちろん薄い膜も得意です） 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！
最大成膜エリア400mmΦ・315mm□！スパッタリングによる各種薄膜の成膜
当社では、各種金属材料、酸化膜材料等の受託成膜を行っており 特にプラスチック基板上への成膜を得意としております。 通常納期は1週間程度で、ご要望によりパターン成膜も可能。 まずは成膜したい材料、用いる基材をお知らせください。 お客様のご要望をもとに、前処理条件、成膜条件、膜厚等を決定いたします。 【可能な基材】 ■ガラス ■金属 ■セラミック ■Siウエハー ■各種プラスチック材料 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です
当社では、導電性ダイヤモンド コーティングサービスを行っております。 シリコン、ニオブ、タングステン、モリブデンなどの基板の上にダイヤモンド膜をコーティングする受託成膜をこなっています。 ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、強度等の 特長を保持したまま様々な用途に使用可能。 また、電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が 優先できるため、従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です。 【用途範囲】 ■電解合成 ■電気分解 ■センサー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜は当社にお任せください！
株式会社M.T.Cで行っている加工受託サービスについてご紹介いたします。 当社は半導体加工で培った豊富な知識と経験で、MEMS受託加工サービスを 提供しており、成膜工程では熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜を実施。 また、その他にも前処理やフォトリソグラフィー、エッチング、電界メッキ、 接合も行っています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【加工内容】 ■熱Si酸化成膜 ■CVD成膜 ・SiO2、SiN ■メタル成膜 ・Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基板や膜の素材(種類)、厚さをご要望に合わせて成膜可能！透過率８０％以上と高い性能のFTO透明導電膜 ※持ち込み受託テスト可
液晶・電子部品・太陽電池に使われるガラス基板でうまく電気を流したい、 ガラス基板を発熱させてヒーターとして使いたいなどのご要望ございませんか？ ＳＰＤ研究所なら、シート抵抗と膜厚を要望に合わせた数値に成膜可能！透過率も８０％以上と高い高性能のガラス基板を受託で成膜できます。 ※自社開発した成膜装置を使った持ち込みテスト可能。大手電機メーカーや大手化学メーカーなどの多数実績有り！ 【こんなご要望ございませんか？】 ■薄いガラス0.2ｍｍから2.5ｍｍまでの幅広い板厚で実験したい ■ガラスだけではなく、メタル（SUS/アルミなどの金属基板）基板にも成膜したい ■特定のパターンニングした箇所でかつ、スポット的に成膜したい ■膜の種類を変えて試してみたい ※例：ＦＴＯ、ＩＴＯ、Ｔ:O²、ＡＴＯ、ＡＺＯ、ＣuＩ²、ＰＴＯ…など SPD研究所では、自社開発で成膜装置を製造しているからこそ、ご要望に沿った成膜を実現できます。お気軽にお問い合わせください。 ※ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングなどの情報はPDFダウンロードいただくか、お問い合わせ下さい。
