更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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現実の世界で起こる複雑な現象や、これから作ろうとする製品・システムの動作を、コンピュータ上で数学的なモデル（計算式）を用いて仮想的に再現し、その結果を予測・分析するためのソフトウェアです。例えば、自動車の衝突安全性、新薬の化学反応、気象の変動、工場の生産ラインの効率などを、実際に試作したり実験したりする前に、PC上で試行錯誤できます。開発コストの削減や期間短縮に大きく貢献します。
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従来では困難だった点火プラグの摩耗解析も可能な『VizSpark』。
VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。 スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。 国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。 ・点火プラグ(スパークプラグ) ・遮断機 ・大気圧放電 ・プラズマトーチ（プラズマジェット） ・溶接 ・溶射 ・高輝度ランプ
従来では困難だったスパークプラグのエロージョン解析も可能な『VizSpark』。
VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。 スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。 国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。 ・点火プラグ(スパークプラグ) ・遮断機 ・大気圧放電 ・プラズマトーチ（プラズマジェット） ・溶接 ・溶射 ・高輝度ランプ
ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
CFD（流体解析のソルバー）を低価格で提供します！
『EDDL』は、自動車の設計工程の大幅短縮とコスト削減に貢献する 電着塗装のシミュレーションソフトです。 初期導入教育期間を短縮し、導入の1～2日後から解析が可能。 ヒューマンエラーを最小限に抑え、無駄を省きます。 【機能】 ■メッシュの自動生成 ■並列化による高速計算 ■高精度な塗料相関式 ■Air Poket予測ソフト（AAPD）との連成 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「マテリアルズインフォマティクス」に有効な材料開発シミュレーションソフトウェア 『Materials Studio』
ツールを活用し連携する事により、より効率よく、より簡単に、 新規材料開発に役立ちます。 ■「マテリアルズインフォマティクス」にも最適 量子力学、古典力学、メソスケール、統計、分析/結晶化ツールを備えた 次世代材料開発向け分子モデリング/シミュレーションツール群です。 【特長】 ■材料開発を効率化するシュミレーションソフト 業界分野を問わず、研究、開発、設計、製造に従事される方にご利用いただけます ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成、計算条件設定、計算結果表示の 全てを行うことが可能 【事例】 トライボケミカル(潤滑)反応 CFRP(炭素系素材)などの解析 結晶成長や薄膜形成、燃料電池、潤滑剤 触媒、ポリマー、混合物、金属や合金、電池や燃料電池など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 株式会社ウェーブフロント 営業部 MAIL: sales@wavefront.co.jp URL: http://www.wavefront.co.jp/
「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム（旧LASTIP）無料試用版あり！
■下記Youtubeにて試用版デモ"Trial Guide"の動画を公開中！ ■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から （製品の詳細については、カタログもしくはお問い合わせ下さい）
【製薬・食品にも】製造プロセスを見える化！原薬製造や製剤工程の、品質向上や生産コストの見直しに。 ※デモテスト実施中
米国メガファーマとの共同で開発したモデリングツールです。 最近では製薬業界において、バッチから連続生産へ移行されつつあり、 プロセスの設計や制御システムの検討などに使われています。 gPROMS FormulatedProductsのモデルライブラリです。 連続生産プロセスでは高度な品質管理（PAT、QbD、RTRT)、 少量多品種生産への対応が可能になりますが、同時に高精度なプロセスモデリング技術が不可欠となります。 『プラントの建設費を削減したい』『既存プラントでの生産量をあげたい』 『製品品質（粒度分布）を向上させたい』など、お気軽にお問い合わせください！ YouTubeにて動画がご覧いただけます https://youtu.be/AJZcgI-r2Ik
テンプレ、モジュール利用で簡単設定！解析時間を従来ソフトから約1/3に削減した事例も。
容積形ポンプ、コンプレッサー、弁の流体の過渡特性を計算するための流体シミュレーションツールです。質量、運動量、エネルギー、化学種の保存則を正確に解くことで精度の高い流体シミュレーションを実現します。 【特長】 ◆他ソフトでは困難な回転変形に対する計算メッシュの自動生成 ◆流量・圧力脈動・トルク・エアレーション/キャビテーションなどの特性を解析 ◆計算結果/進行状況をリアルタイム表示 ※国立大学法人 九州工業大学様で採用された事例があります。詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネトロンスパッタ"シミュレーションが可能
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
gPROMS ソフトウェアが用途別のパッケージ製品となりました。
従来、必要なライセンスのみでご利用いたただいていたgPROMSですが、パッケージ化され、多岐の用途でご利用頂けることとなりました。多くの検討にご利用頂けます。
ロール・ツー・ロールシステムの設計・開発へシミュレーションを導入！開発の効率化と製品性能の向上を
シミュレーションソフト『MapleSim』は、フィルム、商業印刷機、電池製造、 テープなどロール・ツー・ロールシステムに対して、張力解析を軸とした シミュレーションを可能にし、開発の効率化、製品性能向上に寄与します。 【活用事例】 ■設計変更の効果の評価を、過去機種や試作機での試験から、シミュレーションに 置換えることで、より効率的で幅広いテストを可能に ■制御系検証には実機を用いることが多いが、シミュレーションを利用することで 実機を待つことなく検証を開始し、開発を効率化 【特長】 ■ウェブハンドリングに特化したモデリング要素を提供 ■ドラッグ & ドロップなどマウス操作でシミュレーションモデルを構築 ■アニメーションによる結果の可視化で、結果の理解をサポート ■高速シミュレーションで、より多くのケース・パラメータスタディを短時間で実施 ■モデルエクスポートにより PLC ソフトウェアや MATLAB/Simulinkと連携 ※シミュレーションの基礎理論式や、品質向上の活用事例をご紹介した「解説資料」を無料進呈中 ぜひ PDF ダウンロードからご覧ください。
