シミュレーションソフト(解析) - メーカー・企業と製品の一覧

【事例】『DSMC-Neutrals』シャワーヘッド型CVD解析

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析はじめ様々なシミュレーションに対応【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社ウェーブフロント本社
価格：応相談

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【事例】『DSMC-Neutrals』でのダスト挙動の解析

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析はじめ様々なシミュレーションに対応【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社ウェーブフロント本社
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プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・低圧プラズマ解析を得意とします・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます・自社開発ソフトの強みとして標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社ウェーブフロント本社
価格：100万円 ~ 500万円

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3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・低圧プラズマ解析を得意とします・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます・自社開発ソフトの強みとして標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社ウェーブフロント本社
価格：100万円 ~ 500万円

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【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)

2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム（旧LASTIP）無料試用版あり！

■下記Youtubeにて試用版デモ"Trial Guide"の動画を公開中！ ■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から（製品の詳細については、カタログもしくはお問い合わせ下さい）

企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社
価格：応相談

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粉体プロセスシミュレーションソフト『gFORMULATE』

【製薬・食品にも】製造プロセスを見える化！原薬製造や製剤工程の、品質向上や生産コストの見直しに。 ※デモテスト実施中

米国メガファーマとの共同で開発したモデリングツールです。最近では製薬業界において、バッチから連続生産へ移行されつつあり、プロセスの設計や制御システムの検討などに使われています。 gPROMS FormulatedProductsのモデルライブラリです。連続生産プロセスでは高度な品質管理（PAT、QbD、RTRT)、少量多品種生産への対応が可能になりますが、同時に高精度なプロセスモデリング技術が不可欠となります。『プラントの建設費を削減したい』『既存プラントでの生産量をあげたい』『製品品質（粒度分布）を向上させたい』など、お気軽にお問い合わせください！ YouTubeにて動画がご覧いただけます https://youtu.be/AJZcgI-r2Ik

企業：シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ
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シミュレーター
解析サービス

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ポンプ、弁向け流体シミュレーションソフト【※事例進呈中】

テンプレ、モジュール利用で簡単設定！解析時間を従来ソフトから約1/3に削減した事例も。

容積形ポンプ、コンプレッサー、弁の流体の過渡特性を計算するための流体シミュレーションツールです。質量、運動量、エネルギー、化学種の保存則を正確に解くことで精度の高い流体シミュレーションを実現します。【特長】 ◆他ソフトでは困難な回転変形に対する計算メッシュの自動生成 ◆流量・圧力脈動・トルク・エアレーション/キャビテーションなどの特性を解析 ◆計算結果/進行状況をリアルタイム表示 ※国立大学法人九州工業大学様で採用された事例があります。詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

企業：株式会社ウェーブフロント本社
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その他CAD
熱流体解析
受託解析

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【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネトロンスパッタ"シミュレーションが可能

『Particle-PLUS』はプラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適したシミュレーションソフトウェアです。・低圧プラズマ解析を得意とします・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます・自社開発ソフトの強みとしてお客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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gPROMS シミュレーションソフトウェア

gPROMS ソフトウェアが用途別のパッケージ製品となりました。

従来、必要なライセンスのみでご利用いたただいていたgPROMSですが、パッケージ化され、多岐の用途でご利用頂けることとなりました。多くの検討にご利用頂けます。

企業：シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ
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解析サービス

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ウェブハンドリング向けシミュレーションツール※解説資料を無料進呈

ロール・ツー・ロールシステムの設計・開発へシミュレーションを導入！開発の効率化と製品性能の向上を

シミュレーションソフト『MapleSim』は、フィルム、商業印刷機、電池製造、テープなどロール・ツー・ロールシステムに対して、張力解析を軸としたシミュレーションを可能にし、開発の効率化、製品性能向上に寄与します。【活用事例】 ■設計変更の効果の評価を、過去機種や試作機での試験から、シミュレーションに　置換えることで、より効率的で幅広いテストを可能に ■制御系検証には実機を用いることが多いが、シミュレーションを利用することで　実機を待つことなく検証を開始し、開発を効率化【特長】 ■ウェブハンドリングに特化したモデリング要素を提供 ■ドラッグ & ドロップなどマウス操作でシミュレーションモデルを構築 ■アニメーションによる結果の可視化で、結果の理解をサポート ■高速シミュレーションで、より多くのケース・パラメータスタディを短時間で実施 ■モデルエクスポートにより PLC ソフトウェアや MATLAB/Simulinkと連携 ※シミュレーションの基礎理論式や、品質向上の活用事例をご紹介した「解説資料」を無料進呈中　ぜひ PDF ダウンロードからご覧ください。

企業：Maplesoft Japan株式会社
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表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）

初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュール

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です。【特長】 ■粒子モンテカルロ法を用い、セル法により固体層占有率、表面被覆率を　考慮し形状を表現 ■ガス種、反応式、錯体、そしてポリマーなどの数に制限はない ■3次元直交メッシュで定義されるが、初期形状はトレンチ、ホールで　与えることが可能 ■入射粒子情報はPEGASUS気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの　出力を使用するか、もしくは当製品が備えている入力方法で使用者が指定 ■反応式は使用者が定義し、鏡面反射確率、反応確率は入射角度および　入射エネルギーに依存する関数を使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：ペガサスソフトウェア株式会社
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真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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設備稼働率シミュレーション AvSimモジュール

設備資産のパフォーマンス改善！メンテナンス戦略策定・予備品戦略策定と最適化

Availability Workbench AvSimモジュールは、予備品の保有量により設備のライフサイクルコストに及ぼす影響をシミュレーションすることができます。また、設備の稼働率やパフォーマンスについてもシミュレーションすることが可能。スペアパーツの依存関係をモデル化し、在庫レベルの最適化を実現します。【特長】 ■設備の稼働率、パフォーマンスの計算が可能 ■さまざまな業界の設備管理、故障解析を熟知した専門家が支援 ■ツールによるプロジェクト一括管理 ■直感的なユーザインターフェース ■他のモジュールとの連携可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ビジネスインテリジェンス・データ分析

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