更新日： 集計期間:2025年07月02日～2025年07月29日
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表面塗布後は自動的に基板を反転させ連続で裏面を塗布可能！近距離塗布方式を新規に採用しました
『水平式連続両面スプレーコーター』は、液状フォトソルダーレジストインキを 水平搬送されてくる基盤に対して、上部よりエアー霧化式スプレーガンにより、 搬送方向と直交する軸上をスキャニングしながらコーティングする装置です。 高い塗着効率を実現させる為、従来の常識的な被塗装体(基板)と スプレーノズルとの距離を極端に短くし、噴射された塗料粒子の初速を 極力維持させ塗着させる近距離塗布方式を新規に採用しています。 【特長】 ■搬送方向と直交する軸上をスキャニングしながらコーティング ■表面塗布後は自動的に基板を反転させ連続で裏面を塗布可能 ■自動可動式(幅方向の基板サイズ変更に追従) ■スプレーミストのブース外流出を極力抑えられる構造 ■密閉ブースの為給排気のバランスが常に保たれている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
スプレー、プラズマ単体でも使用可能！当社のスプレーコーターをご紹介
『API-40RS』は、チャンバー内にプラズマとスプレーのヘッドを搭載した プラズマ付きスプレーコーターです。 1台で前処理、塗布の2工程が可能。省スペースで低コスト。 塗布品質もアップ。 スプレー、プラズマ単体でも使用可能で、1チャンバーなので省スペース。 サイクルタイムを短縮できます。 【仕様】 ■寸法：W1300×D700×H1700mm ■対応ワークサイズ：最大200×200mm ■プラズマ出力：1kW ■処理時間 ・プラズマ：30～100sec ・スプレー：15～50sec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
タッチパネル、燃料電池等の各種ナノ材料、プロセス開発の為に設計された開発者用高精度スプレーコーター！
卓上機ながら液量精度1％を実現する超高精密スプレーコーターです。 ・脱着式、ディスポーザブルタイプのスプレーヘッドを使う為、実験準備が非常に簡便で開発効率を高められます。 ・使用前後のメインテナンスがほとんど不要で、いつでも実験が可能です。 ・液の使用量が３ml〜10ml／１実験と非常に少なくて済む為、開発コストが低減出来ます。 ・正確な塗布条件が把握出来るため、量産プロセスへのスケーラビリティ性に優れています。 ・静電容量方式のOGS(One Glass Solution）レジスト塗布、AR/AS/AG,燃料電池電極塗布などの各種薄膜プロセス、材料開発をされる研究開発部門に最適な装置です。
1台で前処理、塗布の2工程が可能！当社のスプレーコーターをご紹介
『APIP-40RSD』は、プラズマ処理とスプレーコートを1台で 自動処理できる2工程対応型スプレーコーターです。 各行程でステージがチャンバー間を移動。 省スペースで低コスト、塗布品質アップ。防爆仕様。 スプレー、プラズマ単体でも使用が可能で、使用する薬液の制約が 少ないことがメリットです。 【仕様】 ■寸法：W1700×D700×H1700mm ■対応ワークサイズ：最大200×200mm ■プラズマ出力：1kW ■処理時間 ・プラズマ：30～100sec ・スプレー：15～50sec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
