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優れた解析技術が成形を可能に！テーラード材(TWB)を一括成形し、金型数・工程数が激減したダブルドアリング(DDR)
『一体成形ホットスタンプ』は、重ね合せ組付けの廃止による材料の削減で 軽量化できる技術です。 部品の高性能化と高剛性化を実現し、安全性を向上。 また、3000mm×2000mmの「遅れ破壊対応大型ホットプレス加熱炉」や、 「マルチマテリアル溶接」をラインアップ。設計～製品制作～検査評価まで 一貫したモノづくりが可能ですので、ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■軽量化：重ね合せ組付けの廃止による材料の削減 ■コスト減：型投資の低減と組付け工程の簡素化 ■安全性向上：部品の高性能化と高剛性化を実現 ■圧倒的強度：1.5Gpaの強度が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【最大3500mm×2500mm | 直行ローダ搬送型大型ホットプレス加熱炉導入】TWB材を一括成形し、金型数・工程数を大幅削減
ホットプレスにおける遅れ破壊要因は「侵入した水素（H2）」になります。 当社の一体成型ホットプレスでは下記2点の対応が可能です。 【ホットプレスにおける遅れ破壊要因と対策】 ■加熱炉内の低露点化（水分の減少） 炉内の露点を-100℃～30℃として雰囲気中の水分子を 結露させ、水分を炉内から除去します。 ■加熱炉内の低水素濃度化（水素濃度の減少） 炉内の雰囲気を不活性ガスである窒素またはアルゴン雰囲気とし、 水素濃度を5mol%以下とします。 【一体成型ホットスタンプのメリット】 ■軽量化：重ね合せ組付けの廃止による材料の削減 ■コスト減：型投資の低減と組付け工程の簡素化 ■安全性向上：部品の高性能化と高剛性化を実現 ※詳細はカタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問合せ下さい。
空冷モータの放熱シミュレーションをAICFDにより実行し、解析結果の検証を実施！
現代の工業界において、モータは様々な産業分野で不可欠な動力源として 利用されています。 モータの正常な運転を維持するためには、過熱を防ぐことが非常に重要であり、 特に空冷モータの場合、適切な放熱設計は信頼性と性能に直結します。 熱流体解析ソフトウェアAICFDは、このような課題に対応し、適切な熱設計を 実現するためのツールとして、簡単な操作性と効率的なデータ取得を提供します。 本記事では、空冷モータの放熱シミュレーションをAICFDにより実行し、 解析結果の検証を行いました。 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
品質の向上！省力化！一般的な遠赤外線加熱炉の特徴についてご紹介
有限会社AMKは、工業用遠赤外線ヒーターと加熱装置・乾燥装置を取り扱っている会社です。 遠赤外線ヒーターを配置した面に平行に被加熱物を連続的に搬送させ加熱することが一般的な遠赤外線加熱炉であります。 これにより加熱処理時間の短縮、品質の向上、工程合理化、省力化ができるのが大きな特徴です。 そのため、熱風炉から連続式遠赤外線炉への転換が進んできたことは知られていることです。 ただし光と同じ作用であることから、陰になる所、立体形状でヒーターからの距離が部位により異なる場合、ファンを併用しても均一加熱は難しいことが多いのです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガス加熱から切り替えてCO₂排出を削減。高出力電化で脱炭素と効率向上を同時に実現します。
製造現場の脱炭素化に向け、「ガス炉のCO₂削減が課題」と感じる企業に最適。 『ALHYPER MAX』は電気加熱でCO₂を大幅削減し、20kW高出力で溶湯保持も安定。 【製品の特長】 ・ガス炉から電化へスムーズ移行 ・高出力で温度を迅速・安定保持 ・CO₂排出量削減に貢献 ・既存炉にも後付け可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
SiO2・Al2O3・Si3N4粉末中の金属不純物を、母材を残して選択除去
セラミックス粉末の高純度化では、Fe、Ni、Cr、Naなどの金属不純物が、製品特性・焼結性・絶縁性・歩留まりに影響する場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、SiO2、Al2O3、Si3N4などのセラミックス粉に混在する金属不純物を、揮発性塩化物として乾式除去する条件を検討できます。 湿式処理と異なり、洗浄水・廃液処理・乾燥工程を抑えられるため、水分を嫌う粉末や再汚染を避けたい高純度材料の処理に適しています。 少量サンプルで温度、ガス種、ガス濃度、処理時間を比較できるため、高純度セラミックス粉末の試作・条件探索に活用できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる選択塩素化に対応 ■ Fe、Ni、Cr、Naなど金属不純物の乾式除去を検討可能 ■ SiO2、Al2O3、Si3N4などセラミックス粉末に適用検討 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
酸化物・窒化物材料の脱ガス・脱水・脱炭を、極真空〜還元雰囲気で制御
当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスやカーボンコンタミを抑制し、 酸素・炭素・水分の影響を低減したクリーンな熱処理環境を形成します。 メタル炉では、金属ヒーター・金属チャンバー構造により、極真空からAr/N₂/H₂などの雰囲気制御まで対応し、 高純度粉末やセラミック部材の脱ガス、脱水、脱炭、還元処理に適用できます。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・10^-3〜10^-5 Paの真空到達に対応 ■ メタルホットゾーン構成 ・金属ヒーター、金属チャンバー構造により、炉材の混入を抑制 ■ 高精度な温度・雰囲気制御 ・真空、Ar、N₂、H₂など、目的に応じた雰囲気制御に対応 ■ 小型から大型へのスケールアップに対応 ・小型機で条件確認後、大型炉への展開も検討可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
真空置換→N2/Ar/H2/NH3/加湿まで、雰囲気を切替えて反応条件を再現
当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価
セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応
金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
真空・Air・NH3などの雰囲気制御で、環境浄化材料の焼成と排ガス評価をサポート
環境浄化材料や触媒材料の開発では、焼成時の雰囲気、温度、排ガス成分が材料性能に影響する場合があります。 特に、有機成分を含む材料の焼成、触媒の活性化、NH3・COなどの発生ガスを伴う処理では、炉内雰囲気の制御と排ガス処理設備の検討が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、真空・Air・N2・Ar・NH3など複数の雰囲気に対応し、材料の焼成条件や排ガス発生条件に応じてカスタム設計が可能です。 環境浄化材料、触媒材料、吸着材、セラミックス材料などの焼成・熱処理において、炉本体からガス供給、排気、除害設備まで一貫して検討できます。 ■ 環境浄化材料や触媒材料の焼成条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ 真空・Air・N2・Ar・NH3など複数雰囲気で処理したい ■ 既製炉ではガス種、炉内寸法、排ガス処理条件が合わない ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、温度仕様、ガス供給・排気設備、排ガス処理を含めた検討ポイントを掲載しています。
高真空・高純度雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス・酸化防止・安定化をサポート
分析評価では、サンプル表面の酸化、吸着水分、残留ガス、有機成分、不純物汚染が測定結果に影響する場合があります。 特に、高精度分析や表面分析、材料評価を行う前には、分析用サンプルを高真空・高純度雰囲気下で熱処理し、状態を安定化させることが重要です。 弊社のメタル炉は、炉内を金属部材で構成しているため、断熱材由来の粉じんや不純物の影響を抑えやすく、他炉種と比べて清浄な高純度雰囲気での焼成・熱処理に適しています。 また、一般的な断熱材炉に比べて高真空まで減圧しやすく、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス、酸化防止、還元処理、アニール、熱処理条件の検討に対応可能です。 ■ 分析前にサンプルを高真空で脱ガスしたい ■ 表面酸化や吸着水分の影響を抑えたい ■ 高純度雰囲気で分析用試料を熱処理したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気でサンプル前処理を行いたい ■ 既製炉では真空度、清浄度、炉内寸法が合わない
真空・還元雰囲気で、材料開発や高温熱処理をサポート
研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない
構造物の温度分布、流入（流出）熱量、温度勾配、熱流束等を求めます。
【受託解析業務】熱解析とは構造物の温度分布、流入（あるいは流出）熱量、温度勾配、熱流束等を求めるものです。求めた温度分布を練成させて構造物の変形・応力を求める解析を実施することも出来ます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
【最大70%の出力削減】均熱かつ静止加熱を実現！クリーンな環境なので粉塵・異物混入がしにくく小型センサにも有効 ※導入事例 進呈
九州日昌が取り扱うスタック炉はリードフレームや電子部品マウント後の基板、搬送キャリアに搭載された小型センサに有効な加熱方式です。（ECUや600×600サイズのフィルム等も実績あり） インライン化にすることにより、生産性効率UP、24時間安定稼働加熱が 可能です。 また、半導体業界、電子部品業界のみならず、自動車業界、食品業界などの多種多様な業界に対応可能。 加熱室容積が狭いため、省エネルギーに貢献します。 【特長】 ■多彩なバリエーションにより、前後装置とのインライン化に対応 ■長時間安定した再現性のある温度制度を実現 ■静止加熱により粉塵や揺れを抑制し、製品品質を向上 ■2Dから3Dにより、工場内の設置床面積を大幅に削減 ■加熱室容積大幅削減により、省エネルギー化に貢献 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アルミを直接加熱することで周囲温度上昇を抑え、煤の発生を防ぎ鋳造品の品質影響を軽減します。
「ガス加熱で周辺温度が上昇し、アルミ表面に煤が付着する」といった課題を解決。 『ボードバス炉』は直接加熱方式により周囲温度上昇を抑制し、鋳造品への煤付着を防ぎ品質を安定させます。 【特長】 ・周囲温度上昇を抑制 ・アルミ表面の煤発生を軽減 ・品質安定化 ・省エネ運用 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
Cl2・HClで金属不純物を塩化物化し、母材を残して選択分離
「小型塩素炉」は、Cl2・HClなどのハロゲンガスを用い、金属不純物を揮発性塩化物へ変換して分離する乾式プロセスに対応した試験炉です。 材料中のFe、Ni、Cu、Al、Na、Cr、Pなどの不純物は、塩素化により母材とは異なる蒸気圧・沸点を持つ塩化物となる場合があります。 この性質を利用し、温度・ガス種・処理時間を調整することで、母材を残しながら不純物のみを選択的に揮発・分離する条件を検討できます。 湿式処理のような廃液処理・乾燥工程を抑えたい場合や、水分を嫌う粉末・セラミックス・高純度材料の不純物低減に適しています。 【特長】 ■ Cl2・HClによる選択塩素化に対応 ■ 金属不純物を揮発性塩化物として分離検討 ■ 蒸気圧差・反応温度差を利用したドライ精製 ■ 高純度粉末、セラミックス、SiC、Si3N4、Al2O3等に適用検討 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
黒鉛化、炭化、焼結、結晶化など、小型カーボン炉で検討できる用途を紹介
当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内に炭素部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・焼結、高融点材料の高温処理、研究開発向けの小スケール試験などをご紹介します。 【主な仕様例】 ■ 設備寸法：1000W×1000D×2100H mm ■ 炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■ 対応雰囲気：不活性ガス Ar、N2、および真空 ■ 炉内材質：グラファイト ■ ドア構造：開き方式 ■ 真空ポンプ：ロータリーポンプ ■ 記録監視：温度、流量、圧力など ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
温度・塩素分圧・圧力を制御し、Au・Cu・Sn・Fe・Niなどを塩化揮発で選択分離
都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niなどの有価金属やベースメタルが複雑に混在しています。 これらを湿式処理で分離・回収する場合、薬液使用、廃液処理、前処理工程、乾燥工程などが課題となる場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた乾式塩素化により、金属成分を揮発性塩化物へ変換し、温度・塩素分圧・圧力を制御しながら選択的に分離・回収する条件を検討できます。 例えば、低温域ではFeCl3、SnCl4など揮発しやすい塩化物を先行除去し、中温域ではAuCl3などの蒸気圧差を利用した貴金属分離を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化・塩化揮発に対応 ■ Au、Cu、Sn、Fe、Niなど複数金属の選択分離を検討可能 ■ 温度・塩素分圧・圧力を制御した段階処理に対応 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで都市鉱山リサイクル条件を探索可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応
当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化
当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
反応性ガス・排ガス処理まで含め、化学反応プロセスの条件検討をサポート
化学反応プロセスの開発では、温度、雰囲気ガス、反応時に発生する排ガス成分によって、反応効率や安全性が大きく変わります。 特に、NH3・COなどの発生ガスを伴う反応や、Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気での反応条件検討では、炉本体だけでなく、ガス供給・排気・除害設備を含めた設計が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、処理物や反応ガスに合わせて、炉内材質、ガス供給ライン、排気系、除害設備、安全対策をカスタム設計できます。 化学反応、熱分解、還元反応、酸化反応、アンモニア雰囲気処理など、研究開発から試作、量産前評価まで対応可能です。 ■ 化学反応プロセスの反応条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気で処理したい ■ 反応ガスに合わせた炉内材質やシール構造を検討したい ■ 既製炉ではガス種、排気仕様、安全対策が合わない ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、ガス供給・排気系統、反応性ガスを扱う際の設計ポイントを掲載しています。
