真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
XYステージ(顕微鏡) - メーカー・企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
XYステージの製品一覧
76～86 件を表示 ／ 全 86 件
表示件数
真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 20mm動作
【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
サブミクロンフィードバックステージ FS-3200X/XY
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）
10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのステージ
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。 ■可動タイプ 直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応サブミクロンフィードバックステージ 昇降タイプ
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）
サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～400mmストロークのステージ
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。 ■長ストローク 最大400mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。 ■可動タイプ 直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版
リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製作もOK
当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 特注品・カスタム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※「PDFダウンロード」より総合カタログをご覧いただけます。 ご要望などお問い合わせフォームよりお気軽にご連絡ください。 また、下記リンクではカスタム品の製作例を紹介しております。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
