XYステージのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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XYステージ - メーカー・企業45社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年08月20日~2025年09月16日
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XYステージのメーカー・企業ランキング

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  1. ピーアイ・ジャパン株式会社 神奈川県/電子部品・半導体
  2. 株式会社MSAファクトリー 東京都/産業用電気機器
  3. シグマ光機株式会社 東京都/試験・分析・測定
  4. 4 高橋レーザー計測 長野県/サービス業
  5. 5 株式会社セルシステム 神奈川県/産業用電気機器

XYステージの製品ランキング

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  1. 工作機械全般の位置決め精度検査 高橋レーザー計測
  2. ペルチェコントローラドライバ TDC−1600シリーズ 株式会社セルシステム
  3. 大型ガントリータイプXYステージ 株式会社ファインディバイス
  4. P-611.1ピエゾナノポジショナー ピーアイ・ジャパン株式会社
  5. 4 【ピエゾステージ】PTチルト・回転タイプ 光学ミラー用ステージ THKプレシジョン株式会社

XYステージの製品一覧

91~105 件を表示 / 全 188 件

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フィードバックステージ(位置決め)の選び方

光学式リニアスケール!ナノメートル分解能で位置決めをするシステム

フィードバックとはクローズドループ制御により、リニアスケールからの位置情報を監視し、位置決めの再現性を上げるシステムのことをいいます。 リニアスケールとステージ、及びコントローラによってフィードバックステージシステムが構成されています。 選定ガイドでは、お客様の仕様に合わせて、「動作タイプ」「分解能」「ストローク」の3つのポイントでのステージ選定方法をご紹介しております。 【フィードバックステージコントローラの特徴】 ○フルクローズドループ制御 ○モータードライバ内蔵 ○各種エラー検出機能 ○通信はRS-232C規格/ GPIB 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他プロセス制御

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1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ
  • その他検査機器・装置
  • その他FA機器

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5nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

5nm分解能で位置決め!再現性に優れ、可動距離がミリオーダー

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ
  • その他検査機器・装置

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真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ
  • その他検査機器・装置
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真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能(0.1μm or 0.05μm)の再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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1nmフィードバックステージ FS-1020SPX(MD)/XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1020SPX(MD) 高速度タイプはFS-1020UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ

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1nmフィードバックステージ FS-1040SPX(MD)/XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1040SPX(MD) 高速度タイプはFS-1040UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ

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10nmフィードバックステージ FS-3150X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ

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10nmフィードバックステージ FS-3200X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ

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真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作

真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作

真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作

【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作

【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが1台で可能だったり、広範囲のデータ(スペクトル等)が必要な場合に有効です。

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真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ

【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

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真空対応10nmフィードバックステージ 微小回転タイプ

【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。

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