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【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
ピエゾコントローラ クローズドループ制御
静電容量センサー(C)、ひずみゲージセンサー(S)に対応 チャンネル数 1ｃｈ・3ｃｈ 出力電圧-50～150V ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
±0.1µm再現性と6軸制御により、光学アライメントや検査工程の位置補正を高精度化
H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。
校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ
計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化
レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現
レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献
ペルチェの駆動電源独自の回路方式を採用！小型・高効率で高精度なドライバ
『TDC-1640/1660 シリーズ』は大容量ペルチェ素子用の1ch デジタルコントローラ（1200Ｗ/1800W タイプ）です。 温度変換部・PID 制御部・バイポーラ高効率定電流駆動部が一体となっており、AC 電源を供給するだけでペルチェ素子の温度制御ができます。 さらに大電力タイプながら制御安定度±0.03℃を実現しました。 またパソコンとのインターフェイスを標準装備していますので、あらゆるシステムに対応することができます。 【特徴】 ○小型・高精度 ・マイコンによるソフトウェアディジタル制御を採用で高精度 ・ペルチェの駆動電源に当社独自の回路方式を採用し 小型・高効率で高精度 ○高速 ・ペルチェの温度コントロール専用に開発 ・制御サイクルが10 回/秒と高速 ○汎用性 ・表示パネルから温度センサ（Ｐt100，サーミスタ）を選択して使用可 ・パソコンとのインターフェースを利用し、種々の温調システムを構築 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
