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全回折パターンをリアルタイムに同時取得できる、独自のCPS検出器を搭載したX線回折装置（XRD)
卓上型のARL EQUINOX 100 X線回折装置はコンパクトな卓上型で、材料の研究開発、動的挙動解析、製薬業界のQA/QCのルーチン分析、大学などの教育機関において、迅速な分析、in situ実験、結晶相の形成と転移に関する解析などを実現します。 ARL EQUINOX 100には、独自のCPSCPS（Curved PositionSensitive）検出器を搭載しており、全回折パターン（～110°/2θ）を短時間かつ同時に測定できます。また、薄膜測定（GIXRD、XRR）が可能で、測定に応じて多種多様なアタッチメントをご用意しています。
開発から品質管理まで！さまざまな形態の試料解析を可能にした超高性能のX線回折装置
多目的X線回折装置Empyrean（エンピリアン）に搭載された新開発MultiCore Opticsは、多様なサンプルを簡単な操作で測定することを可能にしました。 1つの装置で、粉末から薄膜、ナノ材料から固形物まで、原料が持つ様々な見どころを色々な角度でとらえる多目的XRD機能を搭載！ 標準構成にいくつかのスリットや分析ソフトウェアを追加しただけの単純なものから、専用の光学系、光源、および検出器を使用したトップパフォーマンス構成に至る様々な方法でアプリケーションを処理することができます。 【特長】 ■原料、処方違いの製品評価 ■未知試料や開発品を急いで解析したい時に強力サポート ■多様なサンプルの効率的な測定に好適 ■簡単操作 ■サンプルスループット30％以上向上 ■40％以上高い感度や速度で不純物検出 ■複数の測定条件の設定ミスや漏れの削減 ■ユーザートレーニング時間を30％短縮 ※詳しくはウェブサイトをご参照下さい。
最上位精度の全自動多目的X線回折装置による定性・定量分析
XRDynamic 500は、卓越したXRDデータ品質と最大限の効率性を実現します。粉末XRD、非大気下XRD、PDF解析、SAXSなどの最適なソリューションにより、幅広いアプリケーションをカバーする多目的プラットフォームを活用できます。 直感的な操作性と、完全に自動化された光学系のアライメントルーティンにより、初心者から熟練者まで、誰もがエラーを最小限に抑えながら、最高品質のXRDデータを迅速に収集することができます。 X線光学系を正しく選択すれば、XRDデータの品質を大幅に向上させ、定量・定性分析を容易にし、回折データに潜む重要な情報を見落とさずに実験を進めることができます。
XRDは、回折パターンから試料の結晶構造情報を得る手法です。
・結晶性物質の同定が可能 ・結晶子サイズの評価 (数nm～100nm)が可能 ・結晶化度の評価が可能 ・配向性の評価が可能 ・歪み量・応力の評価が可能 ・非破壊で分析が可能 保有装置の特徴 ・室温～1100℃までの加熱分析が可能 ・ビーム径100μmまでの微小部測定が可能 ・N2、He、Ar、真空での雰囲気制御が可能
昇温しながらXRD測定が可能
材料が昇温に伴って化学反応・相変化を経て結晶構造に変化が起こる場合、昇温しながらXRD測定を行うことが有効です。高温XRD測定を行うことで、硫酸銅五水和物の熱分解生成物の同定を行った事例を紹介します。測定の結果、熱分解が起こる温度で回折ピークが変化し、結晶構造が変化する様子を明瞭に確認できました。 MSTでは昇温しながらOut-of-plane XRD測定・In-plane XRD測定を行うことが可能です。
昇温過程での相転移・結晶性変化を追跡評価
Pt をSi 基板にスパッタ蒸着させた試料に対して、昇温させながらOut-of-plane XRD、 In-plane XRD 測定をそれぞれ行いました。両測定で、Pt(111) は500℃より高い温度ではピーク強度が増加し、半価幅が小さくなり、結晶化が進行していることが分かりました。 また、温度が上昇するにつれ、熱膨張によりピークが低角度側（格子間隔が広がる方向）にシフトしていることを確認できました。
【2021年透過測定・薄膜測定オプション登場】卓上型X線回折装置(XRD)!1％以下の低濃度の結晶相まで検出可能な高感度分析装置
スペクトリス(株)マルバーン・パナリティカル事業部は、卓上型粉末X線回折装置Aerisで、この度大きく機能を追加したリニューアルモデルを発売しました。 薄膜XRD（GIXRD）測定の機能拡張により、薄膜やコーティング材料の結晶性や残留応力の測定が可能になったほか、透過率測定機能の拡張により、サンプル前処理時の配向の影響を低減し、製剤試料のような試料でも、より正確なデータが得られるようになりました。 今回のリニューアルで、以前は床置き型の大型装置でのみ対応していた機能が搭載できるようになりました。 新しいAerisは、多結晶材料から高品質のデータをスループットよく提供することが出来る卓上型の多目的X線回折装置であり、すべての環境で使用できるように設計されています。 また従来のAerisでも定評のあったユーザフレンドリな操作性、X線暴露の心配のない安心設計、詳細な解析が可能な大型の床置き装置と同じ解析ソフトウエアは今回のリニューアルでもしっかりと引き継がれています。 製品の詳細説明、測定事例のご紹介、お見積りのご要望などは是非お問合せください！
最上位精度の全自動多目的X線回折装置
XRDynamic 500は、卓越したXRDデータ品質と最大限の効率性を実現します。粉末XRD、非大気下XRD、PDF解析、SAXSなどの最適なソリューションにより、幅広いアプリケーションをカバーする多目的プラットフォームを活用できます。 直感的な操作性と、完全に自動化された光学系のアライメントルーティンにより、初心者から熟練者まで、誰もがエラーを最小限に抑えながら、最高品質のXRDデータを迅速に収集することができます。
昇温しながらの結晶化度の変化が評価可能
プラスチックは高分子鎖が規則正しく配列した結晶性部分と、高分子鎖がランダムに存在する非晶性部分が混在しています。結晶性プラスチックの機械強度・密度・熱的性質などは結晶化度に大きく影響を受けるため、結晶化度を知ることは重要になります。 今回、結晶性プラスチックであるポリプロピレン製フィルムについて、昇温しながらXRD測定を行うことで、結晶化度の変化を調査しました。
XRD・XAFSによる複合解析で、より詳細な評価が可能
high-k材料や強誘電体として注目されているHfZrOx膜は、結晶構造によって誘電率等の物理的性質が大きく変化することから、結晶構造の同定・各結晶構造の含有割合の算出が重要な評価項目です。 通常XRDやXAFSによって評価可能ですが、一方の手法だけでは詳細な解析が困難な場合でも、これら2つの手法を組み合わせることでより詳細な情報が得られます。今回、XRDとXAFSの複合解析によって、HfZrOx膜の結晶構造の同定および、各結晶構造の含有割合の算出を行った事例を紹介します。
結晶構造から活物質の劣化状態を評価
リチウムイオン二次電池の正極活物質のLiCoO2は充放電時のリチウムのインターカレーションにより結晶の面間隔等が変化します。また過充電や長期サイクル試験により組成や結晶構造が大きく変化して充放電特性の低下が起きることが知られています。今回はXRDやRaman分光法を用いることでそれらを評価した事例を紹介いたします。更にin situ（オペランド）XRD測定を行うことで、各充電状態（SOC：State of Charge)の結晶構造評価も可能です。 測定法： XRD・Raman・SEM、 製品分野：二次電池 分析目的：組成評価・同定、組成分布評価、形状評価、構造評価、製品調査 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。
環境粉じんの定量分析にも最適！高温下での測定も可能なＸ線回折装置！
『X線回折装置』は、回折したX線の角度やX線強度を測定することによって、 結晶構造つまり物質名を調べる装置です。 定性分析時の回折位置や積分強度から、リートベルト解析法による物質ごとの 定量分析も行うことができます。 また、高温下（常用で室温～1300 ℃）での測定も可能です。 【試験項目】 ■結晶構造の同定、定量分析 ■結晶格子の大きさや格子ひずみ測定 ■環境粉じんの定量分析 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
測定温度の間隔を細かくすることで、⽣成する温度も知ることが可能！高温X線回析測定をご紹介
物質は、加熱や冷却により化合形態や結晶構造が変化し、高温X線回折装置に より観察することができます。 当社所有の装置では、半導体検出器による超高速（数分）の測定、 室温から1200℃までの測定などが可能。また、昇降温速度、 保持時間を設定できます。 塩化カリウム（KCl）と塩化亜鉛（ZnCl2）を混合して、温度を変化させて 測定した例では、塩化カリウム（融点776℃）と塩化亜鉛（融点365℃）から 低融点物質（K2ZnCl4）が比較的低温で生成することが判りました。 【所有装置の特長】 ■半導体検出器による超高速（数分）の測定が可能 ■室温から1200℃までの測定が可能 ■昇降温速度、保持時間を設定できる ■各種ガス雰囲気での測定が可能（腐食性ガス、有害性ガスは不可） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
In-Plane XRDによる薄膜の結晶性評価や、XRRによる薄膜の物性測定が可能！
当社で行う「薄膜X線回折(XRD)」についてご紹介します。 数nmレベルの薄膜の結晶構造同定に加え、X線反射率測定による 多層膜の膜密度・膜厚・粗さの解析も可能。 平行性の良いX線を試料に極浅い角度で入射させることで、X線の 侵入深さを極めて浅くすることができ、In-Plane XRDによる薄膜の 結晶性評価や、XRRによる薄膜の物性測定ができます。 【特長】 ■In-Plane XRD(面内回転測定) 数nmレベルの結晶性薄膜の評価 ■XRR(X線反射率測定) 膜密度・膜厚・(表面・界面)粗さの評価 ■一般的な薄膜法(θ固定2θ走査)も対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
２次元検出器や多軸ステージの導入により材料分析メニューが充実しました
この度、当社では新たにＸ線回折装置を導入いたしました。 この装置は、大型２次元半導体検出器や大型多軸ステージを搭載し、 従来に比べ高効率、高精度の分析が可能になりました。 これにより粉末を対象とした分析に加え、 金属部品の微小部測定や高配向材料（結晶方位が制御された材料） の解析など、材料分析への適応範囲が拡大しました。 ここでは、腐食調査に関する分析例や新たに測定可能になった結晶方位解析に 関する分析事例をご紹介します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
