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フォーカススキャナ - メーカー・企業と製品の一覧 | イプロスものづくり

フォーカススキャナの製品一覧

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【半導体検査向け】P-725.xCDE2 フォーカススキャナ

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 半導体検査装置向け高精度Zフォーカススキャナ

半導体検査装置では、微細な欠陥の検出や3Dフォーカス評価のために、高分解能なZ方向位置制御と迅速なステップ動作が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能と最大800 µmのフォーカスレンジを両立した高精度アクチュエータです。 PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサー内蔵フレクシャガイド機構の組合せにより、高い線形性・再現性・安定性を実現します。これにより、半導体検査におけるZフォーカスの高精度制御と高速スキャンが可能になり、検査プロセスの精度向上と装置のスループット改善に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面欠陥検査のZフォーカス制御 ・チップ・パッケージ検査における高分解能イメージング ・光・レーザー式検査装置の高速Zスキャン ・光学検査、共焦点光学顕微鏡を用いた欠陥解析 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定精度の向上 ・高速なZステップ動作による検査スループット改善 ・安定した長期動作と装置信頼性の向上

  • csm_P-725.8CDE2.jpg_preview300_aee6bffd57.jpg
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最大800µm長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノの分解能をもち、最大800 µm動作、高速・高精度PIFOC(R)フォーカススキャナ

P-725.xCDE2 はフレクシャガイド構造と PICMA(R) ピエゾを採用した対物レンズ用フォーカススキャナです。 静電容量センサーが サブナノメートル分解能と0.02 % リニアリティを実現し、100 / 400 / 800 µm の長ストロークでも高精度を維持します。 摩耗部ゼロ・潤滑剤不要で長寿命。共焦点・多光子顕微鏡や半導体検査の Z ステップ高速化に貢献します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光計測向け】長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 高速・高精度PIFOCフォーカススキャナ

光計測分野では、光学イメージングや精密測定において、検出位置のフォーカス精度と安定性が結果の精度に直結します。特に微細構造の評価や高速データ取得を必要とするアプリケーションでは、高分解能フォーカス制御と応答性の高い動作性能が求められます。 P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能の位置制御と、最大800 µmのストロークを両立。PICMAピエゾアクチュエータと高精度静電容量センサー搭載のフレクシャガイド機構により、光計測装置のZ方向フォーカス調整における高い線形性と再現性を実現します。これにより、光計測におけるフォーカス位置ズレの影響を抑え、測定精度と装置の歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による高精度計測 ・多光子顕微鏡の高速Z走査 ・高解像度イメージング評価装置 ・光干渉計・位相計測装置 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス制御 ・最大800 µmストロークでの広い測定範囲対応 ・高速応答による検査・計測時間の短縮 ・PIFOC/フレクシャ構造による長期安定性

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【ナノテクノロジー向け】対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノメートル分解能、最大800 µm移動量のフォーカススキャナ P-725.xCDE2

ナノテクノロジー分野では、ナノスケール構造の観察や評価において、高分解能かつ安定したフォーカス位置制御が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCは、最大800 µmの移動量(モデルによる)とサブナノメートル分解能(適切なコントローラ使用時)を備えた対物レンズ用フォーカススキャナです。ピエゾアクチュエータとフレクシャガイド機構により、摩擦やバックラッシュのない滑らかなZ方向動作を実現します。顕微鏡システムにおけるナノスケールでのフォーカス調整やZスキャン用途に適しています。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡におけるZスキャン ・多光子顕微鏡でのフォーカス位置制御 ・半導体ウェハ検査における高さ方向微調整 ・ナノ構造観察時の精密フォーカス制御 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス位置制御 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・最大800 µmの広いZ移動量(モデルによる) ・摩耗部品のないフレクシャガイド構造

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