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C-AFMやKFM、sMIMなどの測定モードで最大100mm角のサンプルに対応
導電性AFM、ケルビンプローブフォース顕微鏡法（KFM）、走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡法（sMIM）などの機能に加え、4インチまでのサンプルに対応。 ■サンプルサイズ ：最大100 mm角 ■ステージ移動距離 ：100 mm ■XY走査範囲 ： 100 μm (製造寸法公差 +/- 10%) ■Z走査範囲 ： 9 μm (製造寸法公差 +/- 10%) ■XY走査分解能 : 24ビット制御 – 0.06 Angströms ■Z走査分解能 : 24ビット制御 – 0.006 Angströms ■ノイズレベル ：Typ : <0.01 mV RMS
圧倒的な分解能を実現！今まで隠れていた微少な現象を測定
『ハンディAFM』は、SEMや高倍率の3次元光学顕微鏡の変わりに使用 することができる原子間力顕微鏡です。 サイズは、奥行き幅共に15cmの超小型。 走査ヘッドは、高分解能、広域タイプの2種類が選択でき、交換も瞬時に 行えます。 【特長】 ■プローブの交換が数秒で実施可能 ■カーボンナノチューブプローブもオートアプローチが可能 ■オプションで小型の自動ステージやインライン全自動機に対応 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
SEMとAFMを組み合わせた相関分析！材料表面の理解がより深化
『LiteScope 2.0』は、走査電子顕微鏡に容易に統合可能な 原子間力顕微鏡です。 SEMへの搭載は容易ですぐに使用可能、かつスタンドアロンAFM としても利用可能。 FIB、GIS、EDSやその他一般的なSEMアクセサリにも互換性が あります。 【特長】 ■SEMの機能拡張 ■非常に精密な相関イメージング ■迅速かつ容易な関心領域への位置合わせ ■サンプル汚染のリスクを排除 ■2DSEM像を3Dに拡張 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット！正確な原子間力顕微鏡をご紹介！
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1 000％向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロファイラー。 サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。 【特長】 ■欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFMソリューション ■欠陥レビューにおける生産性を最大1000％向上 ■低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現 ■非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測 ■原子間力プロファイラー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究用から生産現場向けまで、大小様々なシステムのカスタマイズ提案が可能な原子間力顕微鏡（AFM）のご紹介
当社では、ユーザーフレンドリーな操作性に対応し、表面形状の測定を 簡単かつ短時間で行える『原子間力顕微鏡（AFM）』を取り扱っています。 アクティブ防振機構を搭載し、多彩な測定モードに対応した「CoreAFM」や、 専用ツールの使用によりカンチレバーの交換がスムーズに行える コンパクト設計の「NaioAFM」などのモデルをラインアップ。 研究現場向けの小型仕様から、生産現場向けの大型ステージ仕様、 品質管理用の自動化システムといったカスタマイズ対応が可能です。 【ラインアップ（抜粋）】 ◎卓上型原子間力顕微鏡「CoreAFM」 ■アクティブ防振機構・風防を採用 ■32種類の測定オプションを搭載可能 ◎小型原子間力顕微鏡「NaioAFM」 ■コントローラ、XYステージ・風防・防振機構が一体化 ■高分解能トップビュー光学カメラ搭載 ※当社が取り扱う走査型プローブ顕微鏡をまとめたカタログを配布中。 詳しい内容は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。
何処にでも連れて行ける奥行き幅、共に１５ｃｍの超小型ＡＦＭ
原子間力顕微鏡「ハンディＡＦＭ」は、高倍率の光学顕微鏡の変わりに使用できます。測定モードも標準で、スタティックフォースモード、ダイナミックフォースモード、フェイズコントラスト、位相測定、フォースモデュレーション、スプレッディングレジスタンス、外部入力が可能です。走査ヘッドは、高分解能、広域タイプの２種類が選択でき、その交換も、瞬時に行えます。プローブの交換も数秒です、交換後の調整は全く必要有りません。また、カーボンナノチューブプローブもオートアプローチが可能です。スキャンに電磁スキャナー（特許取得済み）を使用することにより、スキャン時にワークを移動させることが有りません。一般にＡＦＭで使用されているピエゾの持つ、非線形クリープ、経年変化は有りません。オプションで、小型の自動ステージとの組み合わせも可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
非破壊でナノメートル以下迄の３次元測定が可能な唯一の顕微鏡
原子間力顕微鏡「ステージ付ＡＦＭ」は、大気中にて、非破壊でナノメートル以下迄の３次元測定が可能な唯一の顕微鏡です。サンプルを傷つけることなく、測定が可能です。電磁スキャナーを使用することにより、非戦形クリープや経年変化を気にせず、長期に渡り安定測定が可能になりました。大型ステージ付きで、ワークを切断することなく、サンプルをセットするだけで非破壊で測定可能です。測定モードも多種用意されており、高価なＡＦＭ装置と同等の機能を有します。測定ワークの材質に関係無く、導体から絶縁体迄、コーティング無しで、ナノレベルの測定が直ぐに可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
最高レベルのナノスケール解像度で信頼あるデータを提供する原子間力顕微鏡
『Park NX10』は、サンプルのセッティングからイメージング、測定、 解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができる 原子間力顕微鏡(AFM)です。 本製品なら、ユーザーはより多くの時間と、より優れたデータを基盤に 革新的な研究に集中することができます。 【特長】 ■クロストーク除去によるボーイングの無い正確なXYスキャン ■低ノイズZ検出器を使った正確なAFMトポグラフィー ■真のノンコンタクト(TM)モードによる最高クラスのチップ寿命、分解能 およびサンプルの保護 ■半導体/ポリマー/電池材料や炭素系材料などさまざまな材料の表面解析を ナノオーダーで解析(※イメージギャラリー参照) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
故障解析と大型試料における研究開発のためのナノ形状計測ツール
『Park NX20』は、パワー、汎用性、操作の容易性を芸術的に組み合わせた 大型試料用の原子間力顕微鏡(AFM)です。 本製品には、デバイス障害の背後にある原因を明らかにし、より創造的な ソリューションを開発するための独自の機能が装備されています。 また、真のノンコンタクト(TM)モードのスキャンによって、チップがより鋭く、 かつ長く保たれるため、無駄な時間と費用の発生を防ぐこともできます。 【研究およびFAラボにおける大型試料用AFMを使ったソリューション】 ■メディア、基盤用の表面ラフネス計測 ■欠陥検査イメージングと解析 ■高解分解能電気特性測定モード ■3D構造解析における側壁計測 ■低ノイズZ検出器を備えた正確なAFM形状イメージング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
故障解析アプリケーションに適した真空環境スキャニング
『Park NX-Hivac』は、故障解析および環境の影響を受けやすい材料向けの 高真空原子間力顕微鏡(AFM)です。 高濃度ドープの半導体の正確な故障解析が可能。 また、当社のすでに認められた技術を用いることによって、高分解能で 高い再現性と操作性による低ノイズ計測を可能にした製品です。 【故障解析の為の高真空計測】 ■高速スキャンのための進化したStepScan自動機構とレーザーアライメント機構 ■マルチサンプルチャック ■Park独自の容易なチップ交換機能 ■大型真空チャンバー(300mm×420mm×320mm) ■超長距離観察を実現した直上光学顕微鏡 ■感度が向上された高真空SSRMモード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
強力なライフサイエンス用走査型プローブ顕微鏡
『Park NX12-Bio』は、1台の革新的プラットフォームに3種類の 高性能ナノスケール顕微鏡を搭載した原子間力顕微鏡(AFM)です。 革新的な液中イメージングが可能な走査型イオンコンダクタンス 顕微鏡(SICM)と高い評価をいただいている原子間力顕微鏡(AFM)技術の 両機能を可能にしています。 【ナノスケール生物学研究のための総合的なソリューション】 ■フレクチャー式の完全独立Z軸スキャナ/XYスキャナを搭載、 完全非接触技術(TM)を備えた高精度Park NX AFM ■倒立型光学顕微鏡技術による超高分解光学イメージング ■スキャニング イオンコンダクタンス顕微鏡搭載により進化した 生体細胞イメージング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
NXテクノロジーを導入した完全自動化産業用AFM
『Park NX-3DM』は、オーバーハングプロファイル、高解像度側壁 イメージング、および臨界角測定用に設計された完全自動AFMシステムの 原子間力顕微鏡(AFM)です。 傾斜Zスキャナを備えた特許取得済みの分離型XYおよびZスキャン システムにより、正確な側壁分析における通常およびフレアチップ法の 課題を克服します。 【ウエハファブ用で必須なツール】 ■高度で正確なPark NX技術を用いた完全自動産業用AFM ■アンダーカットやオーバーハング構造のためのチルトヘッドデザイン ■サンプル前処理不要で正確な側壁粗さ計測 ■完全非接触モード(TM)により、装置とサンプルにダメージを与えずに 高品質のイメージが得られる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
欠陥の特定、走査および解析の自動欠陥検査を10倍迅速化する原子間力顕微鏡システム
『Park NX-HDM』は、メディア及び基盤用の自動欠陥検査及びサブオング ストローム表面粗さ測定が可能な原子間力顕微鏡です。 広範な光学検査装置と直接リンクし、自動欠陥検査のスループットを 大幅に向上させます。 また、繰り返し測定においてもサブオングストロームの正確な 表面粗さ測定を提供します。 【特長】 ■メディアおよび基板用の自動欠陥検査 ■正確なサブオングストロームの表面粗さ測定 ■真の非接触モードによるコスト削減 ■低ノイズZ検出器による正確なAFMトポグラフィー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
