【検出】 方　　　式：　レーザー散乱方式および正反射方式 検出サイズ：　PSL50nm(オプション追加で40nm)相当の欠陥 【対象基板】 種　　　類：　透明体を含む各種基板 サ　イ　ズ：　２～１２inch、形状など別途相談に応じます 【装置サイズ（8インチ）】 外形寸法　：　W1,790 x D1,340 x H2,000 (mm) 質　　　量：　約1200kg

【検出】 方　　　式：　微分干渉顕微鏡を用いた画像解析方式 検出サイズ：　0.3um（対物レンズ10倍使用時） 【対象基板】 種　　　類：　透明体を含む各種基板 サ　イ　ズ：　4inch 、6inch、8inch、別途相談に応じます 【装置サイズ】 外形寸法　：　W1,700 x D1,000 x H1,935 (mm) 質　　　量：　約800kg

【検出可能な最小欠陥】 　30um 【対象形状】 　円形：直径200mm以下 　矩形：140mm□以下 　※上記以上のサイズを測定されたい場合、ご相談ください。 【検査時間】 　100PPH

【検出】 方　　　式：　レーザー散乱方式および正反射方式 検出サイズ：　PSL50nm相当の欠陥 【レビュー機能】 顕　微　鏡：　レーザー顕微鏡(レーザー共焦点・白色干渉) or 微分干渉顕微鏡 【対象基板】 種　　　類：　透明体を含む各種基板 サ　イ　ズ：　２～１２inch、形状など別途相談に応じます 【装置サイズ】 外形寸法　：　W1,800 x D2,100 x H1,985 (mm) 質　　　量：　約1200kg