プレテック　静岡製作所の製品ラインアップ

『ファインジェット』は、多彩な周波数を選択可能な洗浄ユニットです。 低出力から高出力までの安定した発振で枚葉洗浄の幅広いニーズに対応。 各種ウエハー基板洗浄や磁気ディスク、ウエハーのCMP後洗浄などの 用途に適しております。 また、耐薬品、メタルコンタミネーションフリーといった多彩なノズル バリエーションがございます。 【特長】 ■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-010J50) ■多彩な周波数を選択可能(400kHz/1500kHz/3000kHz) ■多彩なノズルバリエーション：耐薬品、メタルコンタミネーションフリー ■検出機能強化：振動子劣化を検出可能(PT-010J50) ■通信機能強化：発振器状態の監視、外部設定(PT-010J50) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ファインスコール』は、FPD用基板洗浄や各種ウエハー基板洗浄などに 適した洗浄ユニットです。 洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ。 きめ細やかなサイズバリエーションをご用意しております。 また、最大出力アップで、洗浄エリアの拡大及びコストダウンに貢献します。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■きめ細やかなサイズバリエーション ■洗浄幅は160mmから2210mmまでラインアップ ■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能(PT-150MV) ■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大及びコストダウン ■通信機能：発振器状態の監視、外部設定 ■各種規格対応(FCC,CE,RoHS) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

『ファインソニック』は、均一な音圧を実現できる洗浄ユニットです。 1W刻みの安定した出力調整が可能。各種ウエハー基板洗浄や 各種フォトマスク、磁気ディスクなどに適しております。 また、最大出力アップで洗浄エリアの拡大に貢献します。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■均一な音圧を実現 ■多彩な周波数を選択可能[750kHz/(1000kHz)/(1500kHz)/2000kHz] ■微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整可能 ■最大出力アップ：洗浄エリアの拡大 ■通信機能：発振器状態の監視、外部設定(PT-150MV) ■各種規格対応(FCC,CE,RoHS) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社では、750kHzを使用したバッチ式洗浄ユニットをはじめとする 「ファインシリーズ洗浄ユニット」を取り扱っております。 「ファインソニック(バッチ式洗浄ユニット)」は、特殊型振動素子により 効率よく音波を伝搬させワークにダメージを与えずにサブミクロンの パーティクルを除去。 その他、シリコンウェハー、フォトマスク等の洗浄に適した「ファインジェット (スプレー式洗浄ツール)」や、1.5MHzの音波をのせた超純水を噴射し洗浄する 「ファインスコール(シャワー式洗浄ツール)」をご用意しております。 【特長】 ＜ファインソニック＞ ■750kHzを使用したバッチ式洗浄ユニット ■特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させワークにダメージを 　与えずにサブミクロンのパーティクルを除去 ■シリコンウェハー、フォトマスク、磁気ディスクの洗浄に適している ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、ノズル先端より1.0MHzまたは 3.0MHzの音波を照射する洗浄ユニットです。 低出力領域からリニアリティーの高い発振が可能。基板直近での洗浄するため、 サブミクロンのパーティクルが除去できます。 空振り防止機能保有する液供給を可能とし、基板への振り切り動作も可能で 基板全体への再現性の高い洗浄を実現します。 【特長】 ■ノズル材質は石英のため低発塵で薬液に耐久性がある ■ノズル先端より1.0MHzまたは3.0MHzの音波を照射 ■低出力領域からリニアリティーの高い発振を可能としている ■基板直近での洗浄するため、サブミクロンのパーティクルが除去できる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

当社では、先端の超音波テクノロジーで、さまざまな精密洗浄を サポートする「ウルトラソニック洗浄ユニット」を取り扱っております。 超音波発振器は高性能トランジスタを採用し、用途に合った出力と周波数を 選択可能な「ウルトラソニック」と、超音波による定在波の波長を連続的に 変化させ超音波エネルギーの強弱を完全にクリアーする「スイープソニック」 をラインアップ。 ご用命の際は当社までお問い合わせください。 【ウルトラソニック 特長】 ■超音波の液共振により発生するキャビテーションでパーティクルを除去 ■超音波発振器は高性能トランジスタを採用し、用途に合った出力と 　周波数を選択可能 ■シリコンウェハー、磁気ディスク、レンズ、カセット(キャリア)等 　1μ以上のパーティクル除去に効果的 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

近接メガソニック洗浄ユニット「PA10-Q60AE-S」は、 1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射し、 微粒子や残渣を非接触で効率よく除去できる洗浄ユニットです。 独自の液供給システムを備え、基板外周部まで均一な洗浄エリアを確保。 液体の飛散やエネルギー損失を抑え、微細構造を持つ半導体ウェハーや フォトマスク基板の精密洗浄に適しています。 本体は高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れ、強酸・強アルカリ薬液との併用洗浄にも対応。 基板直上照射方式のため枚葉洗浄装置との相性が良く、プロセスごとに柔軟な設計が可能です。 【用途】 ・半導体ウェハーの微粒子除去 ・フォトレジスト剥離後の残渣洗浄 ・TSV・MEMS構造、成膜後、CPM後の洗浄　など ※使用感を確認できるデモユニットもご用意しています。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・シリコンウェハーの洗浄 ・フォトマスクの洗浄 ・CMP後の洗浄 ・枚葉式洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄性能による歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮

半導体業界における精密洗浄は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な工程です。特に、微細化が進む中で、ウェハーや基板に付着した微細な異物や残留物は、デバイスの性能低下や不良の原因となります。そのため、高い洗浄能力と、基板へのダメージを最小限に抑えることが求められます。ファインジェットは、低出力から高出力まで安定した発振により、様々な洗浄ニーズに対応し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウェハー洗浄 【導入の効果】 ・幅広い洗浄ニーズへの対応 ・高品質な洗浄による歩留まり向上 ・多様なノズルバリエーションによる最適な洗浄

電子機器業界において、基板洗浄は製品の品質と信頼性を確保する上で重要な工程です。特に、微細化が進む電子部品においては、異物や残留物の徹底的な除去が求められます。不適切な洗浄は、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、電子機器基板洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 ・各種ウエハー基板洗浄 ・磁気ディスク洗浄 ・CMP後ウエハー洗浄 【導入の効果】 ・多様な基板に対応 ・製品の品質向上 ・歩留まりの改善

ガラス表面処理業界では、高品質な表面処理を実現するために、基材の徹底的な洗浄が不可欠です。特に、異物や油分が残っていると、その後のコーティングや加工の品質を著しく損なう可能性があります。洗浄ムラや洗浄力の不足は、製品の不良や歩留まりの低下につながります。ファインジェットは、多彩な周波数を選択できるため、ガラス基板の特性や表面処理工程に最適な洗浄条件を設定できます。 【活用シーン】 ・ガラス基板のCMP後洗浄 ・各種ガラス基板洗浄 ・表面処理前処理 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・表面処理工程の効率化

化学分野では、反応の効率化と精度の向上が常に求められています。特に、反応容器や基板の洗浄は、反応の阻害要因となる不純物の除去において重要です。適切な洗浄が行われない場合、反応の遅延や不完全燃焼を引き起こし、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。当社洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振を提供し、化学反応プロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・反応容器の洗浄 ・基板の洗浄 ・試薬の調合前洗浄 【導入の効果】 ・反応効率の向上 ・製品品質の安定化 ・洗浄時間の短縮

金属加工業界では、加工後のバリの除去が品質と安全性を確保する上で重要です。特に、精密部品や複雑な形状の金属製品においては、バリの完全な除去が求められます。バリが残存すると、製品の機能不良や安全性の問題を引き起こす可能性があります。洗浄ユニット『ファインジェット』は、低出力から高出力まで安定した発振により、金属加工におけるバリ取り洗浄の幅広いニーズに対応します。 【活用シーン】 * 金属部品のバリ取り後の洗浄 * 精密機械部品の洗浄 * 切削加工後の部品洗浄 【導入の効果】 * バリの確実な除去による製品品質の向上 * 洗浄時間の短縮と効率化 * 多様な金属材料への対応