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『KSM-152-50Z/150Z』は、ユーザー様の様々な目的・用途に対応出来る様、 中空構造のXYZ機構を本体としたセミ・マニピュレーターです。 X、Y軸の駆動部にはマイクロメーターヘッドを使用し、1回転当たりの 移動量は各々0.5mmとなります。Z軸には側面に目盛りスケールを 設置している為、精度を要する移動や微調整などに使用出来ます。 また、接続フランジがICF-152のタイプをご利用の場合、接続フランジ上部に 設置された6ヶ所の導入ポート(ICF-34FT接続)よりフィールドスルー等の 導入が行えます。 【特長】 ■超高真空領域まで使用可能 ■X軸・Y軸の動作に柔軟性を持たせている ■本体正面のチルトネジを用いる事で、最大2°までの 簡易的なチルト機構としても使用可能 ■蒸着装置、MBE装置等、超高真空領域内での試料等の 移動・位置決め操作が大気側より行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『KSM-114-50Z/150Z』は、X軸・Y軸の動作に柔軟性を持たせ、 超高真空領域まで使用出来るセミ・マニピュレーターです。 Z軸には側面に目盛りスケールを設置している為、精度を要する移動や 微調整などに使用出来ます。 本体正面のチルトネジを用いる事で、最大2°までの簡易的な チルト機構としても使用可能。 蒸着装置、MBE装置等、超高真空領域内での試料等の移動・位置決め操作が 大気側より行えます。 【特長】 ■超高真空領域まで使用出来る ■X、Y軸の駆動部にはマイクロメーターヘッドを使用 ■1回転当たりの移動量は各々0.5mm ■接続フランジがICF-152のタイプの場合、接続フランジ上部に設置された 6ヶ所の導入ポート(ICF-34FT接続)よりフィールドスルー等の導入が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『KSM-70-50Z』は、中空構造のXYZ機構を本体としたセミ・マニピュレーターです。 ベローズに工夫をこらしていることで、X軸・Y軸の動作に柔軟性を 持たせており、Z軸には側面に目盛りスケールを設置している為、 精度を要する移動や微調整などに使用出来ます。 接続フランジがICF-152のタイプをの場合、接続フランジ上部に設置された 6ヶ所の導入ポート(ICF-34FT接続)よりフィールドスルー等の導入が行えます。 【特長】 ■超高真空領域まで使用出来る ■X、Y軸の駆動部にはマイクロメーターヘッドを使用 ■1回転当たりの移動量は各々0.5mm ■本体正面のチルトネジを用いる事で、最大2°までの簡易的な チルト機構としても使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『KUDシリーズ』は、手動駆動型とモーター駆動型の2種類がある 中空構造の直線導入機でです。 容器の内部には電解研磨処理を施し、超高真空領域まで使用可能。 試料ホルダーや電極・熱電対等を超高真空領域内に挿入して直進運動を 行うことが出来るほか、側面に目盛りスケールを設置している為、 精度を要する移動や微調整などに使用出来ます。 【特長】 ■最大移動量は50mmと100mmの2種類から選択可能 ■側面に目盛りスケールを設置し、精度を要する移動や微調整などに使用可能 ■最大移動量は50mm、100mm、150mm、200mm、250mm、300mmの6種類 ■移動量が300mmを超える場合に限り、他の移動量の物と形状が異なる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当製品は、真空容器内の蒸着物等に対するビューイングポート用の 保護シャッターです。 バタフライ方式のフルオープンタイプなので、視界は広範囲。 RHEED・光・ビーム等のカットにも応用できます。 各部品には電解研磨処理を施し、超高真空領域までの使用が可能です。 【特長】 ■シャッター駆動部にKMMR-34Sが取り付けられている ■サイズは、ICF-70・114・152・203と豊富 ■各種ビューイングポートに対応可能 ■ストッパーにより、任意のオープン角度の設定が可能 ■許容リーク量は≦1.33×10-11Pa・m3/sec ■許容加熱温度は≦200℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
溶接ベローズ、成形ベローズをお客様のご希望の仕様で製作しております。 また、規格品も各種フランジ形式、ベローズ長さにあわせ豊富に取り揃えております。
●エントリー・ハッチ ・ICF規格ですので、お手持ちの装置にご利用できます。 ・ICF規格のフランジをOリング仕様の簡易ハッチへ変更できます。 ・ロードロック室等の試料導入が簡便に行えます。 ・覗窓付きとブランク型の2種類を御用意いたしました。 ●ロードロックハッチ ロードロック室の資料交換用の扉。ICF、JISフランジに対応した各サイズのロードロックハッチをご用意しております。窓ガラスの材質も各種取り扱っております。
特徴 本機構「超高精度5軸マニピュレーター」は、極高真空領域対応型XYZR1R2軸方向移動機構です。高精度な機構を組み合わせることにより、真空中にある試料を精密かつ再現性良く移動・操作させることが可能です。 オプションであるサンプル加熱/冷却機構または、モーター駆動機構などを組み合わせることにより、研究開発目的に適した試料等の処理や移動・操作を御提案いたします。
北野精機では、お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真空の領域まで各種真空チャンバーを制作しています。真空チャンバーの形や使用するステンレス鋼の材質は、実験の内容に応じて豊富な種類の中から最適なものを選択。分岐機器や計測機器の取り付け用ポートの設定も、数や角度、位置などきめ細かくご指定いただけます。 さらに、特別な加工が必要となる等どのようなご要望に対しても、設計から加工、表面処理、ペーキング処理、洗浄、組立、リークテスト、真空立ち上げまでの一貫体制で、的確にお応えします。
真空装置・真空部品をはじめとした研究開発機器の設計・製造を行う 北野精機社が取扱う、有機デバイス関連機器総合カタログのご紹介です
特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 メンテナンス・クリーニングの簡単設計
●有機デバイス作製・評価装置 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 ・メンテナンス・クリーニングの簡単設計
●特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 ・メンテナンス・クリーニングの簡単設計
精密なコントロールが極めて安定して動作可能です。直接加熱方式により、低温領域において優れた温度応答性と温度安定性を備えております。
【特長】 ICF-70によるコンパクト/省スペース設計 シャッター機構標準装備 ±0.1℃による温度設定が可能 ●応用材料 ・Si (Silicon) ・As (Arsenic) ・Ga (Gallium) ・Al (Aluminum) ・In (Indium) ・P (Phosphorus) etc ※仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。
【特徴】 ・搬送機構にてマスク及び試料搬送が可能。 ・有機材料と金属材料が同じ部屋で成膜可能。 ・有機材料と金属材料の共蒸着が可能。 ・有機材料共蒸着が可能（最大4元）。 ・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備。 ・蒸着室において、基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能。 ・基板とマスク間ギャップは最少。 ・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5％以内。 ・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない。 ・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い。 ・グローブボックスと接続可能。 ・PLC制御にて自動搬送・自動排気が可能。 ・導入室内には基板及びマスクホルダーが標準5枚ストック可能。
有機材料成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが同部屋に標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。また、グローブボックスへ接続可能なシステムです。本システムは、有機材料と金属材料が同じ部屋にて成膜可能なハイブリット型蒸着装置となります。
有機材料（有機EL）成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。
有機EL成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が16台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。
●特徴 電解イオン顧微鏡（FIM：Field Ion Microscope）は鋭く尖った金属針先端の表面原子像を容易に観察できる投影型の顕微鏡で1951年にペンシルバニア州立大学のErwin E. Mueller教授により発明されました。本装置は、超高真空の環境の中で、試料としてセットした金属tip（探針）の電圧を除々に大きくしていくことで、スクリ−ンにFIM像を出現させ、針状の試料表面原子の凹凸を100万倍程度に拡大した像を肉眼で観察できるイオン検出形表面分析装置です。 同時にtipに電圧が印加されることで先端部分の表面に付着している不純物を取り除くクリーニング効果が得られます。 さらにtipに印加する電圧を大きくすることで電界蒸発を行わせ、原子を個々にはぎ取り、先端原子の数を調整できるなど高度な実験が可能です。こうした本装置の優れた特性は、金属の原子レベルでの観察はもとより、先端の鋭い金属tipが不可欠な走査型トンネル顕微境のtip評価用として使われるなど幅広い用途に生かされ、多くの研究所、大学の研究室などで採用されています。
●特徴 本装置は細く絞った電子プローブで試料上を走査し、試料内部から発生する二次電子で結像させることにより表面形状観察をCRTで観察を行う電子検出形表面分析装置です。半導体の側長、検査装置、マスク描画装置などに応用されます。
●特徴 本装置はプローブ（探針）を物質表面上で走査させ、実空間で表面の形状を原子レベルで得ることが出来る表面分析顕微鏡装置です。プローブに負電圧を印加し、観察する試料表面に近接させ、プローブと試料表面の間の空間に流れるトンネル電流を測定することにより試料表面の形態を原子レベルで観察することができる走査型トンネル顕微鏡（STM：Scanning Tunneling Microscope:）と、プローブ先端の原子と試料表面の原子の間に働く力を検出することによって試料表面の形態を調べることができる原子間力顕微鏡(AFM：Atomic Force Microscope)などがございます。(7.1.14.10) 主な装置構成は、分析室、準備室、試料作成室、試料導入室等の超高真空〜極高真空領域の3室〜4室から構成されます。
1988年にオックスフォード大学のA. Cerezoらにより開発された位置敏感型アトムプローブ(position sensitive atom probe, PoSAP)は、アトムプローブの検出器に位置敏感型検出器(position sensitive detector)を取り入れたもので、分析に際してアパーチャーを用いずに検出器に到達した原子の飛行時間と位置を同時に測定するこができる装置です。この装置を用いれば試料表面に存在する合金中の全構成元素を原子レベルの空間分解能で２次元マップとして表示する事が出来るばかりでなく、電界蒸発現象を用いて試料表面を一原子層ずつ蒸発させることにより、2次元マップを深さ方向に拡張していくことにより3次元マップとして表示・分析が出来る顕微鏡装置です。
◆◇◆経緯◆◇◆ 3次元アトムプローブ装置（3D-AP）において、Tip（アトムプローブ分析では 試料表面に高電界を加えるために針状の試料を用いる）表面からの電界蒸発を、 従来の高圧印加ではなく、レーザー照射により行う事となった。 その為、Tip先端にレーザーを局所的に照射する必要がある。 しかし、FIM像（原子）を安定させる為に用いている冷凍機の振動により、 Tip先端へのレーザーの照射位置を確定する事が困難となっていた。
●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（クヌーセン・セル）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。
●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。
本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。
フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う（単なる物理吸着ではない）ために強固な付着力が得られます。
●特徴 カーボンナノチューブは、その外径と構造の違いから多くの種類が有り、いずれも炭素原子６個が強固に結合した炭素鋼から出来ています。その特殊な構造から下記のような性質を持っています。 ・導電性に優れている。 ・熱伝導性に優れている。 ・機械的特性に優れている。 本装置は、電気炉を用いて石英管中の基板を900℃まで加熱し、エタノールガスを導入しカーボンナノチューブを成長する為の装置です。
固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象（スパッタリング）を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値が高い。
本製品、試料搬送装置（Sample Carrying System：KSC-1000）は試料導入室を兼ね備えた搬送装置です。 複数の真空システム間において超高真空領域を保ったまま試料搬送が行え、将来的に真空システムの増設・拡張が容易です。 また標準で６連の試料搬送キャリアを備え試料ストッカーとしても最適で付属の過熱機構にて試料表面のクリーニングが可能です。
◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の大型有機蒸着セルを使用していた。しかしながら、 大型ならではのルツボ容量が大きいと言うこともあり、温度安定性と材料効率が 非常に悪く悩んでいた。有機材料においては、1g当たり数万円もコストが掛かる 材料を使用しているケースがある為、材料効率が悪い大型蒸着源を使用すると、 1回の蒸着において10gもの材料充填の必要がある。そこで、弊社の有機蒸着セルを 用いることで、その点を解消したい。
◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、 大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。 また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、 綺麗な環境での使用は困難となっている。
◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の大型のクラスター型蒸着装置を使用していた。 しかしながら、大型の為、巨大なスペースを使用してしまい、 問題が多々発生している。（搬送トラブル・蒸着セルの材料枯渇スピードが 早い・蒸着レートコントロールが困難など）そこで、コンパクトであるが、 最低限、既存装置の仕様を盛り込み、スペックを更にアップした装置が欲しい。
◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の有機EL成膜装置を使用していた。 しかし、使用上、下記の不具合点や要望が挙がっていた。 ◆マスクの交換機構が搭載されていない為、マスクを交換する際は、 その都度、大気開放する必要がある。その為、試料にダメージが生じてしまう。 また、一貫した真空環境ではない為、無駄な時間を費やしてしまう。 ◆有機蒸着室において、現状が最大6源の蒸着セルが付いているが、 現状の真空槽を活用して、拡張性を増やし、色々な実験を行いたい。
●特徴 本装置は非弾性散乱現象を利用し、試料中での電子エネルギー損失を計ることにより表面プラズモン(surface plasmon)電子の表面状態などを検出する電子検出形表面分析装置です。
●特徴 本装置は電子線の回析現象を利用し、表面の結晶構造などを観察する電子検出形表面分析装置です。
【イプロス初主催】AIを活用したリアル展示会！出展社募集中
大型金属造形や低コストな複合加工に。ロボットシステムの資料進呈
ウェブハンドリングの課題を解決！非接触の塵埃除去装置などを紹介
