※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【仕様(抜粋)】 ＜実験用／大面積用＞ ■照射エリア(mm)：100×150／500×500 ■照射エネルギー(J／cm2)：～40／～4 ■均一度(%)：75以上／90以上 ■パルス幅設定範囲(msec)：1～60 ■発光周期(sec)：60以上／6.5以上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【主な用途】 ■焼結：樹脂基板にダメージなく、上層のみ焼結できる 　・例：導電性材料、結晶材料など ■接着：反りなどが発生することなく、接着することができる 　・例：光ディスク、カバーガラスとフィルム接着など ■表面改質：瞬間的に高エネルギーを照射することで、表面の改質ができる 　・例：表面水分除去など ■剥離：大面積を一括で照射することで、処理時間短縮ができる 　・例：支持基板からのOLED剥離など ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【その他の加工例】 ■全方位点灯可能なディンプル加工 ■真空対応加工 ■耐水、耐湿、耐薬重管加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ハロゲンサイクルについて】 ■電流が流れフィラメントが高温になると、フィラメントからタングステン原子が蒸発 ■封入されているハロゲンガスのハロゲン原子と結合し、ハロゲン化タングステンを形成 ■分子はバルブ内を浮遊し、高温のフィラメント付近でハロゲン原子とタングステン原子に分離 ■タングステン原子は再びフィラメントに戻り、遊離したハロゲン原子は以前の反応を繰り返す ■バルブ壁の黒化を抑制し、フィラメントの消耗を防止 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ゼロクロス機能付きサイクル制御方式 特長】 ■一定周期（通常は選択可能）の中で、オン期間とオフ期間との比率を調節することにより、 　ハロゲンヒータの発熱量を制御 ■高周波ノイズの発生が少ないため、ノイズが問題になるシステムに好適 ■機器も一般的に安価 ■突入電流を抑える機能がないため、大容量の機器を選択する必要がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ラインアップ（抜粋）】 ■フォーカスタイプ ・UH-HUC-CL200 ・UH-HUC-CL350 ■パラボラタイプ D ・UH-HUD-CL200 ・UH-HUD-CL350 ■パラボラタイプ M（背面フラット形状/水冷パネル等への取り付けが可能） ・UH-HUM-CL200 ・UH-HUM-CL350 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ラインアップ（抜粋）】 ■フォーカスタイプ ・UH-HUF-CL200 ・UH-HUF-CL350 ■パラボラタイプ P ・UH-HUP-CL200 ・UH-HUP-CL350 ■パラボラタイプ N（コンパクト型・金メッキミラー仕様） ・UH-HUN-CL200 ・UH-HUN-CL350 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【UL-HU-CH10KW/STD 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：200V ■消費電力：10kW ■ユニット外径：198mm ■ユニット奥行：160mm ■重量：6kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【仕様（抜粋）】 ■熱源：遠赤外線セラミックコートハロゲンヒータ（HH200V1800W） ■定格入力電圧：AC200 ■消費電力：1800W ■照射角：30° ■熱源定格寿命：5000時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ラインアップ】 ■簡易実験型 ■多機能実験型 ■汎用インライン型 ■ハイエンド型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【その他の特長】 ■アルミニウムを加熱した場合、わずか10秒で300℃まで昇温可能 ■各種金属の吸収特性とハロゲンランプヒータの出力波長がマッチ ■高効率のみならず、高周波加熱やホットエアーではできない加熱プロセスが可能 ■光学設計されたヒータユニットと専用PID制御システムにより、優れた熱制御を実現 ■非接触で面内温度±5％の分布を達成 ■小型・軽量であるにもかかわらず、大きなエネルギーを出力できるため、狭い場所にも設置可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【アプリケーション（抜粋）】 ■金型予備加熱 ■ペットボトル成形 ■ホットプレス ■塗装乾燥 ■電極焼成 ■真空前水分除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【加工例】 ■反射膜コーティング ■フィラメント設計 ■フロスト加工 ■ブラックコーティング ■ディンプル加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ラインアップ】 ■丸ベースタイプ/L ・クリアバルブ ・ホワイトコーティングバルブ ・ブラックコーティングバルブ ■角ベースタイプ/D ・クリアバルブ ・ホワイトコーティングバルブ ・ブラックコーティングバルブ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【ラインアップ】 ■QIR100V1000W/100C ■QIR200V1000W/150C ■QIR200V2000W/150C ■QIR200V3000W/200C ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【QIR400V3500WU 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：400V ■消費電力：3500W ■定格寿命：5000h ■色温度：2800K ■全長（接点間）：250mm ■管径：10Φmm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【QIRT100V500W 仕様（抜粋）】 ■定格電圧：100V ■消費電力：500W ■定格寿命：5000h ■色温度：2400K ■全長（L1）：500mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【その他の掲載内容】 ■6. ハロゲン電球の使用材料 ■7. ハロゲン電球の特性 ■8. 参考資料 ※当論文の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 　詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【その他の掲載内容】 ■6．ゲッターと寿命 ■7．効率と寿命 ■8．管壁温度と寿命 ■9．点灯モードとサグによる寿命 ■10．シール部温度と寿命 ※当論文の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 　詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

【その他掲載内容(一部)】 ■サークル形ハロゲンヒータランプ　QIR Circle ■直管形ハロゲンヒータランプ　QIRT ■ランプの特殊加工について ■赤外線ハロゲンヒータ技術資料 ■制御方法について ■昇温データ例 ■ラインヒータユニット ■高出力ラインヒータユニット(オーダーメイド) ■サークルヒータユニット ■スポットヒータユニット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他エネルギー機器

【その他の特長】 ■深さコントロール(パルス制御) ・ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、 　ランプ電流、パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ・複数パルスの照射も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（高速昇降温加熱）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○熱容量が小さく、3000K以上のフィラメントから照射される 　輻射光により、高温/急速昇降温といった加熱特性に優れた熱源 ○半導体や耐用電池の熱処理プロセスにおいて 　酸化膜形成、不純物拡散、シリサイド形成、電極焼成など 　多くの工程で使用される ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。伝統と豊富な実績を持つウシオ社の

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる 　CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 　用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い 　その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし 　ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 　極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 　不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（接合）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○各種ヒートシンクの配管溶接にハロゲンヒータが採用 ○ハロゲンヒータの光は輻射熱として 　照射されるため、温風タイプとは異なり 　周囲環境に左右されにくく 　短時間で所定温度まで昇温が可能 ○ガスバーナなどの加熱とは異なりCO2の環境負荷に適している ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（乾燥）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○ハロゲンランプヒータの非接触・クリーンで 　高速昇温性を持つ光加熱方式により 　金属箔など、ホコリ、ゴミが許されない製品の乾燥において 　従来の熱風式過熱炉にとってかわりつつある ○溶剤、インキ、印刷物の乾燥た鋼板の塗装乾燥 　自動車塗装の乾燥用途に有効 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源によるRTPの事例紹介です。 かつての半導体熱処理は、ファーネス（断熱）が一般的だったが ナノオーダーのデバイスの場合、薄い膜形成や浅い接合が必要となり アイソサーマルの代名詞ともなっているRTPがキーテクノロジーとなっています。 また、次世代半導体においては、熱流束技術として フラッシュランプアニールが主流となっています。 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。 真空環境下においても非接触・高速昇温性を持った ハロゲンランプヒータを使用することにより 半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程において タクトタイム短縮に貢献することができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、電極の焼成の事例紹介です。 ハロゲンヒータを使用することで、ハロゲンヒータが持つ 高速昇温性、配熱分布や放射波長により 基板や電極材料の特性にマッチした熱処理を行うことができる ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 　液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 　純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた 　ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 　加熱効率95％以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、浴室乾燥の事例紹介です 【特徴】 ○浴室乾燥機にハロゲンヒータを採用 ○ハロゲンヒータの光は輻射熱として照射されるため 　温風タイプとは異なり、周囲環境に左右されにくく 　点灯直後から暖かく感じることができる ○ヒータの電極部分はシリコン接着剤を使用した 　耐水構造を施しており、高湿度環境下でも信頼性を 　損なうことなく、使用することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、食品の保温（加熱）の事例紹介です 【特徴】 ○ハロゲンランプヒータは点灯することで 　可視光と赤外線、つまりあかりを照射するとともに 　熱放射を行う。この特性を利用し食品の保温を兼ねた 　ショーケースとして利用される ○投入するエネルギー量のよっては、保温のみならず 　加熱調理用電源としての利用も可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他

ウシオ社の新エネルギー技術開発用光源 太陽電池製造用加熱光源の実用例のご紹介です 【特徴】 ○ハロゲンランプヒータによる「非接触による高速昇降温」は 　焼成炉、CVD、スパッタリングなどの装置において標準熱源として採用 ○半導体市場で培った高精度な、熱処理性能、FPD市場において 　長年実績を積んだ長尺ヒータは 　各種太陽電池製造プロセスで即戦力として採用 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

• その他