Exposure Equipmentのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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Exposure Equipment - メーカー・企業32社の製品一覧とランキング

更新日： 集計期間:Dec 24, 2025～Jan 20, 2026
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Exposure Equipmentのメーカー・企業ランキング

更新日： 集計期間:Dec 24, 2025～Jan 20, 2026
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  1. インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所） Tokyo//Electronic Components and Semiconductors
  2. サーマプレシジョン Tokyo//others
  3. null/null
  4. 4 清和光学製作所 Tokyo//Electronic Components and Semiconductors
  5. 5 ピーエムティー 本社・工場 Fukuoka//Industrial Machinery
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Exposure Equipmentの製品ランキング

更新日： 集計期間:Dec 24, 2025～Jan 20, 2026
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  1. LED light source maskless exposure device DL-1000 series
  2. i-line stepper exposure device インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
  3. High-performance direct exposure device *for circuit patterns *for solder resist サーマプレシジョン
  4. 4 Maskless exposure device "ME-120F" ピーエムティー 本社・工場
  5. 4 Maskless exposure device PALET 'DDB-701 Series' ネオアーク 東京営業部

Exposure Equipmentの製品一覧

76～82 件を表示 ／ 全 82 件

表示件数
Printed circuit board business

Printed circuit board business

We also provide proposals and support for consumables! We handle everything from selecting and installing pharmaceuticals to manufacturing equipment comprehensively.

At YKC Corporation, our "Printed Circuit Board Business" provides comprehensive services from the selection and installation of manufacturing equipment to the chemicals involved in printed circuit board manufacturing. We also offer proposals and support for consumables such as router bits, drills, and cartridge filters. We respond to diverse needs, so please feel free to contact us when you require assistance. 【Features】 ■ Comprehensive support from the selection and installation of chemicals to manufacturing equipment ■ Proposals and support for consumables *For more details, please refer to the PDF materials or feel free to contact us.

  • Printed Circuit Board
  • Chemicals
  • Other physicochemical equipment

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Manual equal exposure device (manual mask aligner)

Manual equal exposure device (manual mask aligner)

Easy setup, automatic parallel adjustment, complete non-contact gap management. A low-cost manual mask aligner without a transport system.

This product is a manual batch equal exposure mask alignment device. It is a device that sets the substrate on the exposure stage and performs exposure. The wafer is manually set onto the exposure stage. The tedious alignment of the photomask and wafer, as well as gap adjustments, are done automatically. Additionally, by incorporating a super-precision UVW drive stage and performing high-performance image processing, the alignment of the photomask and wafer is carried out accurately. It supports both soft and hard contact. With a lineup tailored to production volume, ranging from manual to fully automatic machines, we achieve low prices by handling everything from design to manufacturing and sales in-house. Custom orders for special substrates are also accepted. 【Features】 - Complete non-contact alignment and exposure of photomask and wafer - Equipped with auto-alignment function - Easy setup changes, compatible with multiple substrate sizes - Suitable for small-batch production, research, and development - Space-saving and easy maintenance - Achieves low price and compact design - Equipped with super-precision UVW stage - Custom orders for special substrates available *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • others

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露光装置　※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！

露光装置　※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！

MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応可能な露光装置/マスクアライナーをラインアップ！

株式会社三明では、コンパクトな微細露光機や両面プロセスのローコストアシストモデル、 両面・多面プロセスのスタンダード量産機である手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動・全自動タイプなど優れたローコストな露光装置を多数ラインアップしております。 【各種ラインアップの特長】 （マニュアル マスクアライナー） 　　■高倍率ズーム顕微鏡を備えた、手動式露光装置！ 　　■片面露光タイプ、両面露光タイプ、両面同時露光タイプと多彩なシリーズをラインナップ！ （セミオート マスクアライナー) 　　■自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬出の流れで量産が可能！ （フルオート マスクアライナー) 　　■C to C 自動搬送 　　■丸形、角形試料など、各種デバイスへ露光可能！ ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • Wafer processing/polishing equipment

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Semi-automatic equal exposure device (Semi-Auto Mask Aligner)

Semi-automatic equal exposure device (Semi-Auto Mask Aligner)

Easy setup, automatic parallel adjustment, complete non-contact gap management. Semi-automatic mask aligner equipped with a transport unit.

This product is a semi-automatic batch equal exposure mask alignment device. It sets one substrate at a time and automatically performs transportation and exposure after the substrate is set. It conducts fully non-contact automatic parallel adjustment between the photomask and the wafer. The cumbersome task of manually adjusting the gap is completely unnecessary. Additionally, by equipping a super-precise UVW drive stage and performing high-performance image processing, it accurately aligns the photomask and the wafer. It supports both soft and hard contact. With a lineup tailored to production volume, ranging from manual machines to fully automatic machines, we achieve low prices by handling everything from design to manufacturing and sales in-house. Custom orders for special substrates are also accepted. 【Features】 ■ Fully non-contact parallel alignment and exposure of photomask and wafer ■ Equipped with auto-alignment function ■ Easy setup change, compatible with multiple substrate sizes ■ Suitable for small-batch production, research, and development ■ Space-saving and easy maintenance ■ Achieves low price and compact design ■ Equipped with super-precise UVW stage ■ Custom orders for special substrates available *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • others

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Mask alignment exposure device 'BA series' for sample interior.

Mask alignment exposure device 'BA series' for sample interior.

Pattern exposure at matching positions on the front and back of samples with different processes! Nanotech exposure equipment.

The mask alignment exposure device "BA Series" for backside alignment of samples is a low-cost mask alignment device that enables alignment from the backside of the sample, which was difficult with conventional exposure devices. This device allows for alignment and exposure of the mask pattern to a specified position on the opposite side (the second side) relative to the alignment mark pre-formed on the first side of the sample. Its compact design also allows it to be used as a standard single-sided exposure mask aligner, supporting the development of various MEMS and semiconductor devices with double-sided features. 【Features】 ■ Equipped with a dual-objective 2-field CCD microscope dedicated to backside observation ■ Minimum objective lens spacing of 16mm ■ Capable of aligning small samples ■ Equipped with a freeze-wipe processing device optimized for backside alignment ■ High-precision alignment stage with front slide for convenient sample access, among others *For more details, please refer to the catalog or feel free to contact us.

  • Other medical supplies and cosmetics manufacturing machines
  • Other experimental equipment and supplies

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