従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください
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基本情報
【特長】 ■多孔質シリコンを全自動にて形成します。 ■裏面保護用治具を使用しない為カセットto カセットを可能にしました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。 ナノシリコン技術としてバイオメディカル・二次電池・太陽電池・半導体プロセス分野の新用途開発にも可能性が広がります。 ※孔の直径やポーラスシリコン層の厚さはご相談下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
半導体製造工程、電子材料製造工程、等
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企業情報
多岐にわたる分野で、創造という挑戦を続けるお客様と、歩みを重ねて− 施設機器事業、機械装置事業を両輪とするダルトングループの力は、創造活動に情熱を抱く お客様のパートナーとしての役割を担うことで、はじめて発揮されます。 際立つ個性と知を携えたグループ各社と共に、歴史と信頼を築いてきたサプライヤーと共に、 そして、価値創造の主人公であるお客様と共に。 −創造の、共創へ。− 私たちダルトングループは、おのおのの知と技術を結集し、 お客様のあらゆる創造活動と融合することで、革新的な価値を共に創造し、 豊かな社会と輝ける未来に貢献します。
