従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください
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基本情報
【特長】 ■多孔質シリコンを全自動にて形成します。 ■裏面保護用治具を使用しない為カセットto カセットを可能にしました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。 ナノシリコン技術としてバイオメディカル・二次電池・太陽電池・半導体プロセス分野の新用途開発にも可能性が広がります。 ※孔の直径やポーラスシリコン層の厚さはご相談下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
半導体製造工程、電子材料製造工程、等
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企業情報
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