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高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

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最終更新日:2015年06月19日

株式会社昭和真空
株式会社昭和真空
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生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な処理室を2室有している ○生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れる ○効率的なサイクルタイム/全自動による省力化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

    アニール炉
07_saf52t2.jpg

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

07_saf52t2.jpg
07_saf52t2.jpg
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基本情報

【仕様】 [寸法・重量] ○外形寸法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa  設定圧:0.5MPa ○所要ガス (N2ガスリーク用)  供給圧:0.2MPa以上                設定圧:0.05~0.1MPa [性能] ○到達圧力 6.7×10-4Pa以下 (2槽排気) ○排気時間 6.7×10-3Pa迄20分 (2槽排気) ○最高温度 300℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○常用温度 250℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○温度調整精度 ±15℃以内 (250℃にて、試料用トレーの中央部の表面温度) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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水晶デバイス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【独立稼働処理室で効率よく加熱処理】 高真空アニール装置 SAF-52T-2

【独立稼働処理室で効率よく加熱処理】 高真空アニール装置 SAF-52T-2

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株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置(真空装置)を製造販売しております。

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