小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ
高い信頼性をもつ上位機種と真空槽・排気系を共通化。操作方法の手動化によって低コスト化を実現。膜種・目的に合わせて各部(カソード・基板台等)が選択可能。実績豊富な各部機構と安定した成膜性能で研究開発作業の効率化・質の向上が「図れます。
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基本情報
成膜系:φ3インチカソード 1元装備 :高周波電源 1源装備 :基板加熱機構標準装備 :排気系 拡散ポンプ&油回転ポンプ 操作系:全手動 オプション機構 磁性材用カソード コンベンショナルカソード DCバイアス 逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱 主ポンプ変更(ターボ分子ポンプ採用) 全自動化
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用途/実績例
大学・公的機関での基礎研究 化合物半導体研究 金属・セラミックス表面処理処理研究開発
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神港精機は技術主導のメーカーとして、特に真空機器分野において蓄積した数々のノウハウを生かし、ユーザーニーズに沿った革新的な製品を送り出しています。 又、近年はエレクトロニクス・新素材などの最先端分野へ挑戦し特長ある技術の高度化と有機的結合により、真に価値のあるハードウェアとソフトウェアの開発を目指し取り組んでいます。