小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/S可変機構付き！
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャビネット付き ■液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構搭載 ■独自のプラズマ電極を設計 ■上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンス可能 ■小型でスペース効率が優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【構成（一部）】 ■基板寸法：最大φ4インチ ■電極構造：平行平板（デポタウン） ■プラズマ電極 ・外径φ150、シャワー式ガス噴射 ・自動整合器マウント ■基板電極 ・外径φ150 ・ヒーター内蔵式、基板加熱Max500℃ ■成膜チャンバー：φ300 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
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