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最終更新日:2025年09月09日

株式会社LC
株式会社LC

RCA洗浄や各種エッチングに対応!薬液・純水の使用量やフットプリントを大幅に削減します

当製品は、キャリアレスとキャリアタイプをラインアップした 「多槽式ウェハ洗浄装置」です。 キャリアレスタイプは高清浄度な洗浄に対応し、薬液や純水の 使用量とフットプリントを大幅に削減。キャリアタイプは1バッチ の搬送カセット数を1または2カセットから選択できます。 酸系薬液用処理、アルカリ系薬液用処理、有機系薬液用処理の 各プロセスによる装置構成が可能です。 【多槽式キャリアレスの特長】 ■ワークサイズは、6インチ、8インチ、12インチウェハに対応 ■キャリアレス搬送により成膜前洗浄などの高清浄度な洗浄に対応 ■薬液や純水の使用量を大幅に削減 ■フットプリントを大幅に縮小 ■乾燥はIPA乾燥、温水引き上げ・IR乾燥、マランゴニ乾燥から選択 ■ローダー、アンローダーはカセットまたはFOUPに対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

    その他半導体製造装置その他表面処理装置
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多槽式ウェハ洗浄装置

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基本情報

【多槽式キャリアタイプの特長】 ■ワークサイズは、2インチから12インチウェハに対応 ■1バッチの搬送カセット数は1カセットまたは2カセットから選択 ■乾燥はスピンドライヤ、IPA乾燥から選択 ■ローダー、アンローダーのカセット数はご要望に応じて対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

価格帯

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用途/実績例

【用途例】 ■RCA洗浄 ■窒化膜除去 ■酸化膜除去 ■ポリマー除去 ■レジスト剥離 ■シリコンエッチング ■犠牲層エッチング ■メタルエッチング ■現像 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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株式会社LCは、半導体製造装置メーカーです。 半導体をはじめ、MEMS、化合物等、幅広い分野の ウェットプロセス処理で豊富な経験があり、ユーザーの ニーズに合わせた適切なカスタム装置を提供。 薬液供給装置など各種付帯設備のほか、ダイボンダーを始め、 検査機と光学システムの設計・製造も対応可能です。

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