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スパッタリング・イオンプレーティング加工

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最終更新日:2023年08月18日

安達新産業株式会社 本社
安達新産業株式会社 本社
  • 公式サイト

スパッタリングは物理的薄膜形成技術(PVD)であり、ガラス、プラスチック等の基板の表面に金属、誘電体の膜のコーティングが可能です

スパッタリングは、イオン工学を応用した新しい表面処理技術で、樹脂メッキのような公害問題もなく、真空蒸着では困難であったCrをメッキできるという特色をもっております。 ABS樹脂以外の各種エンジニアリング・プラスチックスにもCrメッキができる………「プラスチックの表面処理に新しい時代を拓く」………新技術です。 Cr以外にもほとんどすべての金属が可能で、更に樹脂メッキのCrに近い色調を出すことができるなど、数々の優れた点をもっております。そのため使用分野も広く、スパッタリング製品は装飾用として、自動車・弱電・オーディオ・化粧品など幅広い応用が期待されます。

    加工受託表面処理受託サービス
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スパッタリング・イオンプレーティング加工

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8.jpg
  • 関連リンク - https://www.e-coating.jp/trend/%e3%82%b9%e3%83%91%…

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基本情報

特徴 ● 低温でスパッタリングが行なえる為、被メッキ物として各種プラスチックが使用できる ● CrやCr合金の様な高融点金属の膜を作ることができる ● CrやCr合金が使用できる為、Crの樹脂メッキに近い色調が可能です ● Cr色以外にもいろいろな色調が可能です(例、金色) ● 密着力の強い膜が得られる ● 樹脂メッキと比較して、マスキングが容易にできる

価格情報

サイズ・数量によって価格が変動します。

納期

~ 1ヶ月

※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。

用途/実績例

【使用用途】 自動車、弱電、光学、産業機器等の広範囲な分野での機能膜や装飾品 他

この製品に関するニュース(5)

「クシ形電極ー金パターン(Au)」を匠のパターンに追加しました。

  • 製品ニュース

微細な電極ギャップと高い導電性を持つ金成膜クシ形電極は、生体分子検出・ガスセンシング・湿度検出といった分野で注目を集めています。安達新産業では、長年にわたる実績と独自の薄膜加工技術を活かし、お客様の用途に最適化されたカスタム電極をご提供しています。 ❖❖こんなことにお困りではありませんか? ・電極材料の選定に悩んでいます。 ・絶縁不良・リーク電流の問題に困っています。 ・応答のばらつき・再現性の低さへの対策は? ・基板との整合性・歪みが発生しませんか? ・カスタムする前に、標準在庫があれば試してみたい。 続きは当社HPよりご確認ください。

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「精密パターン加工技術で広がるレチクルの可能性」を技術トレンドキーワードに追加しました。

  • 企業ニュース

安達新産業株式会社は、精密なパターン加工技術を強みとし、多様なレチクル製品を提供してきました。これまで光学分野で培った技術を応用し、医療・バイオ、測量・建設・土木、航空宇宙、ゲーム・スポーツといった幅広い分野へ展開を進めています。近年、各業界で求められるレチクルはより高精度・高機能化しています。私たちはそれぞれのニーズに応じたカスタム対応を行い、新たな価値を創出しています。今回は、レチクルの各分野への応用事例と、当社の技術的な強みをご紹介します。 【1】医療・バイオ分野への展開 【2】測量・建設・土木分野 【3】航空・宇宙分野 【4】ゲーム・映像・AR/VR分野 【5】工業検査・品質管理分野 【6】安達新産業レチクルの強み 微細パターン加工を通じて、レチクルの可能性は今、あらゆる分野に広がっています。医療、測量、航空宇宙、ゲームなど、多様なフィールドで精度と信頼性が求められる中、安達新産業株式会社は、お客様に最適なソリューションを提供し続けます。未来を見据えたパートナーとして、さらなる技術革新に挑戦してまいります。ぜひお気軽にご相談ください。 詳細内容は、当社HPをご確認ください。

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「ダイヤモンドデバイス:薄膜加工技術が拓く実用化への道」を技術トレンドキーワードに追加しました。

  • 企業ニュース

「究極の半導体」と称されるダイヤモンドは、その比類なき物理的・電気的特性により、エネルギー効率の向上、情報通信技術の革新、さらには量子技術や医療分野への貢献が期待されています。近年、高品質なダイヤモンド結晶の合成技術が進展し、夢の材料であったダイヤモンドを用いたデバイスの実用化が現実味を帯びてきました。しかし、その優れたポテンシャルをデバイスとして具現化するためには、ナノメートルスケールでの精密な「薄膜加工技術」が不可欠です。今回は、実用化が進むダイヤモンドデバイスの応用分野と薄膜加工技術について紹介します。 1. 実用化が加速するダイヤモンドデバイス 2. デバイス作製に不可欠な薄膜加工技術 3. 薄膜加工における課題と今後の展望 続きは当社HPをご覧ください。

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「SiC基板の特性とメタライズの必要性」を技術トレンドキーワードに追加しました。

  • 企業ニュース

SiC(炭化ケイ素)基板は、半導体材料として高い耐熱性、広いバンドギャップ、高い絶縁破壊電界強度などの特性を持ち、特にパワーエレクトロニクス分野で重要視されています。その優れた物理的特性により、SiC基板は高電圧・高温環境でのデバイス用途に適しており、従来のSi基板に比べて大幅なエネルギー効率向上が期待できます。ゆえにTEGチップなどのテストチップ関連においても利用が拡大中です。 1)SiC基板の主な特性 2)GaN(窒化ガリウム)との比較 3)SiC基板へのメタライズの必要性 まとめ 続きは当社HPよりご確認ください。

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企業情報

安達新産業株式会社

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光学機器

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電話番号・住所

私達は大正8年創業以来培ってきた化学工業薬品商社としての広範なネットワークと、光学薄膜加工(オプティカルコーティング)をはじめとする各種表面処理加工技術を通じてお客様のあらゆるニーズにお応えします 社名   :安達新産業株式会社 代表取締役:安達 謙祐 資本金  :1,000万円 創業   :大正7年11月 設立   :昭和39年8月 所在地 ■本社 〒550-0012     大阪市西区立売堀1丁目14番20号 アニックスビル10F     電話 06-6536-2051 / FAX 06-6536-2015 ■東大阪工場 〒578-0932     東大阪市玉串町東3丁目3番1号     電話 072-962-4133 / FAX 072-964-9055 グループ会社:大阪真空工業株式会社、安達興産株式会社

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