加熱装置・炉の製品一覧
- 分類：加熱装置・炉
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【アールエスコンポーネンツ】計測器、工具、受動部品など豊富な産業用製品のご購入は今がチャンス！※セール対象品カタログを無料進呈中
- オシロスコープ
現場の声から誕生！ 火気作業時の消火器・水バケツ・立ち合い人が不要になり手間もコスト削減。
- 加熱装置
現在も改良を加えながら量産！当社の電気自動車用ヒータについてご紹介
- その他の自動車部品
- その他ヒータ
- セラミックヒータ
国内の防爆エリア用として10,000回路以上の納入実績！ 危険場所（第1種、第2種）で使用可能な電気ヒーティングシステム
- その他ヒータ
レイケムの防爆用ヒーティングシステム、10,000回路の納入を達成！
レイケムの自己制御ヒータは、日本国内で初めて産業安全技術協会の防爆型式検定に合格した電気ヒータです。 2022年9月に国内の防爆エリア用として10,000回路の納入を達成しました。 レイケムの防爆用ヒーティングシステムは、1種および2種危険場所で使用可能な電気ヒーティングシステムとして、国内の石油、電力、ガス、化学、医薬品など様々な業界のプラント・工場への納入実績を持ち、圧倒的な市場評価を頂いております。
レイケムの自己制御ヒータ「HTV」は、国内の防爆検定に合格している、防爆対応の電気ヒータです！
- その他ヒータ
高温用自己制御ヒータ「HTV」シリーズに、高出力ヒータの新製品「28HTV2-CT」を追加
レイケムの高温用自己制御ヒータ「HTV」シリーズに、新製品として高出力の「28HTV2-CT」が加わりました。28HTV2-CTは国内防爆の型式検定（国際整合技術指針）にも合格しております。 28HTV2-CTは、20HTV2-CTより約50%の高出力となります。 耐熱温度260℃、最大205℃までのプロセス保温での使用可能な電気ヒータで、1種および2種危険場所、または第一類および第二類危険箇所で使用することができます。 HTVヒータはレイケムの最新のテクノロジにより、最高連続暴露温度（205℃）で10年間運用しても95％以上の出力を保持します。
制御盤の中からモデル予測制御を手軽に実現する独自の制御AIプロダクト「E-Smart MPC」がリッチなGUIにより、さらに使いやすくアップデートされました！
この度、弊社独自の最適制御AI「Smart MPC」の組み込み版プロダクトである「E-Smart MPC」（Embedded Smart MPC）のユーザーインターフェース（GUI）機能を大幅にアップデートしたことをお知らせいたします。 本アップデートにより、導入時の設定から運用までを【GUIのみで完結】、すなわち【プログラミング不要(ノーコード)】でスムーズにご利用いただけます！ 詳しくは「関連リンク」の動画をご覧ください！ ※関連リンク動画：使い方：2分弱で分かるセットアップと制御実演
IRシリーズの高温観察炉を利用しデモ≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等
- 試験機器・装置
- その他検査機器・装置
- 加熱装置
《高温依頼測定》最高1700℃～＆雰囲気操作環境下の実験を体験！米倉製作所を代表するIRシリーズのデモ機を利用した高温観察≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫を、ぜひお試しください
～ 金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等 ～ 試験機メーカーの米倉製作所を代表する、集光加熱炉「IRシリーズ」のデモ機を利用した、高温観察を体験できる測定です。 IRシリーズの炉は密閉構造のため、雰囲気操作を行った環境下で*IR-18SPの場合、最高1700℃を出すことができます*。 実際に行った実験の動画や試験プログラムを確認し試験対象の変化をリアルタイムで捉えます。 *使用する装置はデモ機ですので、ご要望によっては対応いたしかねる場合がございますので、詳細はお問い合わせください。 *試験片の熱容量によって変動する可能性があります。 ▼IRシリーズ特徴▼ 急速加熱性能と温度制御の優位性、観察ポートからの情報が加熱実験時間の大幅短縮、最適な加熱条件のスクリーニングなどを容易にし、材料開発業務効率の向上に貢献できます。
パウダー状の乾燥結晶を得る研究用フィルタードライヤーです。加圧濾過器・棚式乾燥機のような製品固化・ロスをなくし工程を減らします。
- その他粉体機器
- 加熱装置
レイケムの自己制御と電力制限ヒーティングシステム用の施工・保守マニュアルです
- その他ヒータ
レイケムの自己制御ヒータは、性能・品質・信頼性・実績・安全性の全てにおいてトップレベルです
- その他ヒータ
レイケムの防爆用ヒーティングシステム、10,000回路の納入を達成！
レイケムの自己制御ヒータは、日本国内で初めて産業安全技術協会の防爆型式検定に合格した電気ヒータです。 2022年9月に国内の防爆エリア用として10,000回路の納入を達成しました。 レイケムの防爆用ヒーティングシステムは、1種および2種危険場所で使用可能な電気ヒーティングシステムとして、国内の石油、電力、ガス、化学、医薬品など様々な業界のプラント・工場への納入実績を持ち、圧倒的な市場評価を頂いております。
プラントや工場内の各種配管の温度保持と凍結防止対策、配管とタンクの保温、危険場所・防爆エリアにおけるヒートトレースで活躍中！
- その他ヒータ
高温用自己制御ヒータ「HTV」シリーズに、高出力ヒータの新製品「28HTV2-CT」を追加
レイケムの高温用自己制御ヒータ「HTV」シリーズに、新製品として高出力の「28HTV2-CT」が加わりました。28HTV2-CTは国内防爆の型式検定（国際整合技術指針）にも合格しております。 28HTV2-CTは、20HTV2-CTより約50%の高出力となります。 耐熱温度260℃、最大205℃までのプロセス保温での使用可能な電気ヒータで、1種および2種危険場所、または第一類および第二類危険箇所で使用することができます。 HTVヒータはレイケムの最新のテクノロジにより、最高連続暴露温度（205℃）で10年間運用しても95％以上の出力を保持します。
約1000万／月のコスト90％削減に寄与！周辺温度に応じて出力変化、ムラなく保温！高品質でヒーターのメンテナス不要！※課題解決有
- その他ヒータ
6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で、均一な品質のろう付けを実現。均熱性・温度精度・酸化防止をすべて兼ね備え試作～量産まで対応可能。
- 工業炉
- アルミヒータ
6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で大型EV熱交換器も均一加熱。試作から量産まで高品質なろう付けを実現。
- 工業炉
- アルミヒータ
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
- はんだ付け装置
- 加熱装置
マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介！
- 高周波・マイクロ波部品
- 加熱装置
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
- リチウムイオン電池
- 2次電池・バッテリー
- 電気炉
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
分析・評価装置の温度制御を高精度で支援。安定した熱源を提供するフィルムヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
均一な熱で焼き上げ・乾燥・保温を実現。食品設備の品質を支えるシート状のポリイミドヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
薄く、軽く、確実に発熱。電子機器の性能を支える温度制御技術で、限られたスペースでも効果を発揮する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
