CVD装置の製品一覧
- 分類：CVD装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
- CVD装置
高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲（るつぼ寸法） ・面状ヒーター加熱範囲：Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲：Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- CVD装置
- アニール炉
- 加熱装置
高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲（るつぼ寸法） ・面状ヒーター加熱範囲：Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲：Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
- CVD装置
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現！
- CVD装置
省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18ｍ離して設置することができます。
- CVD装置
弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 少量多品種に対応できます。
- CVD装置
- その他塗装機械
- その他加工機械
耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も強くバランスの良い素材です。
- ファインセラミックス
- CVD装置
- 加熱装置
パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等のために特別設計された各種チャンバーで構成されております。
- 蒸着装置
- CVD装置
真空配管設備の不安を解消！プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
半導体材料メーカー様 必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
耐熱300℃以上！各種スーパーエンプラのご提案が可能です 半導体業界から「高耐熱樹脂の材料枯渇」への代替提案として問合せ増！
- CVD装置
- バルブ
- プラスチック
センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計です。16種類のガスに対応し、金属製センサーも使用！
- CVD装置
【特に人気のある3事例をまとめて進呈中！】「バルブを変える」ことでトラブル発生率低下も。作業者を危険から守る安全対策のヒント集
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
『流路まるごと事例集』半導体材料メーカー様 必見！分解洗浄を可能としたダイヤフラムバルブの事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
『流路まるごと事例集』錠やタグ付きワイヤーでバルブをロック！バルブ誤操作対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
『流路まるごと事例集』バルブ半開によるヒヤリハット事例がある方、狭所での閉止確認にお困りの方必見！ 安全対策の事例を進呈中。
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
- その他半導体製造装置
『流路まるごと事例集』半導体ガス供給装置輸送時のリスクに先手を打つ。安全対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温（180℃）バルブで副生成物を抑制した事例を進呈！
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
- その他半導体製造装置
『流路まるごと事例集』ワイヤーや錠の取付け不要！ヒューマンエラーによるバルブの誤作動を防止するロック付きバルブの事例を進呈中
- CVD装置
- その他半導体製造装置
- バルブ
内径わずか1mmのパイプの内側にも施工可！潤滑、耐蝕、離型に優れているので用途は厨房機器から宇宙機器に至るまで様々です。
- その他表面処理装置
- CVD装置
排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ばすことなく非接触でつかみ移載します。
- ウエハー
- CVD装置
- ウエハ加工/研磨装置
フッ素樹脂チューブライニングとは、金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブ（内径3mm～）を焼付して接着させるライニング技術です。
- 印刷機械
- ろ過装置
- CVD装置
デバイスメーカーの求める装置の価値基準とは？ KITZSCTは排気系ラインの省スペース化設計/施工性向上をお助けします。
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止！油、有機溶剤検知器にＲｏＨＳおよびＣＥ対応のＯＤ－７が加わりました。
- CVD装置
Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物半導体向けMOCVD装置を提供します。
- CVD装置
最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSCADAパッケージMOCVD装置制御ソフトウエアです。
- CVD装置
Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定である温度モニターです。
- CVD装置
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精度に測定するIn-situモニター。
- CVD装置
高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ、構造材。窒化物の単結晶成長からウェハプロセスまで対応。
- CVD装置
