到達真空度/の製品一覧
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電源コードをコンセントにさすだけで使用できます 真空計、圧力計が付属。また、付属のバルブで圧力、真空度の調整が可能です
- その他ポンプ
- その他実験器具・容器
EDS(EDX)・EPMA・XMA用導電処理・FIB用保護膜作成・カーボン補強などが可能です。
- 分析機器・装置
- 分光分析装置
- その他理化学機器
「もっと高真空なポンプが必要」 カスタマイズ品の提案を受け、真空性能はUP、コストはDOWN、騒音・重量も低減できました!!
- その他ポンプ
液体窒素を冷媒とした真空凍結乾燥機(フリーズドライ装置)!環境に配慮した設計、コールドトラップをマイナス85℃まで冷却可能
- 乾燥機器
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉

多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!
多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
SEMICON Japan 2023に出展!ハーシュプロセスにおいて従来比2倍の耐久性を誇るドライポンプを実機展示!
- 真空機器
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉

多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!
多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
20年以上お使いの真空装置のリニューアルアドバイス受付中!"均熱が出ない"、"排気時間が長い"などでお困りではありませんか?
- 真空機器
真空対応 位置決めテーブル <VT>
- その他半導体製造装置
- その他理化学機器
- 分析機器・装置

事例集 真空含浸機➀ 薬品会社様
『試験に適した機構を有した含浸装置です。』と評価をいただいております。 薬品会社様への導入時の背景と採用のポイントをご紹介させていただきます。 【特徴】 ・剛性に優れたアルミ削り出しの層を採用することにより気密保持に優れた装置となってます。 ・ボールネジとサーボモーターの組合わせによるステージ上下、高精度な位置決めにより実験の再現性を高めました。(上下スピードは3段階に設定可能) ・メーカー、研究所関係に大変ご好評いただいております。真空スピードに優れた真空ポンプの採用により素早く規定真空度まで到達し、真空含浸の実験などに真価を発揮いたします。 ・作業性に優れた設計、真空層内の製品の目視性に優れた大きなのぞき窓を採用しております。 ・真空含浸の対象製品に応じた冶具により多様な製品の保持ができ汎用性に優れております。 ・要望を取り入れました仕様変更も可能です。 ・高さを高精度で調整可能
ピストン式真空ポンプVP0925Aはオイルフリーで軽量・低騒音・低振動・低脈動で多様に対応!装置組み込みも容易!
- 真空ポンプ

第10回 関西フィルムテックジャパン(2022/5/11-13)に出展いたします
高機能フィルムに関する成形加工技術、部品・材料および機能性フィルムが世界中から一堂に出展する世界最大級の展示会「第10回|関西フィルムテックジャパン」に出展いたします。 お客様からご要望をいただき、新製品として開発し、この度特許を取得しました「折りたたみクリーンブース」「低湿度用デシケーター(設定値10%~周辺温度)」「アルミフレーム ドラフトチャンバー」のほか、品質および機能面すべてにおいて、厳選したものを展示させていただきます。 |展 示 会 |第10回 関西フィルムテックジャパン |会 期 |2022年5月11日(水)~13日(金)10時~17時 |会 場 |インテックス大阪 4号館 10-8 皆様のご来場を心よりお待ちしております。
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉

BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
様々な接ガス材質、継手、モータなどお客様の課題解決の一助となるカスタマイズが可能です。
- その他ポンプ

グリーン水素電気分解工程でのガスポンプ
酸素サンプリングポンプ: 必要な特性: リークタイト仕様 / 脱脂処理 KNF推奨ポンプ:N96STDC-B-M / N96KTDC-B-M (カスタマイズ仕様) / N87ST.9E (カスタマイズ仕様) 水素サンプリングポンプ: 必要な特性: リークタイト仕様 / 防爆仕様(日本防爆検定品 水素、IIC & IIB + H2に対応) KNF推奨ポンプ: N87ST.9E Ex (カスタマイズ仕様) / N922ST.9E Ex
チップ部品等の微小実装部品から基板(□100mm)、固体・粉末の溶融、ろう付け等のその場観察を実現します!
- はんだ付け装置
- はんだ
- 基板設計・製造

【高温加熱炉予算申請用カタログ】\ 開発・研究費などの予算申請に /
世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の加熱観察装置・IRイメージ炉をラインナップしました。 ▼ラインナップ▼ 高温炉 1.加熱観察型「MHO-300-2」お持ちの顕微鏡で観察!オプションで-100℃まで冷却も 2.小型「IR-TPS」お持ちの顕微鏡で高温(1500℃)その場観察 3.超高温加熱型「IR-18SP」高温(1800℃)まで加熱 4.小型「IR-TP」各種分析を可能とした設計 5.広域高温型「IR-QP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、高温(1700℃)まで加熱 6.広域型「IR-HP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、平板、ウエハ、基板などの加熱に 引張圧縮機構 6.引張圧縮機構「CATY-T3H」高温&引張圧縮&In-situ観察が同時に 詳細は各商品ページなどでご確認ください。試験に合わせたカスタマイズのご相談も承っておりますので、お気軽にお問い合わせください。
センサーとハロゲンランプによる高精度温度管理で熱膨張のダメージを最小限に!1000mmまでの幅広いロールも乾燥可能!
- その他
直流ブラシレスモーター搭載の充電式真空ポンプ! RP-225シリーズのフラッグシップモデル! 9Ah充電池搭載!
- 真空ポンプ
ポンプとモータを一体化、従来製品よりダウンサイジング、耐久性も向上。マイクロポンプのロングセラー NMP830シリーズ
- その他ポンプ

ポンプのアップグレードを検討すべき理由- ダイアフラムポンプ技術の進歩
ポンプ技術は過去10年間で大きく進歩し、新しい機能により、これまで以上に優れた性能を発揮できるようになりました。 機能面でこれほどまでに大きな進歩を遂げた今、ポンプのアップグレードを検討する時期に来ているかもしれません。 現在お使いのポンプがまだ問題なく動作している場合でも、新しいポンプに交換することで、大幅な性能向上が期待できるかもしれません。 アップグレードのプロセスは、ポンプパートナーのサポートにより簡素化することができます。 KNFのエキスパートは、お客様と直接協力し、アップグレードプロセスを簡単かつ効率的に行います。
ポンプとモータを一体化、従来製品よりダウンサイジング、耐久性も向上。マイクロガスポンプのロングセラー NMP850シリーズ
- その他ポンプ

ポンプのアップグレードを検討すべき理由- ダイアフラムポンプ技術の進歩
ポンプ技術は過去10年間で大きく進歩し、新しい機能により、これまで以上に優れた性能を発揮できるようになりました。 機能面でこれほどまでに大きな進歩を遂げた今、ポンプのアップグレードを検討する時期に来ているかもしれません。 現在お使いのポンプがまだ問題なく動作している場合でも、新しいポンプに交換することで、大幅な性能向上が期待できるかもしれません。 アップグレードのプロセスは、ポンプパートナーのサポートにより簡素化することができます。 KNFのエキスパートは、お客様と直接協力し、アップグレードプロセスを簡単かつ効率的に行います。