コーティングのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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コーティング(成膜) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年11月26日~2025年12月23日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

コーティングの製品一覧

181~183 件を表示 / 全 183 件

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圧延ローラーの長寿命化!セラミックコーティング※技術資料進呈

圧延工程に必要なローラー。 独自のコーティングにより消耗を軽減し長寿命化を提案。 ※資料は同じセラミック製品への事例集です。

ナラサキ産業は限りなく精密に膜厚コントロールを実現する セラミックスコーティングを開発しました。 その名も『セラミックディップコーティング』。 名前の通り、セラミックのスラリーにワークをディッピング(浸漬)させて成膜を行います。 多くの材質・形状に対して 自由度の増したセラミックスコーティングが可能になります。 【特長】 ◆形状自由度が高くメーター級での3D形状にもコーティング可能 ◆ほぼすべてのセラミック母材へのコーティングが可能 ◆平均 50μ の厚膜が可能 ◆気孔径0.1μm、気孔率30~40%の膜で熱衝撃に優れる ◆コーティング面の面粗度が良く円滑性に優れる (Ra0.8 以下も) 【コーティング可能対象材質】 ■ムライト ■アルミナ系 ■SIC系 ■多孔質、緻密質問わず などのセッター用とに使用される材質 ※コーティング事例集をダウンロードしてご覧ください。 用途に応じ複合セラミックス膜を駆使し最適化を実現します。 お気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体製造プロセスとは?半導体製造を支える表面処理まで紹介

半導体製造プロセスとは?半導体製造装置で採用される表面処理を紹介します。

半導体製造プロセスとは、 設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。 半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、 現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。 半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、 多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。 1.設計→フォトマスクの製作  論理回路設計・レイアウト設計・フォトマスク製作 2.前工程(ウエハー加工)  シリコンウェハーの調達→洗浄→成膜→フォトリングラフィー→イオン注入→配線→検査 3.後工程(組み立て)  ダイシング→ダイボンディング→ワイヤボンディング→封入→ハンダボール搭載→分離→捺印→検査→梱包・出荷 半導体製造プロセスにおいて、 特に前工程ではナノレベルの精密性を必要とするため 高い純粋性や精密性が求められます。 フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、 半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の 一翼を担っています。 以下では半導体製造で欠かせない表面処理についてご紹介します。

  • 表面処理受託サービス

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CVD(熱化学蒸着法)コーティングとは

熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、単層又は多層コーティングし、得られた高硬度、高密着セラミック膜により素材の性能を向上

CVDコーティングとは CVD(Chemical Vapor Deposition)コーティングは化学的な成膜方式で、 大気圧~中真空(100~10-1Pa)の状態において、 ガス状の気体原料を送り込み、 熱、プラズマ、光などのエネルギーを与えて化学反応を励起・促進して薄膜や微粒子を合成し、 基材・基板の表面に吸着・堆積させ処理物表面に超硬質のセラミック化合物を化学的にコーティングさせる方法です。 熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、高温度(900~1100℃)で単層又は多層コーティングし、 得られた高硬度、高密着力セラミック膜により素材の性能を飛躍的に向上させます。 CVDコーティングの機能 すべり性/耐薬品性/耐熱性/ 撥水・撥油性/親水性/耐摩耗性/ 電気特性/寸法安定性

  • プラズマ表面処理装置

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