更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
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素材に新たな特性を！各種材料による形成のニーズに応える表面処理受託加工
東邦化研株式会社では、イオンプレーティングや真空蒸着に加えて、スパッタやP-CVDによる各種表面処理の受託加工を長年行っております。 試作開発案件から、中・小ロットの生産案件までと、幅広く対応させていただいております。 単金属、酸化物、窒化物、炭化物等、各種材料による薄膜形成のニーズにお応えいたします。 【サービスの特長】 ■試作、小ロットにも対応 ■各種材料に対応 ■仕様・材料・プロセスに合った装置を使い分け ■環境に配慮 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
透過率80％以上、シート抵抗8Ω／□以下のFTOを成膜！卓上タイプで実験室や開発現場で活躍する成膜装置 ※カタログ＆サンプル進呈
SPD方式の小型低コスト成膜装置（薄膜製造装置）シリーズです。 SPDの装置は、真空でなくとも生成できるため、クリーンルームも必要なし。 また、設備も卓上タイプでコンパクトなため、実験室や開発現場での使用に最適です。 【特長】 ■卓上タイプのコンパクトな薄膜製造装置 ■非真空のため、クリーンルームも必要なし 【ラインナップ】 ■KM-300 ■KV-25 ■KV-50 ■KM-150 ■KV-100 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
SPD方式小型低コスト成膜装置！最大基盤サイズは25mm x 25mm
SPD方式小型低コスト成膜装置です。 最大基盤サイズ： 25mm x 25mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 こちらのカタログは英語版となっております。
SPD方式小型低コスト成膜装置！最大基盤サイズは100mm x 100mm
SPD方式小型低コスト成膜装置です。 最大基盤サイズ： 100mm x 100mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 こちらのカタログは英語版となっております。
耐摩耗性が向上する超硬質薄膜コーティング！成膜後の磨き工程は一切不要
『CERTESS NITRO』は、物理的真空蒸着により形成される機械部品用の 超硬質薄膜コーティングです。 独自技術によりコーティング表面は非常に滑らかで、成膜後の磨き工程は 一切不要。また、摩擦係数が大幅に減少し、腐食摩耗・アブレッシブ摩耗・ 凝着摩耗に対する耐性が著しく向上します。 航空宇宙産業をはじめ、自動車用部品や医療用機器部品など幅広い分野で 活躍します。 【特長】 ■PVD(物理的真空蒸着)で形成 ■成膜後の磨き工程が一切不要 ■摩擦係数が大幅に減少 ■腐食摩耗・アブレッシブ摩耗・凝着摩耗に対する耐性が向上 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ほとんどの金属・金属酸化物・誘電体膜をコーティングできる薄膜コーティング！
当社では、PVDに属する、抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、 スパッタリング法での成膜加工ができます。 これらの加工技術を使い分けることで、ほとんどの金属、金属酸化物、 誘電体膜をコーティングできます。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング法での 成膜加工が可能 ■ほとんどの金属、金属酸化物、誘電体膜をコーティング可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試作・開発から中小ロット生産まで！部品・素材を多機能に変身させる表面処理
東邦化研株式会社では、電子銃式真空蒸着・高周波励起方式(RF式)イオンプレーティングなどによる薄膜コーティングサービスを受託加工しております。 電子銃式真空蒸着は、膜にする材料を真空中でEBガン(電子銃)で蒸発させ、対象物へコーティングします。 その他、電子銃式真空蒸着の発展型である高周波励起方式(RF式)イオンプレーティングも行っております。様々な蒸発材料が持つ利点はそのままに、密着性の向上・条件の多様性が得られます。 【RF式イオンプレーティングの特長】 ■緻密で経時変化がない ■基板との付着力が強い ■反応性イオンプレーティングが可能 ■成膜材料の汎用性が高い ■成膜条件の多様性 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が分かる小冊子のダウンロード！金型・摺動部品の長寿命化に
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が学べる小冊子『失敗しないコーティング選び』を無料でダウンロード頂けます。 「コーティングとは？」という基本的なところから、コーティング材の紹介、実際のコーティング方法を分かりやすく簡潔にまとまっています。 金型や摺動部品の寿命を延ばしてコスト削減に役立つコーティング方法の選び方が分かるハンドブックです。 冊子でご希望の方は『お問い合わせ』からお願い致します。 【掲載内容】 ■コーティングとは？ ■コーティングにはどんな材料が使われるの？ ■コーティングはどうやって作るの？ ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。 ◉ 省スペース：背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026（26ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ◉ MiniLab-090（90ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種表面処理薄膜コーティング法を掲載！試作から生産案件まで対応
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ また、本資料では各コーティング法の特徴の他、コーティング事例やパターン形成についても掲載しています。 ご興味のある方は資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
